「wet processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

After this, the resist is removed by dry ashing using a plasma or wet processing, using a resist-peeling liquid.例文帳に追加

その後、プラズマを用いたドライアッシングまたはレジスト剥離液を用いたウエット処理により、前記レジストを除去する。 - 特許庁

CRYSTAL PROCESSING METHOD, CRYSTAL PLATE OBTAINED BY THE METHOD, AND ETCHING COMPOSITE FOR WET ETCHING OF CRYSTAL例文帳に追加

水晶加工方法、該加工方法により得られた水晶板、及び水晶のウエットエッチング用エッチング組成物 - 特許庁

Normalization processing is performed from both of these pieces of data (processing part 13), and by comparing the normalized value with a predetermined threshold, the dry/wet state of the road surface is determined.例文帳に追加

この両データから正規化処理して（処理部１３）、正規化値を所定のしきい値と比較することにより、路面の乾湿状態が判定される。 - 特許庁

To provide a plug processing method for a resin mold for processing the surface of a plug by wet etching to form a large number of sharp recessed embossed bottomes.例文帳に追加

ウェットエッチングにより詰め栓の表面に底がシャープな凹形状の多数個のエンボスを加工可能とした樹脂成形型用詰め栓加工方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, while supplying the dry nitrogen gas to the processing space 162, since a gas discharge of the processing space 162 is suppressed rather than a gas discharge at the time of a wet processing, a humidity of the processing space 162 can be promptly reduced.例文帳に追加

また、処理空間１６２への乾燥窒素ガスの供給とともに処理空間１６２の排気を湿式処理時の排気よりも抑えているので、処理空間１６２の湿度を迅速に低下させることができる。 - 特許庁

To provide a modified diene-based rubber composition, excellent in processing property, and also especially excellent in rolling friction resistant characteristic, wet skid performance, wet on ice performance (performance on snow and ice) and abrasion resistance.例文帳に追加

加工性に優れ、しかも転がり摩擦抵抗特性、ウェットスキッド性能やウェットオンアイス性能（雪氷上性能）、耐摩耗性にとくに優れた変性ジエン系ゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device that reduces the amount of side etching of wet etching processing while maintaining cleanness of a chemical, and a wet etching device.例文帳に追加

本発明は、薬液の清浄度を保ちつつ、ウエットエッチング処理のサイドエッチング量を低減させる半導体装置の製造方法及びウエットエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Such a wet processing apparatus 10 can reduce the wet processing liquid 8 from being adhered to the chuck facing surface 22 opposed to the chuck 1 by uniformly jetting the gas 24 jetted from the jetting port 16 from a space sandwiched between the outer peripheries 14, 15 of the objects 7 to be wet-processed and the chuck 1.例文帳に追加

このようなウェット処理装置１０は、噴出口１６から噴出した気体２４がウェット処理対象７の外周１４、１５とチャック１とに挟まれた隙間からに均一に噴出されることにより、チャック１に対向するチャック対向面２２にウェット処理液８が付着することを低減することができる。 - 特許庁

To achieve a dry system for preventing the floor of a kitchen and a marine products processing factory from becoming wet, and at the same time, to reduce the consumption of water used.例文帳に追加

厨房や水産加工場の床を濡らさないドライシステム化を達成すると共に、使用水量を低減する。 - 特許庁

To highly accurately determine the dry/wet state of a road surface at low cost by arithmetically processing an image of a road surface.例文帳に追加

路面画像を演算処理することによって、路面の乾湿状態を低コストで精度よく判定できるようにする。 - 特許庁

The nonwoven cloth is manufactured through the wet type process and undergoes a water flow confounding processing, which ensures establishment of still more excellent characteristics.例文帳に追加

また、不織布が湿式法で製造され、水流交絡処理を施されていることで、より優れた特性を発現する。 - 特許庁

To provide a wafer having excellent surface properties by effectively suppressing the uneven reactivity that is problematic in surface processing by conventional diffusion controlling processes such as wet processing, in a wafer surface processing method involving chemical processing.例文帳に追加

化学処理を伴うウェーハ表面処理方法において、従来のウェット処理等、拡散律速型処理による表面処理で問題視されていた反応ムラを効果的に抑制し、表面性状に優れたウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide a technique capable of processing the surface of a substrate with high uniformity with a processing solution and saving the floor space of a wet processing device for processing the surface of the substrate as prescribed while the processing solution is applied on it.例文帳に追加

基板表面に対して処理液を供給して所定の処理を行う液処理装置において、処理液を用いて基板の表面に対して均一性の高い処理を行うことができ、更に装置の省スペース化を図ることができる技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid while disposing a blocking member opposite the substrate surface, the substrate processing device and the substrate processing method excellently drying the substrate surface.例文帳に追加

遮断部材を基板表面に対向して配置しながら処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面を良好に乾燥させる。 - 特許庁

The slurryed cement fly ash is sent under pressure by a slurry pump 12 to a storage tank 13 from the tank 11, the slurry concn. is uniformized therein, and then the slurry is sent to a wet processing device 14 and wet- processing to recover the heavy metals.例文帳に追加

スラリー化されたセメント飛灰はスラリーポンプ１２によってスラリー化タンク１１から貯蔵タンク１３へと圧送され、ここでスラリー濃度が均一化された後、湿式処理装置１４へ送られ、重金属回収のために湿式処理される。 - 特許庁

In the structure 10 of manufacturing milled rice with embryo, a mechanism 12 for polishing and milling rice performs a process for polishing and milling rice, a mechanism 16 for polishing rice performs a process for polishing rice, and a wet-type mechanism 20 for wash-free processing performs wet-type wash-free processing, so as to manufacture milled rice with embryo.例文帳に追加

胚芽精米製造構造１０では、研削精米機構１２が研削精米処理を行い、研米機構１６が研米処理を行い、湿式無洗化処理機構２０が湿式無洗化処理を行って、胚芽精米を製造する。 - 特許庁

To prevent the generation of contamination in processing solution during a wet processing and to prevent the occurrence of loss in ultrasonic wave vibration being added to an ultrasonic wave propagation section from an ultrasonic wave vibrator.例文帳に追加

ウエット処理において、処理液における汚染発生の防止と、超音波振動子から超音波伝播部に付与した超音波振動のロス防止を図る。 - 特許庁

In addition, as the intersection point of the moist-heat adhesive fibers is strong, processing such as slit processing, which makes effective use of wet area per humidification element volume, can be easily performed.例文帳に追加

また、湿熱接着性繊維同士の交点が強固であるため、加湿エレメント体積当りの湿潤面積を有効利用するスリット加工などの加工が容易である。 - 特許庁

To provide a wet etching processing method characterized by the effective processing of any impurities generated by the etching reaction, and an etching system implementing such a method.例文帳に追加

エッチング反応によって生じた不純物を効果的に処理することを特徴とする湿式エッチング処理方法、及びそれを実施するエッチングシステムを提供すること - 特許庁

To obtain a wet processing method and a device capable of uniformly and surely processing the surface of a work in a short time and reducing defects in process.例文帳に追加

短時間で均一に、かつ確実に表面処理ができ、後工程等における製品不良の発生を削減できる被処理物のウエット処理方法及びその装置を得ること。 - 特許庁

To provide a wet processing apparatus inexpensively manufacturable, reducing environmental load, reducing electric damage of a treating object, and improving processing capacity.例文帳に追加

安価に製造することができ、また環境負荷を低減し、被処理物の電気的ダメージを低減し、処理能力向上を実現するウェット処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing a substrate capable of preferably drying the substrate surface at low cost when drying a substrate surface wet with a processing liquid.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面を乾燥させる際に低コストで基板表面を良好に乾燥させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a polysilazane film, which can reduce a change in processing rate of wet processing in a short time even after heat treatment is conducted at a low temperature.例文帳に追加

低温での熱処理を行ってもその後短期間でウエット処理の処理レートの変動を小さくすることができるポリシラザン膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

The thick conductor layer 2 has its surface flattened by wet blast processing to a surface roughness Ra of at most 0.02 μm.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

The wet process gas and a nitriding gas form a processing ambient gas which reacts with the substrate such that an oxynitride film grows on the substrate.例文帳に追加

湿式処理ガス及び窒化ガスは、基板上に酸窒化膜が成長するように、基板と反応する処理雰囲気を形成する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a semiconductor device by etching an insulating film consisting of zirconia and Hafnia by wet processing.例文帳に追加

ジルコニアやハフニアからなる絶縁膜を、ウェット処理でエッチングすることにより半導体装置を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid, the substrate processing device and the substrate processing method preventing trouble such as the occurrence of a watermark on the substrate and destruction of a pattern on the substrate surface.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生したり、基板表面上のパターンが倒壊するなどの不具合を防止する。 - 特許庁

A wet mat is formed by subjecting a slurry including wood fiber as a principal raw material to papermaking processing, and a surface of the wet mat is coated with and impregnated with a gel-like binder resin, so as to form a reinforced layer in the vicinity of the surface thereof, and thereafter, both the wet mat and the reinforced layer are dried and solidified.例文帳に追加

木質繊維を主原料としたスラリーを抄造して湿潤マットを形成し、その湿潤マットの表面にゲル状バインダー樹脂を塗布し含浸させて表面付近に強化層を形成した後、その湿潤マットを強化層と共に乾燥固化させる。 - 特許庁

The fuel cell system is provided with a wetting processing means for humidifying a reaction gas supplied to a fuel cell and put it into a wet state, and a drying processing means for putting the reaction gas supplied to the fuel cell into a dry state of lower humidity than the wet state.例文帳に追加

この燃料電池システムは、燃料電池に供給する反応ガスを、加湿して湿潤状態とする湿潤処理手段と、燃料電池に供給する反応ガスを、湿潤状態よりも湿度の低い乾燥状態とする乾燥処理手段と有する。 - 特許庁

To provide a wet processing method and a wet processing device that simplify a configuration and reduce processing costs when the pattern of a circuit etc., is formed on the substrate of silicon etc., and prevent dirt of photoresist, a metal film, etc., peeled from the silicon substrate from re-sticking on the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン等の基板上に回路等のパターンを生成する場合において、構成の簡略化及び処理コストの低減化を実現し、シリコン基板から剥離したフォトレジスト及び金属膜などの汚れがシリコン基板上に再付着するのを防止し得るウエット処理方法及びウエット処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method capable of accurately processing a processing object layer even when the processing object layer is formed by containing a material unsuitable for a wet process or a material having a large amount of etching shift.例文帳に追加

被加工層がウエットプロセスに適さない材料、またはエッチングシフト量の多い材料を含んで構成されている場合であっても、高精度に被加工層を加工することを可能とするパターニング方法を提供する。 - 特許庁

This channel-constituting part and the reflection-preventing structure are formed by one process using a wet etching method by simultaneous processing of both surfaces.例文帳に追加

この流路構成部および反射防止構造は、ウエットエッチング法を用いた一つの工程で両面の同時加工により形成される。 - 特許庁

To provide a new wet type blast injection nozzle capable of bringing uniform processing effect by uniformly dispersing abrasive material in slurry.例文帳に追加

研磨材がスラリー中に均一に分散し、均一な加工効果を得ることができる新規な湿式ブラスト用噴射ノズルを提供する。 - 特許庁

A tungsten residue 17 which occurs in a peripheral region is removed by wet etching as a second etching processing (refer to Fig. (d)).例文帳に追加

第２のエッチング処理として、ウェットエッチングにより周辺領域に発生したタングステン残渣１７の除去を行う（図１（ｄ）参照）。 - 特許庁

In manufacturing the silver paste, the silver powder and the organic solvent are put under distributed processing with the use of a wet type dispersing machine to obtain the silver paste.例文帳に追加

また、銀ペーストの製造にあたって、銀粉と有機剤とを湿式分散機を用いて分散処理して銀ペーストを得るのである。 - 特許庁

To provide a rubber composition for a pneumatic tire capable of improving wet performance and snow performance without impairing workability of rubber processing.例文帳に追加

ゴム加工の作業性を損なうことなく、ウェット性能とスノー性能を向上させる空気入りタイヤ用ゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a rotary screen device which can reliably classify a processing target object having an adhesive property such as wet ash and is excellent in maintainability.例文帳に追加

湿灰等の付着性のある処理対象物の分級を確実に行え、メンテナンス性に優れた回転式スクリーン装置を得る。 - 特許庁

To improve grip performance and stability in vehicle steering on a dry road surface and a wet road surface without impairing work efficiency in rubber processing.例文帳に追加

ゴム加工の作業性を損なうことなく、乾燥路面及び湿潤路面でのグリップ性能及び操縦安定性を改良する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor light emitting element, capable of easily peeling a growth substrate by wet etching processing.例文帳に追加

成長用基板の剥離をウェットエッチング処理によって容易に行うことができる半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a rubber composition improving worsening of processing by shrinkage accompanied by formulation with silica and excellent in on-ice and wet performances.例文帳に追加

シリカ配合に伴うシュリンクによる加工性の悪化を改善し、かつ氷上およびウェット性能に優れたゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for wet etching which eliminates an etching variation by low-cost processing and thereby can achieve a uniform etching for a region to be etched.例文帳に追加

安価な処理でエッチングむらを無くし、被エッチング領域に対する均一なエッチングを達成するウェットエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In the treatment method of an amorphous carbon film which is formed on a substrate and has been treated with wet washing after dry etching, the surface of the amorphous carbon film is treated with reforming processing before forming an upper layer thereon after the wet washing.例文帳に追加

基板上に成膜され、ドライエッチング後にウエット洗浄処理が施されたアモルファスカーボン膜の処理方法であって、ウエット洗浄処理後、上層の形成前に、アモルファスカーボン膜の表面改質処理を行う。 - 特許庁

In a state of supporting the substrate by the supporting part, the photoresist on the top surface of the substrate is primarily removed by the dry type processing part 20, and is secondarily removed by the wet type processing part 30.例文帳に追加

基板は、支持部によって支持された状態で、基板上部のフォトレジストは、乾式処理部２０によって１次的に除去され、湿式処理部３０によって２次的に除去される。 - 特許庁

Thereafter, an HPM rinse processing is carried out as a second wet rinsing processing and a silicon nitride film is formed by a low pressure CVD method in a way of covering the gate electrode on the semiconductor substrate.例文帳に追加

その後、第２のウェット洗浄処理としてＨＰＭ洗浄処理を行ってから、半導体基板上にゲート電極を覆うように窒化シリコン膜を低圧ＣＶＤ法により形成する。 - 特許庁

To provide a wet heat-generating processing method for cellulosic fibers, which provides the cellulosic fibers with excellent wet heat-generating performances and washing durability, causes no problems such as hardening of a feeling, change of color and fading in processing, reduction in tenacity, etc., and has excellent productivity and safety.例文帳に追加

優れた湿潤発熱性能および洗濯耐久性をセルロース系繊維に付与でき、風合いの硬化、加工時の変退色、および強力の低下等の問題を起こさない、生産性および安全性にも優れたセルロース系繊維の湿潤発熱加工方法を提供すること。 - 特許庁