「w angle」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

viewing angle control becomes possible by providing viewing angle characteristics different from that of other RGB to the pixel of W.例文帳に追加

Ｗの画素には他のＲＧＢと異なる視野角特性を持たせることで視野角制御が可能となる。 - 特許庁

A steering control part 60 operates deviation (steered angle deviation) between a target steered angle of steered wheels W and W in accordance with a voltage command value given to a drive circuit 52 of a steering motor 50 and a real steered angle of the steered wheels W and W determined based on a detection signal of a steered position sensor 15.例文帳に追加

舵取り制御部６０は、操舵モータ５０の駆動回路５２に与えている電圧指令値に応じた操向輪Ｗ，Ｗの目標転舵角と転舵位置センサ１５の検出信号から求められる操向輪Ｗ，Ｗの実転舵角との偏差（舵角偏差）を演算する。 - 特許庁

At this time, the outer peripheral part of the wafer W passes through the non-polishing region of the cloth 11, each time the wafer W is rotated at a prescribed angle.例文帳に追加

この際、ウェーハ外周部はウェーハＷが所定角度回動するごとに非研磨領域を通過する。 - 特許庁

Since the article W can be revolved at an optional angle, arrangement of the article W can be easily corrected on the spot.例文帳に追加

また、物品Ｗを任意の角度に旋回できるため、物品Ｗの配置をその場で容易に修正できる。 - 特許庁

Then, precise measurement of the distance and the angle of the work W is performed.例文帳に追加

したがって、ワークＷの距離・角度を正確に測定することが可能となる。 - 特許庁

Outputs from the contact detecting means and measured values from the angle measuring means are input into an angle calculation means to calculate the bent angle of the sheet material W.例文帳に追加

接触検出手段の出力と角度測定手段の測定値は角度算出手段に入力され板材Ｗの曲げ角度が算出される。 - 特許庁

When a part of the case W is dropped in a space 10 between the first roller 4 and the second roller 5 by releasing the contact between the stopper body 11 and the case W, the case W is rotated and the tilt angle of the case W is increased.例文帳に追加

ストッパ体11とケースＷとの当接を解除してケースＷの一部を第１ローラ４および第２ローラ５間の間隙10内に落下させると、ケースＷが回動してケースＷの傾斜角度が増大する。 - 特許庁

To provide an inexpensive angle applying device 11 with a simple constitution, can apply an angle to a web W on a horizontal surface in a carrying passage of the web W.例文帳に追加

ウエブＷの搬送経路中において水平面に対し当該ウエブＷに角度を付与できる簡単な構成を有しかつ低コストの角度付与装置１１を提供する。 - 特許庁

Considering Pt as a tooth pitch, θ as the angle of a tooth trace, and W as a belt width of the helical toothed belt, the angle θ of the tooth trace is set to fall in a range satisfying -0.2≤1-W×tanθ/Pt≤0.75.例文帳に追加

すなわち、歯ピッチＰｔ、歯筋角度θ、ハス歯ベルトのベルト幅Ｗとするとき、歯筋角度θを−０．２≦１−Ｗ・ｔａｎθ／Ｐｔ≦０．７５の範囲に設定する。 - 特許庁

When a distance W is shorter than a distance L from a XY surface and a point P_1 or a point P_2, an angle ϕ_2 is greater if the distance W between the camera view point C and the perpendicular surface of the curbstone is longer, and the angle ϕ_2 is smaller if the distance W is shorter.例文帳に追加

ＸＹ平面と点Ｐ_1又は点Ｐ_2までの距離ＬよりもＷが小さいのならば、カメラ視点Ｃと縁石の垂直面との距離Ｗが大きくなればφ_2は大きく、Ｗが小さくなればφ_2は小さくなる。 - 特許庁

Based on a signal from the angle detector 35, the support frame 32 is controlled to rock by the driving source 34 so that the angle of the web W reaches a predetermined angle.例文帳に追加

そして、角度検出器３５からの信号に基づいて、ウエブＷの角度が所定角度になるように駆動源３４により支持枠３２を揺動制御する。 - 特許庁

A work W is rotated by bringing it in contact with a belt 8 on the outer periphery of the work W by tilting it to the perpendicular direction of the axis of the work W by an angle α.例文帳に追加

ベルト８をワークＷの軸方向に直交する方向に対して角度αだけ傾け、ワークＷの外周に接触させて走行させることによりワークＷを回転させる。 - 特許庁

The bending moment is strongly associated with an inclined angle θ and an inclined direction (inclined direction angle α) of the strain generating element 12, and the load W.例文帳に追加

この曲げモーメントは、起歪体１２の傾斜角度θと傾斜方向（傾斜方向角α）と荷重Ｗとに強く相関する。 - 特許庁

In the steering device provided with an actuator M capable of controlling a wheel steering angle ϕ of the wheels W, W in the vehicle, the wheel steering angle ϕ is controlled based on a wheel steering angle ϕ1 at at least returning of the wheel and a phenomenon that the wheels W, W are returned to a neutral position by self aligning torque is duplicated at returning of the wheel.例文帳に追加

車両における車輪Ｗ，Ｗの車輪操舵角φを制御可能なアクチュエータＭを備えたステアリング装置において、車輪戻り時に、少なくとも車輪戻り時の車輪操舵角φ１に基づいて車輪操舵角φを制御して、セルフアライニングトルクにより車輪Ｗ，Ｗが中立位置に戻される現象を再現するようにした。 - 特許庁

That is, the slit plate 22 demarcates a region to be deposited on the substrate W, the incident angle of the deposition substance with respect to the demarcated region to be deposited is controlled by a rotation angle of the substrate W, thereby, the incident angle of the deposition substance within the surface of the substrate W is made homogeneous and the deposition angle is uniformized.例文帳に追加

すなわち、スリット板２２が基板Ｗ上の被蒸着領域を画定し、この画定された被蒸着領域に対する蒸着物質の入射角を基板Ｗの回転角度で制御することによって、基板Ｗ面内において蒸着物質の入射角の一様化を図り、蒸着角度の均一化を図る。 - 特許庁

A release angle sensor 17 is provided on the long arm 6 and a diameter of the work W gripped is calculated from the release angle obtained thereby.例文帳に追加

ロングアーム６には開放角度センサ１７が備えられ、これにより得られた開放角度から把持されているワークＷの径が算出される。 - 特許庁

A crossing angle when both of a rotary axial line of a grinding wheel 3 and a rotary axial line of a cylindrical body W are viewed from plane direction is a non-right angle.例文帳に追加

砥石３の回転軸線と円筒体Ｗの回転軸線の両方を平面方向より見たときの交差角を非直角にする。 - 特許庁

A cross angle (a cutting angle) θ between a web cutting line 22 and a web side edge Wa in cutting of the web W is set in a range of 45-80°.例文帳に追加

ウェブＷの切断時におけるウェブ側縁Ｗａとウェブ切断線２２との交差角度（切断角度）θを４５°〜８０°の範囲にする。 - 特許庁

The mark of the substrate W rotated by the rotating means 8 is detected by a detecting means 9 so that the angle of rotation of the substrate W can be detected.例文帳に追加

回転手段８により回転する基板Ｗのマークは、検知手段９によって検知されて基板Ｗの回転角度が検出される。 - 特許庁

Each mark 28 has a dimension W in a direction along the first straight line L_1 and an angle P indicating one point between both ends of the dimension W.例文帳に追加

それぞれのマーク２８は、第１の直線Ｌ_１に沿った方向の寸法Ｗと、寸法Ｗの両端間の一点を示す角Ｐと、を有する。 - 特許庁

The relative angle of the substrate W at the robot hand 11 remains proper as it is, and afterwards, the substrate W is brought in at a proper angular position to a process device in which the substrate W should be brought.例文帳に追加

ロボットハンド１１における基板Ｗの相対的な角度は適正なままにされ、その後に基板Ｗを搬入すべきプロセス装置に対して適正な角度位置で基板Ｗが搬入される。 - 特許庁

When the inclination of the probe 11 to the weld line W is changed, the phase angle of the detection signal changes.例文帳に追加

溶接線Ｗに対するプローブ１１の傾きを変えると、検出信号の位相角が変化する。 - 特許庁

The optical axis A1 of a light projection part 2 has an angle α1 to the normal V of a measured object W.例文帳に追加

投光部２の光軸Ａ１は、測定対象Ｗの法線Ｖに対し角度α１を有する。 - 特許庁

Since a wafer W is stored in a cassette C by rotating the wafer W from a direction in which cutting grooves or a modified layer is formed by a prescribed angle, the wafer W can be securely stored without generating a warp on the wafer W.例文帳に追加

ウェーハＷを、切削溝、または改質層の形成されている方向より所定の角度回転させてカセットＣへ収納することにより、ウェーハＷに撓みを生じさせず、安全にウェーハＷを収納することが可能となる。 - 特許庁

By relating the rotation angle of the substrate W and the position of the slit plate 22 with each other, the deposition angle can be efficiently uniformized.例文帳に追加

基板Ｗの回転角度とスリット板２２の位置とを互いに関連させることによって、蒸着角度の均一化を効率よく行うことができる。 - 特許庁

The control part 20 estimates the plate thickness of the workpiece W on the basis of the bending angle detected by the angle sensors 15a, 15b and the moving amount of the punch 13.例文帳に追加

制御部２０は、角度センサ１５ａ，１５ｂにおいて検知された曲げ角度とパンチ１３の移動量とに基づいてワークＷの板厚を推定する。 - 特許庁

In this opportunity, the independent portion 11b is inclined to the main portion 11a, and the minus angle forming portion 15 is unfixed from the minus angle portion formed at the end portion We of the workpiece W.例文帳に追加

その際に、独立部分11ｂを本体部分11ａへと傾倒させ、ワークＷの端部Ｗｅに成形された負角部から、負角成形部分15を外す。 - 特許庁

At this time, when the change quantity Δh is equal to or less than a specified value, the hue angle variation range is set from Ht-ΔH to Ht+ΔH, and when larger, the hue angle variation range is expanded from Ht-W to Ht+W.例文帳に追加

このとき、変更量Δｈが所定値以下であれば色相角変更範囲をＨt−ΔＨからＨt＋ΔＨに設定し、所定値よりも大きければＨt−ＷからＨt＋Ｗに拡張する。 - 特許庁

After that straightening, an actual straightening angle β1 is determined from the difference (α1-α0) between the forcing angle α1 when a measuring load (w) within the region of elastic deformation is loaded on the bend part of the work and the forcing angle α0 by the same measuring load (w) before straightening the work.例文帳に追加

その矯正後にワーク曲がり部に弾性変形領域内の測定荷重ｗを負荷したときの押し込み角α_1 と、ワーク矯正前の同一測定荷重ｗによる押し込み角α_0 との差（α_1 −α_0 ）から実際の矯正角β_1 を求める。 - 特許庁

The device is provided with a tilt-holding chuck 1, which holds a wafer W while the wafer W is tilted from the horizontal plane at a prescribed angle, and a treatment liquid storage tank 2 which can house the wafer W held by the chuck 1.例文帳に追加

ウエハＷを水平に対して所定角度で傾斜した状態に保持する傾斜保持チャック１と、傾斜保持チャック１に保持されたウエハＷを収容可能な処理液貯留槽２とが備えられている。 - 特許庁

The load sharing between the bridle rollers A, B is calculated from the tension of the web W before and after the bridle section, the coefficient of friction of the web W and the bridle rollers A, B, and a lap angle θ between the web W and the bridle rollers A, B.例文帳に追加

ここで、ブライドルローラＡ、Ｂの負荷分担は、ブライドルセクション前後のウェブＷの張力、ウェブＷとブライドルローラＡ、Ｂとの摩擦係数、及びウェブＷとブライドルローラＡ、Ｂとのラップ角θから算出する。 - 特許庁

A nozzle tip 14 of the washer nozzle is made to a constitution of "fluidics type nozzle" and a diffusion angle β of a diffusion flow is set to a larger angle than a predetermined angle W of a pair of injection side wall.例文帳に追加

ウォッシャノズルのノズルチップ１４は、「フルイディクス式ノズル」の構成とされており、拡散流の拡散角度βは、一対の噴射側壁の所定の角度Ｗよりも大きな角度に設定されている。 - 特許庁

Chamfering is performed by calculating a relative position at each rotating angle of a grinding tool and the wafer W based on thickness and thickness direction position at each rotating angle at an end part of the wafer W, while adjusting a position with the grinding tool and the wafer W based on the relative position at a machining point.例文帳に追加

ウェーハＷ端部の各回転角度における厚さと厚み方向位置に基づき砥石とウェーハＷの各回転角度における相対的位置を算出し、加工点における相対的位置に基づき砥石とウェーハＷとの位置を調整しながら面取り加工を行う。 - 特許庁

The vapor deposition sources 10 are tilted and moved at an angle θ toward the center of the base board W by an angle change means 23 to prevent the thickness of the center of the base board W from being thinned and to improve the utilization efficiency of the material at ends of the base board W.例文帳に追加

基板Ｗの中央部の膜厚が薄くなるのを防ぎ、かつ、基板Ｗの端部における材料の利用効率を向上させるために、角度変更手段２３によって、基板Ｗの中央に向かって角度θだけ各蒸着源１０を傾けて移動させる。 - 特許庁

The inclination angle θ is set according to the size and rigidity of a paper sheet P and a sub-scanning width W.例文帳に追加

この傾斜角θは、紙葉類Ｐの大きさ・剛性及び副走査の幅Ｗによって設定される。 - 特許庁

A workpiece W is not hidden with the upper die 30 and the bending angle is measured in the vicinities of the bending positions.例文帳に追加

ワークＷが上型３０に隠れることがなく曲げ位置近傍で曲げ角度を測定することができる。 - 特許庁

The position of the reamer 21 to the working surface W is fixed and the advance angle of the reamer 21 is kept vertical.例文帳に追加

作業面Ｗに対するリーマ２１の位置が固定され、リーマ２１の進入角度が垂直に維持される。 - 特許庁

The non-parallel surface 30b is inclined so that the incident harmful light W may be made incident on the surface 30b with a small angle.例文帳に追加

非平行面３０ｂは、入射した有害光Ｗが小さい角度で入射するように傾斜している。 - 特許庁

An angle made by two of the fixing plate members 31, 31 is changeable in accordance with a shape of an installed part W.例文帳に追加

２つの取付板部材３１，３１のなす角度が、被取付部Ｗの形状に応じて変更可能である。 - 特許庁

When the work W is fed in the rotational direction of a grinding wheel 11 via a carrier 13 and ground, the grinding of the work W is completed at the center height angle δ>0°.例文帳に追加

キャリヤ１３を介してワークＷを砥石車１１の回転方向に送り込んで研削するに際し、心高角δ＞０°においてワークＷの研削を終了する。 - 特許庁

According to this, the surface angle of the glass plate 1 is changed to adjust the projecting position on the substrate W of laser beam transmitted by the glass plate 1 and projected onto the substrate W.例文帳に追加

これにより、ガラス板１の表面角度が変動し、ガラス板１を透過して基板Ｗ上に照射するレーザビームの基板Ｗ上の照射位置の調整を行う。 - 特許庁

In this case, the blades W in the region R are so set as to tilt downward in the right and the blades W in the region T are so set as to tilt upward in the right while being kept at the angle θa to the line Q.例文帳に追加

ここで、領域Ｒの羽根Ｗは右下がりに、領域Ｔの羽根Ｗは右上がりに、線Ｑに対して角度θaを有して形成されている。 - 特許庁

Sections among the roof material 3 and each of a pair of wall surfaces (w), w' constituting the house exterior-wall reentrant angle section (p) in the mutually crossed direction are filled with a sealing material 9.例文帳に追加

また、該屋根材３と、互いに交叉方向にして建屋外壁入隅部ｐを構成する一対の壁面ｗ，ｗ´それぞれとの間にシール材９を充填する。 - 特許庁

After pure water is supplied onto the substrate W to form a clump 45 of pure water, the substrate tilting mechanism 25 tilts the substrate W only by the fine angle θ.例文帳に追加

基板Ｗ上に純水を供給して純水液塊４５を形成した後、基板傾斜機構２５で、基板Ｗを微小角度θだけ傾斜させる。 - 特許庁

This substrate processing device is equipped with a substrate tilting mechanism 25 which tilts a substrate W on a spin chuck 1 for holding the substrate W and rotating only by an angle θ.例文帳に追加

この基板処理装置は、基板Ｗを保持して回転するスピンチャック１上の基板Ｗを角度θだけ傾斜させる基板傾斜機構２５とを備えている。 - 特許庁