「"processing solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

In this method of rendering the used photographic processing solution less corrosive to low carbon steel, at least the used photographic processing solution contains a color developing agent and a bleaching agent, and the used photographic processing solution is delivered to a collection vessel to form a used photographic processing composition, then the pH of the used photographic processing composition is adjusted to 6.5 to 11.例文帳に追加

発色現像主薬を含有する使用済み写真処理溶液および漂白主薬を含有する使用済み写真処理溶液を少なくとも取り、前記使用済み写真処理溶液を回収容器に引き渡して、使用済み写真処理組成物を形成し、そして前記使用済み写真処理組成物のｐＨを６．５〜１１に調節することを含んでなる、使用済み写真処理溶液の低炭素鋼に対する腐食性をより低下させる方法。 - 特許庁

Then, two trap materials 42 and two development processing solution pods 40 are stuck at both side edge parts of the first continuous member 50 at the same stop time.例文帳に追加

その際、第１連続状部材５０の両側縁部には、２枚のトラップ材４２および２枚の現像処理液ポッド４０が同一停止時に貼り付けられる。 - 特許庁

A developing container in which much development processing solution is stored need not be provided at the bottom part of a plate barrel, so that a printing machine having the plate barrel is compactly constituted.例文帳に追加

多量の現像処理液を収容した現像容器を、版胴の最下部に設ける必要がなく、版胴を有する印刷機等を小型に構成できる。 - 特許庁

In the processing method for a photographic sensitive material, a member movable back and forth is sunk in a tank containing a small volume of a processing solution.例文帳に追加

本発明は、往復運動可能な部材が少ない容量の処理溶液を含むタンク内に沈められる、写真感光材料を処理する方法である。 - 特許庁

To provide a development processor which can heat a photosensitive medium coated with a processing solution only for a proper processing time while maintaining its size.例文帳に追加

大型化することなく、処理液が塗布された感光媒体を適正な処理時間だけ加熱することができる現像処理装置を提供する。 - 特許庁

In this method for processing photographic material, a processing solution which is hermetically sealed in a sealing member which is fixed and arrayed on a movable web is supplied to a processing device.例文帳に追加

可動ウェブ上に固定して配列された密封部材内部に密封された処理溶液を処理装置に供給する方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a moisture absorbing and emitting synthetic textiles having excellent moisture absorbing and emitting properties and fashionable graceful transparent patterns by partly opal processing cloth comprising moisture absorbing and emitting polyamide fibers and polyester fibers in an alkaline opal processing solution.例文帳に追加

優れた吸放湿機能を有し、かつファッション性に富んだ優美な透かし模様を有した吸放湿性合成繊維布帛を提供する。 - 特許庁

The physical force resulting from a cavitation phenomenon of vapor in the processing solution is relatively small, so damage is suppressed to the fine pattern.例文帳に追加

一方、処理溶液中の水蒸気のキャビテーション現象に起因した物理力は比較的小さいため、微細パターンの損傷の発生が抑制される。 - 特許庁

An oxidation-resistant film 12 containing the compound oxide can be formed by coating the processing solution on a cermet base material 11, and heating it.例文帳に追加

本発明の処理液を、サーメット基材１１に塗布した後加熱することによって、複合酸化物を含む耐酸化膜１２を形成させることができる。 - 特許庁

The processing solution of the present invention includes metal salt which is reacted with titanium compound to generate compound oxide, and solvent of ≥20 mass%.例文帳に追加

本発明の処理液は、チタン化合物と反応して複合酸化物を生成する金属塩と、２０質量％以上の溶媒とを含有した組成とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processing device capable of effectively preventing hot air generated in a drying part from entering a processing solution tank.例文帳に追加

乾燥部で発生した温風の処理液槽への侵入を有効に防止することができる感光材料処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

This processing solution heating device 8 is equipped with the heater 41, and the linear protection tube 42 inside which a temperature fuse 43 functioning as the temperature detection part is disposed.例文帳に追加

処理液加熱装置８は、ヒータ４１と、その内部に温度検出部としての温度ヒューズ４３が配設された直線状の保護管４２とを備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive material which ensures improved antistatic property, scuffing resistance and sticking property and suppresses the contamination of a processing solution under low replenishment and a processing method for the photosensitive material.例文帳に追加

帯電防止性、擦り傷耐性、クッツキ性、低補充における処理液汚れを改良した感光材料及びその処理方法の提供。 - 特許庁

Even if mist of the processing solution is generated in the container 50, it will not pass through a gap 70 between the substrate and a flange part 64, and it is thus shielded.例文帳に追加

容器５０内で処理液のミストが発生しても、ミストは基板とつば部６４、６６との間の狭い隙間７０を通過せず遮蔽される。 - 特許庁

To stabilize a processing solution over a long period of time, to enhance fixing performance and to prevent the lowering of image quality in processing of a silver halide color photosensitive material.例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理において、処理液を長期間安定させ、定着性能を向上させ、画質の低下を防止すること。 - 特許庁

In this processing solution, SCCO2 is used as a carrier medium, and an -OH functional group (hydroxyl group) exists in the SCCO2 as an active chemical species in a scattering way.例文帳に追加

この処理流体では、ＳＣＣＯ2をキャリア媒体とし、ＳＣＣＯ2中に−ＯＨ官能基（水酸基）が活性化学種として分散して存在している。 - 特許庁

A flow passage is switched to a second branch pipe 49 to carry out such separation/removal operation as to cause an oil/water separating filter 51 to remove pure water from the processing solution.例文帳に追加

第２の分岐配管４９に流路を切り換えて油水分離フィルタ５１により処理液中の純水を除去する分離除去処理を行わせる。 - 特許庁

To provide a processing solution for formation of a titanium oxide film having a photocatalytic function, excellent coloring properties and excellent acid/alkali resistance and a method of manufacturing the film.例文帳に追加

光触媒機能を持ち、着色性に優れ、耐酸性・耐アルカリ性に優れる酸化チタン膜作製用の処理液及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic material by which the material can be rapidly and uniformly processed even when processed with a small amount of a processing solution.例文帳に追加

少量の処理液で処理しても迅速かつ均一な処理が可能となるハロゲン化銀写真材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

Particles in the processing tank 10 are circulated, entrained by a flow of the processing solution together with the air bubbles and are removed with the air bubbles in the air bubble removal parts 61, 62.例文帳に追加

処理槽１０内のパーティクルは、気泡とともに処理液の流れに乗って循環され、気泡除去部６１，６２において気泡とともに除去される。 - 特許庁

Additive for enhancing the electrification performance and also enhancing abrasion resistance is dissolved in processing solution containing isocyanate, and by immersing an elastic layer 11 formed on the surface of a conductive core bar 10 and mainly consisting of semiconductive urethane rubber in the surface processing solution, the surface layer 12 is formed on the elastic layer 11.例文帳に追加

イソシアネートを含有する処理溶液に帯電性能を向上させ、且つ耐磨耗性を向上させる添加物を溶解させ、その表面処理溶液に、導電性芯金１０の表面に半導電性ウレタンゴムを主体として構成された弾性層１１を浸漬させて形成される表面層１２を弾性層１１に備える。 - 特許庁

A time duration after generation of an SPM processing solution until the generation of a new SPM processing solution is divided into two time bands (a first time zone TZ1 and a second time zone TZ2), and a monitor interval for accumulation is individually set for each of first and second monitor intervals TI1 and TI2.例文帳に追加

ＳＰＭ処理液が生成されてから新たなＳＰＭ処理液を生成するまでの間を二つの時間帯（第１の時間帯ＴＺ１、第２の時間帯ＴＺ２）に区切り、積算するための監視間隔がそれぞれ第１の監視間隔ＴＩ１と第２の監視間隔ＴＩ２との個別に設定されている。 - 特許庁

To provide a substrate processing system for coating surfaces of substrates to be processed with a film of a processing solution and forming a predetermined pattern on each substrate in cooperation of an exposure device, which system can coat the processing solution on each substrate uniformly and can increase a substrate processing throughput when cooperated with the exposure device.例文帳に追加

被処理基板の表面に処理液の膜を塗布形成し、露光装置と連動して基板に所定のパターンを形成する基板処理システムにおいて、各基板に処理液を均一に塗布することができ、露光装置と連動した際の基板処理のスループットを向上することのできる基板処理システムを提供する。 - 特許庁

Therefore, when a wafer W which is wet with a processing solution is carried to the high- pressure processing unit 26, even if the processing solution adhering to the substrate W or its evaporation material is moved to the main carrying path 21, the developing units 231, 232, and 243 exist before the main carrying path 21.例文帳に追加

したがって、処理液で濡れた基板Ｗを高圧処理ユニット２６に搬送している際に、基板Ｗに付着している処理液、またはその蒸発物が主搬送路２１側に移動しようとしても、主搬送路２１に至るまでに現像処理ユニット２３１，２３２，２４３が介在することとなる。 - 特許庁

To effectively suppress development of microorganisms in a replenisher of a reversal bath and in a reversal solution in a reversal processing tank without adversely affecting photographic properties or the quality of a processing solution in color reversal processing or increasing work load of preparation of a processing solution or control of processing.例文帳に追加

カラー反転処理において、写真性や処理液品質に悪影響を与えることなく、また、処理液調製や処理管理の作業負荷を増大させることもなく、反転浴補充液や反転処理槽中の反転液における微生物の生成を効果的に抑止する方法を提示すること。 - 特許庁

To suppress a degradation in quality of an image formed on a photosensitive medium due to uneven processing originating in an applied state of a processing solution on the photosensitive medium.例文帳に追加

感光媒体上への処理液の塗布状態に起因して処理むらが生じることによって感光媒体に形成される画像の品質が低下するのを抑制する。 - 特許庁

Development is performed while controlling the spray of development processing liquids from a processing solution spray collection head formed by collecting nozzles for spraying the development processing liquids by a control means, respectively.例文帳に追加

各現像処理液をそれぞれ噴射するノズルを集合した処理液噴射集合ヘッドから各現像処理液の噴射を制御手段により制御しつつ行う。 - 特許庁

To prevent the generation of contamination in processing solution during a wet processing and to prevent the occurrence of loss in ultrasonic wave vibration being added to an ultrasonic wave propagation section from an ultrasonic wave vibrator.例文帳に追加

ウエット処理において、処理液における汚染発生の防止と、超音波振動子から超音波伝播部に付与した超音波振動のロス防止を図る。 - 特許庁

Accordingly, even if the frequencies of replenishment of chemicals are different according to the lapse time from the generation of the SPM processing solution, abnormal supply can be suitably detected.例文帳に追加

したがって、ＳＰＭ処理液が生成されてからの経過時間に応じて薬液の補充頻度が異なる場合であっても、供給異常を適切に検知することができる。 - 特許庁

To provide a processor of a photosensitive material which performs stable application of a processing solution to the photosensitive material without being affected by materials of a support of the photosensitive material.例文帳に追加

感光材料の支持体の素材に影響されることなく、感光材料へ安定した処理液塗布を行う感光材料の処理装置を提供することである。 - 特許庁

A silver halide color photographic sensitive material is washed using a processing solution containing a compound of formula [I] or [II] in place of washing water after color development and fixation or bleach fixation.例文帳に追加

発色現像、定着、漂白定着の処理後、水洗水に代えて下記一般式［Ｉ］又は［ＩＩ］に示される化合物を含む処理液を用いて水洗処理する。 - 特許庁

Prior to a replacing operation, an etching solution (second processing solution) is compounded as high in concentration as prescribed in the compounding tank of a compounding section 62 and previously reserved.例文帳に追加

置換操作に先立って、エッチング用処理液（第２の処理液）が調合部６２の調合槽ＣＢ内で所定の濃度に調合されるとともに、予め貯留される。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which is capable of shortening a tact time when a substrate is subjected to a drying process after the substrate is processed with a processing solution.例文帳に追加

この発明は基板を処理液で処理してから乾燥処理する際のタクトタイムの短縮化を図ることができる基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

The cartridge 18 for processing is formed by sealing a conveyance roller pair therein and sealing the processing solution for water washing (washing water) therein and performs processing of photographic paper within itself.例文帳に追加

処理カートリッジ１８は、その内部に搬送ローラ対を封入していると共に水洗用の処理液（水洗水）を封入しており、内部で印画紙の処理を行う。 - 特許庁

The treating method for the functionalized fiber material comprises treating a fiber material with a processing solution and/or a microcapsule solution containing the conjugated linoleic acid.例文帳に追加

本発明の処理方法は、共役リノール酸を含有する加工液および／またはマイクロカプセル液を処理することを特徴とする機能化繊維材料の処理方法である。 - 特許庁

To provide an information exchanging method between a processing solution supply cartridge mounted on a small processing machine and a controller used for operating the processing machine.例文帳に追加

本発明は小型処理機に搭載される処理液補給カートリッジとこの処理機を作動させるために用いられるコントローラとの情報交換の方法を提供する。 - 特許庁

When the operation of the processor is suspended for a long time at night, the polymer 32 approaches room temperature (<35°C), absorbs a processing solution, swells and blocks the passage 30.例文帳に追加

夜間等の装置の長時間の停止時においては、吸水性ポリマー３２は室温程度（３５°Ｃ未満）となり、処理液を吸収して膨潤し、通路３０を塞ぐ。 - 特許庁

Thus, the processing solution dropped from the substrates W drops into the pure water remaining in the interbath pad 50, is quickly diluted, and then discharged together with the pure water.例文帳に追加

このため、基板Ｗから落下した処理液は、槽間バット５０に貯留された純水中に落下して速やかに希釈され、純水とともに排液される。 - 特許庁

Replacing operation is carried out to replace pure water stored in a processing bath 1 with IPA (isopropyl alcohol), and then cooling operation is carried out to cool a processing solution in a cooling unit 25.例文帳に追加

次に、置換処理を行わせて処理槽１に貯留している純水をＩＰＡで置換した後、冷却ユニット２５で処理液を冷却する冷却処理を行わせる。 - 特許庁

Electricity charges can be saved as compared with the case where the temperature of the processing solution is raised to the specified temperature range using only daytime expensive power.例文帳に追加

昼間の料金の高い電力のみを使用して処理液の温度を規定温度範囲まで上昇させる場合と比較して、電気料金を節約することができる。 - 特許庁

The exfoliated storage medium and plastic member are recycled by eluting the metals with a processing solution and the data of the storage medium can be simultaneously extinguished.例文帳に追加

剥離された記憶媒体層と樹脂部材は、処理液によって金属を溶出して、リサイクルが行なわれると同時に、記憶媒体のデータを消滅させることができる。 - 特許庁

The pad material layer 203 includes openings 226 to permit processing solution 223 to wet both a conductive surface of the wafer 206 and a surface of the electrode 210.例文帳に追加

パッド材料層２０３は、処理液２２３がウェハ２０６の導電性表面と、電極２０１の表面との両方を濡らすことができる開口部２２６を含む。 - 特許庁

To provide a method for forming a non-chromium black chemical film having excellent corrosion resistance and uniform appearance of a metallic member formed of zinc or a zinc alloy with a single processing solution.例文帳に追加

亜鉛や亜鉛合金の金属部材に耐食性に優れた均一な外観を有するノンクロム黒色化成皮膜を単一処理液で形成方法を提供する。 - 特許庁

In a tubular processing solution nozzle 3 made of an insulation material, there are provided a coil electrode 5 made of an insoluble metal and a rod electrode 6 made of a plating metal.例文帳に追加

絶縁物からなる筒状の処理液ノズル３内に不溶性金属からなるコイル状の電極５と、めっき金属からなる棒状の電極６とを設けた。 - 特許庁

To provide a method for reducing defects, particularly pattern collapse of semiconductor devices occurring during the manufacturing process without sacrificing a throughput, and to provide a processing solution therefor.例文帳に追加

製造中に生じる半導体デバイスの欠陥、特にパターンのつぶれを、スループットを犠牲にすることなく低減するための方法とそのための処理溶液を提供すること。 - 特許庁