「"processing solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

In a substrate-cleaning processing method, where a semiconductor wafer W is dipped into a processing solution and a cleaning solution for cleaning and processing, the lower part of the wafer W is stopped once, when it comes into contact with the liquid level of pure water L when the semiconductor wafer W subjected to processing with a processing solution is immersed into an overflowing pure water L.例文帳に追加

半導体ウエハＷを垂直状態にして処理液と洗浄液に浸漬して洗浄処理する基板洗浄処理方法において、処理液での処理が終わった半導体ウエハＷを、オーバーフローする純水Ｌに浸漬する際、純水Ｌの液面と半導体ウエハＷの下部とを接触させ一旦停止する。 - 特許庁

To provide a processing tank of an apparatus for processing a photosensitive material capable of preventing contamination caused by mixing a processing solution, which flows up by capillary phenomena and surface tension along swirl marks on the surface of the partitioning walls of the processing tank made of a synthetic resin and formed by molding, together with the neighboring processing solution without using a harmful solvent dangerous in handling.例文帳に追加

有害で取扱いの危険な溶剤を使用することなく、成型加工された合成樹脂製処理槽の仕切壁表面のスワールマークに沿って現像処理液が毛細管現象及び表面張力によって遡り隣接する処理液と混ざりあうコンタミネーションを阻止した感光材料処理装置の処理タンクを提供する。 - 特許庁

As a result, a flow direction of the processing solution flowing through the tubular member 12 is converted, so as to be perpendicular thereto and be directed in the direction parallel to a plate surface of the substrate within the bath 1, and processing solution subjected to the direction conversion is supplied into the bath 1 through an ejection port 17 made in a flat surface 14a from a solution ejection side passage 16.例文帳に追加

これにより、管体１２内を流れる処理液の流れ方向を、それに直交して処理槽１内の基板の板面と平行な方向に向かわせるように転換し、その方向転換された処理液を液噴出側通路１６内より平坦面１４ａに開口形成した噴出口１７から処理槽１内に供給する。 - 特許庁

When a blast processing solution is jetted from the opening 16 of the case port, the insulating layer of the wall surface of a case cylinder 14 remains without performing masking, and the insulating layer of the case back 18 is removed.例文帳に追加

ブラスト処理液をケース入口開口１６から噴射すると、マスキングを施さなくても、ケース筒部１４の壁面の絶縁層が残り、ケース奥部１８の絶縁層が除去される。 - 特許庁

A photographic material is passed through a chamber holding a processing solution and is processed by raising the temperature of the solution when the material is passed through the chamber.例文帳に追加

処理溶液を保持しているチャンバーに写真材料を通し、上記チャンバーに上記材料を通す際に、上記溶液の温度を上昇させることによって写真材料を処理する。 - 特許庁

The processing solution supply unit 30 selectively delivers the recovered solution from the first and second discharge solution lines 42b and 44b to the processing unit 10.例文帳に追加

処理液供給部３０は、第１の排液ライン４２ｂから送られた回収液および第２の排液ライン４４ｂから送られた回収液を選択的に処理部１０に供給する。 - 特許庁

Since the polymer 32 discharges the absorbed processing solution and shrinks at a temperature above the 35°C temperature sensing point, a film can be processed.例文帳に追加

吸水性ポリマー３２が感温点３５°Ｃを越えると、吸水性ポリマー３２はいままで吸水保持していた処理液を排出して縮小するので、フィルムの処理が可能となる。 - 特許庁

All the substrates are processed by the use of the same nozzle and the same processing solution, so that the substrates can be restrained from varying in quality and kept constant in quality.例文帳に追加

また、全てのウエハＷに対し同一のノズル及び同一の処理液により処理を行うこととしたので、ウエハごとのばらつきを抑えて一定の品質を確保することができる。 - 特許庁

The processing solution supply paths 7 and 9 supply the solution 10 to the surface to be processed of the substrate 4 so that the solution 10 may flow to the surface to be processed of the substrate 4 in a fixed direction.例文帳に追加

処理液供給路部材７、９は、基板４の被処理面上にほぼ一定の方向に流れるように、基板４の被処理面上に処理液１０を供給する。 - 特許庁

When the valve is moved to a valve opening position in accordance with the rotation of the cam roller, the quantity of processing solution is put out of the chamber by the quantity related to the rotational amount of transporting roller.例文帳に追加

バルブが、カムローラの回転に伴って開弁位置に移動させられたときに、処理溶液の量が、輸送ローラの回転量に関連する量でチャンバから払い出される。 - 特許庁

The processing solution for forming the surface coated cermet member 1 has the composition including metal salt which is reacted with titanium compound to generate compound oxide, and solvent of ≥20 mass%.例文帳に追加

表面被覆サーメット部材１の形成用の処理液は、チタン化合物と反応して複合酸化物を生成する金属塩と、２０質量％以上の溶媒とを含有した組成とする。 - 特許庁

Bubbling in the photographic processing solution due to the hydrophilic polymer is, however, prevented by the presence of a nonionic surfactant having an HLB(hydrophile-lipophile balance) of <12.例文帳に追加

しかしながら、上記写真処理溶液中の上記親水性ポリマーに起因する泡立ちは、12未満のＨＬＢを有する非イオン性界面活性剤の存在によって防止される。 - 特許庁

A fixed relative positional relation between the wafer W and the wafer housing grooves 2 is broken off, so that replacement of a processing solution and removal of air bubbles can be accelerated in a narrow structure.例文帳に追加

ウェーハＷとウェーハ収容溝２との相対位置の固定関係が解消されるので、狭隘な構造部における処理溶液の交換や気泡の除去が促進される。 - 特許庁

To provide a silver halide photosensitive material capable of obtaining an image having good image preservability and a good color tone using the same processing solution system in color/black-and-white developments.例文帳に追加

カラー／白黒現像において同一の処理液システムを用いて、良好な画像保存性及び色調を有する画像を得ることができるハロゲン化銀感光材料を提供すること。 - 特許庁

The grooves in the circumferential direction are formed by mechanical texture processing carried out through a processing solution where very small diamond abrasive grains are dispersed between a process tape and the rotating glass substrate surface.例文帳に追加

周方向の溝は加工テープと回転するガラス基板表面の間に微細ダイヤモンド砥粒を分散させた加工液を介在させて行なうメカニカルテクスチャ加工によって形成されている。 - 特許庁

The Australian Customs Service provided an explanation of its Smartgate system, which is an automated border processing solution incorporating facial recognition and e-passport technology, that enables eligible travelers to self-process.例文帳に追加

豪州税関は、該当する旅客が自身で手続を終えられるよう、顔の認識と電子パスポートの技術を用いて、自動で旅客手続処理を行う「スマートゲートシステム」の説明を行った。 - 財務省

To provide a silver halide photographic sensitive material for laser exposure having improved antistatic performance, conveyability and stickiness and ensuring improved contamination of a processing solution under low replenishment and to provide a processing method for the material.例文帳に追加

帯電防止性、搬送性、クッツキ性、低補充における処理液汚れを改良したレーザー露光用ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a nozzle in which the occurrence of electric discharge from a processing solution to a substrate is suppressed, and which is small-size and lightweight and of which the strength is sufficiently secured, and a substrate treatment device provided with the same.例文帳に追加

処理液から基板への放電の発生が抑制されるとともに、小型かつ軽量で十分な強度が確保されたノズルおよびそれを備える基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate holding cassette, which is highly effective in suppressing the residual of processing solution, and which is capable of reducing the cost of cleaning process and enhancing the processing effect of cleaning.例文帳に追加

処理液の残留を抑制する効果が高く、洗浄処理の低コスト化が可能であるとともに、洗浄の処理効果を向上することができる基板保持カセットを提供すること。 - 特許庁

In particular, this invention provides a protective overcoat permeable to a processing solution, having water resistance in a final processed product and imparting improved water-abrasion resistance.例文帳に追加

より詳細には、本発明は、最終的な処理済み製品においては耐水性であり、同時に、改良された水−耐摩耗性を提供する処理溶液透過性保護オーバーコートを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material capable of lowering the concentration of ammonium ions in a processing solution without incurring precipitation of a fixing agent or sulfurization in a passage roller section.例文帳に追加

定着剤の析出や渡りローラー部への硫化を招かずに処理液のアンモニウムイオン濃度を低減することが可能なハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

In a deposition process (steps S2 and S3), when a first voltage is applied to the processing solution through electrodes, a reduction reaction takes place, and metal ions are separated out as metal at the electrode.例文帳に追加

析出過程（ステップＳ２，Ｓ３）において、電極を介して処理液に第１電圧を印加すると還元反応が生じ、処理液中の金属イオンが金属として電極に析出する。 - 特許庁

The processing composition is applicable to a color developer, a bleaching agent, a fixing agent, a bleach-fixing agent, a stabilizer, etc., and to a processing solution, a concentrated processing agent, a solid processing agent, etc.例文帳に追加

処理剤組成物は、発色現像剤,漂白剤,定着剤,漂白定着剤,安定剤など、また使用液濃度のもの、濃縮処理剤,固形物処理剤などに適用できる。 - 特許庁

To provide an electrode inserting method that more secures the insertion of an electrode into an electrode guide and a device therefor, provide a pore electric discharge machining method capable of stably feeding the electrode by preventing a contaminated liquid in the processing solution from entering the electrode guide and reduction of a metal ion in the processing solution to cause deposition of the metal on the electrode guide and improving machining accuracy, and provide a device therefor.例文帳に追加

電極ガイドに対する電極挿通をより確実にする電極挿通方法および装置の提供と、加工液中の汚液の電極ガイドへの侵入および加工液中の金属イオンが還元されて電極ガイドへ付着を防止して安定した電極送りを可能にし、かつ加工精度を向上させる細穴放電加工方法および装置の提供。 - 特許庁

Steam of isopropyl alcohol is supplied from each of supply ports 67 of an automatic cover 23 and a processing solution is discharged via a discharging pipe 57 to exhaust the air in the processing tank 1 by a first vacuum pump 19.例文帳に追加

処理槽１内を排気するので、処理槽１の上部から供給されたイソプロピルアルコールの蒸気が複数枚の基板Ｗの間を円滑に流下されて供給・排気管７から排気される。 - 特許庁

To efficiently treat a used processing solution containing a metal and various chemicals after the processing of a photographic film or the like at a low cost without adversely affecting the environment and a living thing.例文帳に追加

金属や多種類の化学薬品を含む写真フィルム等の処理廃液を低コストで高率よく処理して、環境や生物に悪影響を及ぼさないような処理方法を開発すること。 - 特許庁

The system and method is adapted to recover water from humid air for reuse in the processor, as well as convert a liquid waste processing solution into a dry waste for disposal.例文帳に追加

この感光材処理システム及び方法は、液状の廃棄処理溶液を、廃棄可能な固形状の廃棄物に変えると同様に、湿気を帯びた空気から水を回収し、感光材処理器内で再利用する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material which reduces silver sludge and rear end fog in processing and ensures no suspended solids and little extraneous matter on a processed layer even when a processing solution is not replenished.例文帳に追加

処理時に銀スラッジ、後端カブリが低減され、且つ、処理液の無補充状態においても処理層に浮遊物がなく、処理層への付着物が少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供する。 - 特許庁

In the air bubble removal parts 61, 62, the processing solution is turned to collect the air bubbles to the center of the turning and remove them, so that the particles can be removed without the use of any filter.例文帳に追加

気泡除去部６１，６２では、処理液を旋回することによって、その旋回中心に気泡を集合させて除去するので、フィルタを用いることなくパーティクルを除去することができる。 - 特許庁

As the processing solution is fed into the processing tank 1, the movable nozzle 7 moves and comes in close contact with an inclined plane 2a of the inlet of a passage in the rack 2 disposed in the tank 1.例文帳に追加

可動ノズル７が処理液の処理槽１への送給により移動して、処理槽１内に配置されたラック２内の流路入口の傾斜面２ａと密着可能になる処理液循環装置。 - 特許庁

Besides, the driving force of a motor 142 is transmitted to the roller pairs 50 to 126 by the attractive force and the repulsive force of magnets 140 and 144 and the roller pairs 50 to 126 are rotated, so that the processing solution is surely enclosed.例文帳に追加

しかも、マグネット１４０、１４４の吸引力及び反発力によってモータ１４２の駆動力を搬送ローラ対５０〜１２６へ伝えて回転させるため、確実に処理液を封入できる。 - 特許庁

After a cleaning operation (first substrate processing) is finished, an etching solution (second processing solution) reserved in the compounding tank is supplied to a processing tank 10 to carry out an etching operation.例文帳に追加

そして、洗浄処理（第１の基板処理）の完了後、調合槽ＣＢに貯留されているエッチング用処理液（第２の処理液）が処理槽１０に供給されてエッチング処理が実行される。 - 特許庁

The glass substrate is immersed in a chemical processing solution, and a part or all of one or both sides composing the outer surface of this glass substrate are processed at a processing rate of 0.5-10 μm/min.例文帳に追加

化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を０．５〜１０μｍ／分の加工速度で加工する。 - 特許庁

The height level of the development processing solution in the development processing tank 3A is judged from the detected number of pump revolutions, by which the detection of the fall of the height level below the prescribed level is made possible.例文帳に追加

そして、検出されたポンプ回転数から現像処理槽３Ａ内における現像処理液の高さレベルを判断して、その高さレベルが所定レベルよりも低下したことを検知できるようにする。 - 特許庁

To provide a processing method for a color photographic sensitive material in which a desilvering step can rapidly be carried out without impairing image stability and a processing solution is stable and does not cause turbidity during use.例文帳に追加

画像安定性を損なうことなく脱銀工程の迅速化を可能とする、かつ処理液が使用中に安定で濁りなどを生じないカラー写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁

To improve products in yield by a method, where particles are prevented from readhering to a processed substrate, in a process where the processed substrate is immersed into a processing solution and a cleaning solution for processing and cleaning.例文帳に追加

被処理基板を処理液及び洗浄液に浸漬して洗浄処理を施す過程における被処理基板へのパーティクルの再付着の防止等により製品歩留まりの向上を図れるようにすること。 - 特許庁

To provide a development processing apparatus capable of reliably washing pairs of conveyance rollers for press-conveying a photosensitive material to which a development processing solution adheres all over the peripheries of the rollers.例文帳に追加

本発明は、現像処理液の付着した感光材料を圧着搬送する搬送ローラ対を全周に亘って確実に洗浄することができる現像処理装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

The antirust film is formed on the external conductor of the insulating substrate, and a fluorescent film is formed on the antirust film using a fluorescence processing solution used for the formation of the antirust film.例文帳に追加

絶縁基板の外部導体上に防錆膜を形成し、防錆膜の形成で用いた処理液に蛍光剤を微量添加した蛍光処理液を用いて、防錆膜上に蛍光膜を形成する。 - 特許庁

To reproduce images free of the occurrence of an excess smear while utilizing the exposure capacity possessed by an exposure head as effectively as possible without depending upon the kinds of photographic paper and/or the state of a development processing solution.例文帳に追加

印画紙の種類および／または現像処理液の状態に依存せず、露光ヘッドの有する露光能力をできるだけ有効に活かしながら、余分な滲みが生じることない画像を再現する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive material process cartridge constituted so that processing solution is not spilled or scattered to and around a place for processing photosensitive material, and a photosensitive material processing device and a photosensitive material processing method.例文帳に追加

感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがない感光材料処理カートリッジ、感光材料処理装置、及び感光材料処理方法を得る。 - 特許庁

Thereafter, a supplement operation B1 of a hydrogen peroxide solution is rendered at a time tB1, a substrate is led into a processing solution within a processing bath to conduct the cleaning process C1 at time tC1.例文帳に追加

その後、時刻ｔＢ１において過酸化水素水の補充動作Ｂ１を行い、基板を処理槽内の処理液に導入して基板に対する洗浄処理Ｃ１を時刻ｔＣ１において行う。 - 特許庁

The aqueous processing solution for a fixed abrasive grain wire saw contains: at least one water-soluble polymer selected from a copolymer containing (A) polyvinylpyrrolidone and vinylpyrrolidone; and (B) water.例文帳に追加

（Ａ）ポリビニルピロリドン、および、ビニルピロリドンを含む共重合物から選ばれる少なくとも一種類以上の水溶性高分子、ならびに、（Ｂ）水を含有する固定砥粒ワイヤソー用水溶性加工液とする。 - 特許庁

To make it possible to feed a processing solution by means of a bellows pump even if there occurs a trouble in a means to detect the expansion of first and second bellows.例文帳に追加

第１、第２のべローズの拡張を検出する手段が故障しても、ベローズポンプによる送液動作を行なうことを可能とした基板処理装置の処理液送液装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide means for effectively and economically removing an organic coated film, e.g. a resist film on a substrate in a short time by making use of a processing solution which is safe, even at high temperatures and is useable in regenerative circulation.例文帳に追加

高温でも安全で、循環再生使用ができる処理液を用いて、基体上の有機被膜、例えばレジスト膜を、短時間で効率的かつ経済的に除去する手段を提供すること。 - 特許庁

To present an electrolytically oxidizing method for restraining the deterioration of the COD (or TOC (total organic carbon)) decreasing efficiency when COD (or TOC) of waste photographic processing solution is effectively electrolyzed continuously.例文帳に追加

写真廃液のＣＯＤ（あるいはＴＯＣ）を効果的に、かつ継続して電解する際のＣＯＤ（あるいはＴＯＣ）低減効率の低下が抑止された電解酸化処理方法を提示すること。 - 特許庁