「wet processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

An incense 31 is formed by kneading prescribed amounts of incense materials 11a-11e each having a different color and fragrance in wet state, processing them into a cone shape and drying them.例文帳に追加

薫香３１は、色彩及び香りが異なる薫香用材料１１ａ〜薫香用材料１１ｅの各々を所定量湿潤状態において練り合わせて円錐形状に加工し、これを乾燥させることによって形成される。 - 特許庁

Before forming the contour of the crystal element 1 by processing a crystal wafer 3 by wet etching, an area in which etching residue of the crystal wafer 3 is easily produced is previously irradiated with a laser 14 to be mechanically processed or weakened.例文帳に追加

水晶ウエハ３をウェットエッチングにより加工して水晶片１の外形を形成する前に、予め水晶ウエハ３のエッチング残渣が発生し易い領域にレーザー１４を照射して機械的に加工又は脆弱化しておく。 - 特許庁

To provide a polishing monofilament having not only excellent acid-resistant property but also excellent wet-heat resistant property and particularly preferably used in acid liquid washing and polishing processing under high temperature and high humidity of a stainless steel plate.例文帳に追加

耐酸性に優れるばかりか、耐湿熱性にも優れた特性を有し、特にステンレス鋼板などの高温、高湿下における酸液洗浄研磨加工において好ましく使用することができる研磨用モノフィラメントの提供。 - 特許庁

A drying processing is conducted after either the wet- blending or kneading is completed, and a lump provided after completion of both kneading and drying is crushed to provide a material 12, which is used to manufacture a mold sheet 14.例文帳に追加

この湿式混合若しくは混練のいずれか一方の終了後に乾燥処理を行い、混練と乾燥処理の両方が終了した後に得られる塊状体を粉砕したものを用いて、シート成形体を製造する。 - 特許庁

To provide waste treatment equipment which enables a precise sensing of a wet condition or the like in a substrate containing the waste, and the accurate degradation of the waste without requiring the installation of a moisture content measuring means in a processing bath.例文帳に追加

含水率測定手段を処理槽内に設置する必要がなく、廃棄物を含む基材の含水状態等を精度良く検出し、廃棄物の分解処理を的確に行うことが可能となる廃棄物処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wet medium stirring, crushing and dispersing machine achieving a high crushing and dispersing effect and a high processing efficiency even in a low tip speed of a stirring member at which a material to be processed is not damaged, without particularly increasing the cost.例文帳に追加

被処理物を損壊しない低周速運転においても優れた粉砕・分散効果と高い処理効率を奏すると共に特段のコストの上昇を伴わない湿式媒体撹拌粉砕分散機を提供すること。 - 特許庁

To provide a wet waste gas processing apparatus by which the quantity of mist of an absorption liquid contained in a waste gas after cleaning and discharged from an absorption tower is decreased as small as possible even if the flow velocity of the waste gas in the absorption tower is increased.例文帳に追加

吸収塔内の排ガスの塔内速度が高速化されても、洗浄後の排ガスに含まれて吸収塔から排出される吸収液のミストの量を可及的少なくし得る湿式排ガス処理に関する発明。 - 特許庁

In addition, since the ridge structure is self-assembled and self-aligned, a lesser number of processing steps are required to create the optical device in comparison to the known approach that uses wet chemical etching techniques to form the ridge structure.例文帳に追加

更に、このリッジ構造は自己集合・自己整合型であるので、リッジ構造を形成するために湿式化学エッチング技法を使用する公知のアプローチと比較して光デバイスを作り出すために必要とされる処理ステップの数は少ない。 - 特許庁

The wet heat-generating processing method for the cellulosic fibers comprises a process for attaching a polycarboxylic acid and/or its partial salt to the cellulosic fibers, curing the fibers with the polycarboxylic acid and treating the fibers with an aqueous solution of an organic acid or inorganic acid.例文帳に追加

セルロース系繊維にポリカルボン酸および／またはその部分塩を付着キュアリング処理した後に、有機酸または無機酸の水溶液で処理する工程を含むことを特徴とするセルロース系繊維の湿潤発熱加工方法。 - 特許庁

A method for manufacturing a fiber product comprises a step of subjecting a fiber fabric (excluding a nonwoven fabric) including a thermoplastic fiber having been subjected to a heat pre-treatment or a fiber product obtained by sewing the fiber fabric to wrinkling heat processing for providing wrinkles and/or embossment through a wet heat treatment simultaneously with dyeing processing.例文帳に追加

前熱処理が施された熱可塑性繊維を含む繊維布帛（ただし不織布を除く）または当該繊維布帛を縫製した縫製品である繊維製品に、湿熱処理によりシワおよび／またはシボを付与するシワ付け熱処理と、染色加工とを同時に施すことを特徴とする繊維製品の製造方法。 - 特許庁

The toner manufacturing method comprises a processing step of forming toner particles in liquid medium, filtering out the toner particles and obtaining a wet cake, then, bringing the wet cake in contact with at least either of supercritical fluid and subcritical fluid, the toner is manufactured by the aforesaid method, the developer contains the toner, the container is prepared for storing the toner, the toner is used for the image forming method and the process cartridge.例文帳に追加

液体媒体中でトナー粒子を形成し、該トナー粒子を濾取してウエットケーキを得、該ウエットケーキを超臨界流体および亜臨界流体の少なくともいずれかと接触させる処理工程を有することを特徴とするトナーの製造方法、該方法により製造されたトナー、該トナーを備えた現像剤、トナー入り容器、画像形成方法およびプロセスカートリッジ。 - 特許庁

To satisfactorily dry a substrate without generating any watermark on a substrate surface in a substrate processor and a substrate processing method for drying a substrate surface which has gotten wet with treatment liquid by using low surface tension solvent such as IPA liquid.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡ液などの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマーク等を発生させることなく、基板を良好に乾燥させる。 - 特許庁

According to the present invention, since second optical axis misalignment which can be offset against the first optical axis misalignment is formed on the wet film 18 by the extension processing in a third zone 123, the film 22 with suppressed dispersion of the delay axis is manufactured.例文帳に追加

本発明では、第３ゾーン１２３での延伸処理により、第１の光軸ずれと相殺しうる第２の光軸ずれを湿潤フイルム１８上に形成するため、遅相軸のばらつきを抑えたフイルム２２を製造することができる。 - 特許庁

To provide wet stripping/cleaning method and equipment in which damage on an underlying film, e.g. a metal thin film or a semiconductor thin film, formed on a substrate is reduced even if the concentration of oxidation species and reduction species is increased in order to increase the processing speed.例文帳に追加

処理速度の増加を目的として、酸化種および還元種の濃度を増加させても、基板上に形成された金属薄膜または半導体薄膜などの下地膜のダメージが少ないウェット剥離洗浄方法および装置を提供する。 - 特許庁

To realize a uniform, stabilized cleaning treatment in a wet cleaning technique for a substrate using an aqueous cleaning liquid of hydrofluoric acid as an effective component by suppressing the increase of hydrogen fluoride(HF) concentration in the cleaning liquid which occurs with processing of cleaning time.例文帳に追加

有効成分としてフッ化水素酸を水に溶解した洗浄液を使用する基板の湿式洗浄技術において、洗浄時間経過に伴う上記洗浄液のＨＦ濃度上昇を抑えて洗浄処理を均一・安定化する。 - 特許庁

To provide a method of removing processing damage of an Si wafer by achieving wet etching by a mixed acid that brings the Si wafer into a surface condition at a level without roughening it at an etching rate of 10-60 μm/min and at uniformity of ±5% with respect to an etching amount.例文帳に追加

１０〜６０μm／分の範囲のエッチングレートで、エッチング量に対し±５％レベルのユニフォーミティ、荒らさない程度の表面状態となる混酸によるウェットエッチングを実現することでＳｉウェーハの加工ダメージ除去方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a rubber composition excellent in workability in rubber processing and providing a pneumatic tire keeping abrasion resistance and having good wet grip performance and the pneumatic tire obtained by using the rubber composition as a tread and having above performances.例文帳に追加

ゴム加工時の作業性に優れると共に、耐摩耗性を維持し、ウェットグリップ性能の良好な空気入りタイヤを与えることができるゴム組成物、並びにこのゴム組成物をトレッドに用いてなる前記の性能を有する空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive, resource-saving cleaning method that shortens a time needed for peeling processing etc., of, for example, a resist in cleaning of an electronic material and further securely removes resist residues in a short time by wet cleaning after the resist peeling.例文帳に追加

電子材料の洗浄における例えばレジストの剥離処理等に要する時間を短縮し、さらにレジスト剥離後のウエット洗浄によりレジスト残渣を短時間に確実に除去し得る低コストで省資源化の可能な洗浄方法を提供する。 - 特許庁

Here, the slice etching processing is to etch the first film (211) more gently, in other words, more mildly than normal wet etching and dry etching by bringing an etchant into contact with the first film (211) from on the first film (211).例文帳に追加

尚、スライスエッチング処理とは、第１膜（２１１）上から第１膜（２１１）にエッチング液を接触させることによって、通常のウェットエッチング法及びドライエッチング法に比べて、緩やかに、言い換えれば、マイルドに第１膜（２１１）をエッチング処理することをいう。 - 特許庁

To provide an effective process for large-scale treatment of daily wastes, especially wet refuse, excreta or bedding materials discarded from households, food processing plants or livestock farms, or waste material chips derived from building structures, sawdust, old wood, etc.例文帳に追加

生活廃棄物の内、特に一般家庭や食品加工工場、畜産飼育場からの廃棄物である生ゴミ、糞尿または敷床、或いは建築構造物や鋸屑、古材等の廃材チップの有効的な大量処理を目的とするものである。 - 特許庁

In a method for manufacturing the steel wire for reinforcement of a rubber article where final wire drawing is applied to a high carbon steel wire after plating processing, the final wire drawing includes dry wire drawing composed of a plurality of stages at a front stage, and wet wire drawing is carried out after the dry wire drawing.例文帳に追加

めっき処理後の高炭素鋼線に最終伸線を行うゴム物品補強用鋼線の製造方法において、この最終伸線は、前段に複数段よりなる乾式伸線を含み、この乾式伸線後に湿式伸線を行う。 - 特許庁

To provide an agricultural machine locking device capable of easily carrying out installation work of a locking device without being required for any troublesome adjustment work of a mounting position while ensuring applicability in the environment accompanied by dust and a wet particle of a grain processing machine or the like.例文帳に追加

穀粒処理機械等の塵埃や濡粒を伴う環境における適用性を確保しつつ、取付け位置の煩わしい調節作業を要することなくロック装置を簡易に設置施工することができる農業機械用ロック装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a lubricant composition capable of simultaneously and sufficiently improving wire drawing processability in wet wire-drawing processing of plated steel wire and adhesiveness of an obtained drawn wire to rubber.例文帳に追加

メッキ鋼線材の湿式伸線加工における伸線加工性の向上と、得られる伸線材のゴムに対する接着性との向上とを、同時に且つ充分に図ることができる潤滑剤組成物及び湿式伸線加工方法を提供する。 - 特許庁

Since many glass substrates 3 are clamped in a state that the liquid-absorbent sheets in a wet condition are respectively interposed between the glass substrates, the adhesive strength between the glass substrates is high, thereby allowing the glass substrates to be prevented from getting out of alignment when processed, and processing accuracy to be improved.例文帳に追加

湿潤状態の液体吸収性シートを挟んだ状態で多数枚のガラス基板３がクランプされるので、ガラス基板間の密着力が高く、加工時におけるガラス基板のずれを防止でき、加工精度を高めることができる。 - 特許庁

To provide a print fabric capable of being printed by various printers for household without impairing touch and feeling of fabric, not requiring additive treatment processing (print post processing) such as proceeding wet heat treatment and washing treatment and excellent in endurance, an adhesive material for the print fabric, a laminate of the print fabric, and to provide a method for feeding those and to provide the fabric.例文帳に追加

布帛の手触り感や風合いを損なうことなく、例えば家庭用の各種プリンターでも印刷でき、その後の湿熱処理や洗浄処理などの付加的処理加工（プリント後加工）を行う必要もなく、耐久性に優れたプリント布帛、プリント布帛粘着材料、プリント布帛積層体、及びそれらの供給方法、及び布帛を提供する。 - 特許庁

To provide polyester staple fibers usable as a binder fiber in production of a nonwoven fabric with a dry and a wet system, imparting a high adhesion effect even in thermal adhesion at a lower temperature and improving processing speed, and preferably usable as a nonwoven fabric used in a specific field such as a filter cloth in water processing or in osmosis membrane, etc.例文帳に追加

乾式や湿式不織布の製造においてバインダー繊維として好適に用いることができ、熱接着処理温度が低くても接着効果が高く、加工速度を向上させることができ、さらには、水処理用のろ過布や浸透膜等の特殊分野に使用する不織布にも好適に用いることができるポリエステル短繊維を提供する。 - 特許庁

To obtain the metal-bonded super-abrasive used for processing of a hard material such as cutting and drilling at a wet or dry processing, to obtain two or more kinds of super-abrasives with different brittleness without differentiating an amount of diamond or CBN and kinds of base bonds, and to obtain a super abrasive having a backing layer and using the soft base bond.例文帳に追加

硬質材料の湿式・乾式での切断・穿孔等の加工に使用されるメタルボンド超砥粒を得ること、脆弱性の度合いが二種類以上の超砥粒をダイヤモンド又はＣＢＮの量とベースボンドの種類を異ならしめることなく得ること、バッキング層を備えかつ軟らかいベースボンドを用いることができる超砥粒を得ることを課題とする。 - 特許庁

To provide an organic thin film transistor (TFT) capable of simplifying process and planning cost cut effect because charge mobility and I_on/I_off are high, and formation of an organic semiconductor layer and a manufacture of insulating film can be easily attained through wet processing.例文帳に追加

電荷移動度およびＩ_ｏｎ／Ｉ_ｏｆｆが高く、有機半導体層の形成および絶縁膜の製造が湿式工程によって容易に達成できるため、工程の単純化およびコストダウン効果を図ることが可能な有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the piezoelectric device comprises the steps of opening a window in a triangular shape on the main surface of a crystal plate to form a protective film, then melting the window part through wet etching, thinning the window part to process into recessed shape, and processing so that a thin plate is in the triangular shape as seen from the main surface.例文帳に追加

水晶の板の主面に三角形の形状で窓を開けて保護膜を形成した後、ウエットエッチングすることで窓の部分が溶解され薄板化し凹形状に加工し、薄板部が主面より見て三角形であるよう加工する。 - 特許庁

To provide a cellulose fiber-based electromagnetic wave suppression sheet having a wet strength high enough not to cause paper cutting even if it is subjected to post-processing such impregnation for imparting fire retardancy or paper powder measures, and containing only a small amount of chlorine.例文帳に追加

セルロース繊維ベースの電磁波抑制シートであり、難燃性や紙粉対策を付与するための含浸等の後加工を施しても、紙切れしないよう十分な湿潤強度を持ち、且つ、塩素が少量しか含まれないシートを提供することを課題とする。 - 特許庁

A substrate is prepared wherein the surface of an embedded wiring formed inside an interlayer dielectric is selectively covered with a wiring protective film, the surface of the substrate is pre-cleaning by wet processing using a cleaning liquid, and then an insulation film is formed on the surface of the pre-cleaned substrate.例文帳に追加

層間絶縁膜の内部に形成した埋込み配線の表面を配線保護膜で選択的に覆った基板を用意し、洗浄液を用いたウェット処理で基板の表面を前洗浄し、前洗浄後の基板の表面に絶縁膜を形成する。 - 特許庁

In addition, the method includes the process of forming a first recessed part by laser processing in a region in which at least a region in which the beam 19 is formed in the face to be etched is excluded, and has the process of performing a first wet etching from the face to be etched to the silicon substrate.例文帳に追加

さらに、被エッチング面のうち梁１９を形成する領域を少なくとも除いた領域に、レーザー加工によって第１の凹部を形成する工程と、シリコン基板に対して、被エッチング面から第１のウエットエッチングを行う工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element capable of easily peeling a growth substrate by wet etching processing or application of an external force by introducing a cavity having a large opening area formed using an ELOG method into the inside of a semiconductor layer.例文帳に追加

ＥＬＯＧ法を用いて形成された開口面積の大きい空洞を半導体層内部に導入することにより成長用基板をウェットエッチング処理または外力印加によって容易に剥離することができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a treatment using a processing agent of a coating mist in the wet type coating booth to recover coating dross, a defoamer represented by the following formulas (a) and/or (b) is added for a constant period of time before the recovery, and the coating dross is controlled to be in a state good in recovery.例文帳に追加

湿式塗装ブースにおける塗料ミストの処理剤を使用し、塗料滓を回収する処理において、回収前に一定の時間、下記(a)式および／または(b)式で表される消泡剤を添加し、塗料滓を回収性の良い状態に制御する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device having a borderless wiring structure forms a borderless via-hole in which two different types of metals are exposed in an aperture, wherein prior to the wet processing for stripping a resist mask used to form the via hole, ashing is done using plasma including H_2O.例文帳に追加

ボーダレス配線構造を有する半導体装置の製造方法において、開口内で２種類の異なる金属が露出するボーダレスビアホールを形成し、前記ビアホールの形成に用いたレジストマスクを剥離する際のウェット処理に先立って、Ｈ2Ｏを含むプラズマでアッシングする。 - 特許庁

An ink-jet textile printing method for printing a textile with a textile printing ink including a dye by the ink-jet method, comprising the steps of applying to a polyester textile a processing liquid including at least an ink supporting agent and a synthetic resin with a 60 to 130°C glass transitional point, executing the ink-jet printing, and applying a wet heat process, is provided.例文帳に追加

染料を含む捺染用インクによって布帛にインクジェット捺染がされるインクジェット捺染方法において、少なくともインク保持剤とガラス転移温度が６０〜１３０℃の合成樹脂からなる処理液をポリエステル布帛に付与した後、インクジェット印写し、次いで湿熱処理する。 - 特許庁

To provide a method for correcting an FIB wiring of a flip-chip LSI by an FIB of only a normal ion beam, by enabling removal of the upper layer interconnection and the lower layer interconnection on an FIB processing region through wet etching.例文帳に追加

ＦＩＢ加工領域上の上層配線および下層配線をウェットエッチングで除去することができるようにすることにより、通常のイオンビームのみのＦＩＢで、フリップチップＬＳＩのＦＩＢ配線修正加工が可能である、フリップチップＬＳＩの配線修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing slurry good in stability and suitable for manufacturing an aluminum-containing lithium composite oxide without generating a problem of thickening of the slurry at the time of manufacturing the aluminum-containing lithium composite oxide by wet processing, and to provide a method of manufacturing the aluminum-containing lithium composite oxide.例文帳に追加

湿式法によりアルミニウム含有リチウム複合酸化物を製造する際、スラリーの増粘の問題を生ぜず、アルミニウム含有リチウム複合酸化物の製造に適した安定性の良いスラリーを製造する方法及びアルミニウム含有リチウム複合酸化物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a white organic electroluminescence element which can be formed by a wet processing in manufacturing an organic electronic element having a multilayered structure, and has excellence in electron injection characteristics, electron transport characteristics, durability, and luminescent efficiency, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

多層構造を有する有機電子素子の製造において湿式法により形成が可能で、かつ電子注入特性、電子輸送特性、耐久性及び発光効率に優れた発光層を有する白色有機電界発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a water-based coating composition for a can, having excellent finishability because of good wettability on a wet ink, having water resistance resisting to retort treatment, being hardly scratched in a transportation process of the can because of a high-hardness coated film, and providing a coated film having excellent slipperiness at processing.例文帳に追加

ウェットインキ上でのヌレ性が良好な為に仕上り性に優れ、レトルト処理にも耐え得る耐水性を有し、高硬度の塗膜であるため缶の搬送過程で傷つき難く、かつ加工時のスベリ性に優れた塗膜を形成する缶用水性塗料組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an ethylene-vinyl acetate-crosslinking monomer copolymer having high reactivity and excellent dry and wet strength in the field of nonwoven fabric and paper processing and producible without using a large amount of a paper-strengthening monomer, etc., for the improvement of the properties.例文帳に追加

不織布、紙加工の分野において優れた乾燥時及び湿潤時の強度を持ち、かつその性能向上の為、大量の紙力増強用モノマー等を使用せずに作製される反応性良好なエチレン−酢酸ビニル−架橋性モノマー系共重合体樹脂の提供。 - 特許庁

The carrier 1 for wet processing includes a fixed part 4 fixed to an arm of a carrying device, and a suspension support part (chuck) 23 provided to the fixed part 4 so as to be hung from the fixed part 4, and supporting by suspension a wafer mounting instrument (boat) 6 where a plurality of wafers 10 are mounted.例文帳に追加

ウェット処理用キャリア１は、搬送装置のアームに固定される固定部４と、固定部４から垂下するように該固定部４に設けられ、複数のウェハ１０が搭載されるウェハ搭載器具（ボート）６を吊り下げ支持する吊り下げ支持部（チャック）２３とを備える。 - 特許庁

The surface of the metal plate joined to the ceramics substrate and composed of aluminium or the aluminium alloy is polished by belt polishing and processed by wet blast processing for emitting a jet of abrasive slurry containing particulates in a liquid to the surface of the metal plate, and then the surface of the metal plate is plated.例文帳に追加

セラミックス基板に接合したアルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属板の表面をベルト研磨により研磨し、液体中に微粒子を含む研磨材スラリーを金属板の表面に噴射するウエットブラスト処理を行い、その後、金属板の表面にめっきを施す。 - 特許庁

To provide a method for processing silicon, by which the problems found in a wet etching process of the silicon that accurate administration of the etching time is difficult, there is a danger of physical damage caused by sticking on a human body, and the environmental load is large at the time of disposal can be solved.例文帳に追加

シリコンのウェットエッチング方法において、エッチング時間を厳密に管理することが困難であるという問題、使用時の人体への付着による怪我の危険性や廃棄時の環境に対する負荷が大きいという問題を解決するシリコンの加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a tubular medical appliance capable of providing various types of base materials with lubricity with superior durability without being restricted by the base material, having an improved productivity by dispensing with a vacuum processing of the base material, and showing the lubricity when being wet.例文帳に追加

基材材料に制限されず多種の基材材料に耐久性の優れた潤滑性を付与することが可能で、また、基材の真空処理を不要として生産性が改良された、湿潤時に潤滑性を示すチューブ形状の医療器具及び医療器具の製造方法を提供すること。 - 特許庁