Na-K-Aとは 意味・読み方・使い方

In particular, the chelating agent including a group represented by formula (1) (wherein, M is Na or K) as the chelating agent is preferable.例文帳に追加

特にキレート剤として式（１）で表される基を含むキレート剤が好ましい - 特許庁

Thereafter, intensity image data K_A×(A')^NA and phase image data K_B×B^NB are multiplied to create composite image data C.例文帳に追加

その後、強度画像データＫ_Ａ×（Ａ′）^ＮＡと、位相画像データＫ_Ｂ×Ｂ^ＮＢとを乗算し、合成画像データＣを作成する。 - 特許庁

In the security instrument 10, natural numbers n_A and r_A which are secret information are set, and K_A=S(r_A)×α^nA×S(r_A)^-1 is calculated and sent to the security instrument 30.例文帳に追加

また、セキュリティ装置１０において、秘密情報である自然数ｎ_Ａ及びｒ_Ａを設定し、K_A=S(r_A)・α^nA・S(r_A)^-1を算出し、これをセキュリティ装置３０に送信する。 - 特許庁

The manufacturing process for a (Li, Na, K)(Nb, Ta)O_3 type piezoelectric material comprises firing a formed article from powder particles constituted of a composition of (Li, Na, K) (Nb, Ta)O_3 at a specific temperature in the range of 850-1,000°C for a specific period of time.例文帳に追加

（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３の組成からなる粉末粒子の成形体を焼成することにより、（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ）（Ｎｂ，Ｔａ）Ｏ_３系圧電材料を製造する方法であって、８５０〜１０００℃の範囲内の一定温度で一定時間キープする。 - 特許庁

A frequency area conversion part 103 performs the analysis of frequency of a signal sampled at a sampling rate Fx with an analysis length 2×Na to calculate a first spectrum S1(k)(0≤k<Na).例文帳に追加

周波数領域変換部１０３は、サンプリングレートＦｘでサンプリングされた信号を分析長２・Ｎａで周波数分析し、第１スペクトルＳ１(ｋ)（０≦ｋ＜Ｎａ）を算出する。 - 特許庁

The flux ingredient preferably comprises one kind of flux, or two or more kinds of mixed fluxes, selected among from a K-Al-F based flux, a Na-Al-F based flux, a K-Si-F based flux, and a Na-Si-F based flux.例文帳に追加

フラックス成分は、Ｋ−Ａｌ−Ｆ系、Ｎａ−Ａｌ−Ｆ系、Ｋ−Ｓｉ−Ｆ系、及び、Ｎａ−Ｓｉ−Ｆ系、から選択される１種のフラックス、又は２種以上の混合フラックスからなることが、望ましい。 - 特許庁

To obtain an Na^+, K^+-ATPase activator useful for ameliorating swelling by finding a component having excellent Na^+, K^+-ATPase activation action, and a swelling ameliorant.例文帳に追加

本発明は、優れたＮａ^＋，Ｋ^＋−ＡＴＰａｓｅ活性化作用を有する成分を見出し、むくみの改善に有用なＮａ^＋，Ｋ^＋−ＡＴＰａｓｅ活性化剤及びむくみ改善剤を提供することを目的とする。 - 特許庁

A preform 18 has ≥1,150 ppm OH content, ≤5 nm/cm stress birefringence, ≥1×10^18 molecule/cm^3 H_2 content, ≤20 ppm Cl content and max. 500 ppb content of trace impurities of Cr, Co, Fe, Ni, Cu, V, Zn, Al, Li, K and Na and contains no layered structure.例文帳に追加

OH含有量≧1150ppm、応力複屈折≦5nm/cm、H_2含有量≧1×10^18分子/cm^3、Cl含有量≦20ppm、微量不純物元素Cr、Co、Fe、Ni、Cu、V、Zu、Al、Li、K、Na含有量最大500ppbであり、且つ、実質的に層状構造を含まないプリフォーム１８とする。 - 特許庁