「"processing solution"」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

This adapter for replenishing processing solution for automatic development processing apparatus of photosensitive material features that the adapter for replenishing the processing solution when replenishing the processing solution from the processing solution pack to the tank for replenishing solution of the automatic development processing apparatus of photosensitive material is an adapter to which a hose longer than the distance from a pouring mouth of processing solution pack to a liquid surface of tank for the replenishing solution is attached.例文帳に追加

感光材料自動現像処理装置の補充液用タンクへ処理液パックから処理液を補充する際の処理液補充用アダプタが、該処理液パックの注ぎ口から該補充液用タンクの液面までの距離より長いホースを取り付けたアダプタであることを特徴とする感光材料自動現像処理装置用の処理液補充用アダプタ。 - 特許庁

To properly control the temperature of processing solution stored in tanks.例文帳に追加

タンタ内に収容した処理液の温度を適切に管理できるようにする。 - 特許庁

When the residual amount does not satisfy the amount of the processing solution needed for processing the loaded film, the controller does not supply the processing solution and suspends the processing operation of the film.例文帳に追加

挿入されたフイルムを処理するに必要な処理液の量に満たない場合、処理機に処理液を補充せず、フイルムの処理動作を停止する。 - 特許庁

A cleaning solution (first processing solution) in a processing tank 10 is replaced with an etching solution (second processing solution) for etching.例文帳に追加

そして、エッチング処理を実行すべく、処理槽１０内に存在する洗浄用処理液（第１の処理液）をエッチング用処理液（第２の処理液）に置換する。 - 特許庁

The processing solution 4 is allowed to flow in a collecting tank 12 by a down-flow system.例文帳に追加

処理液４はダウンフロー方式により、回収タンク１２へ流入する。 - 特許庁

To provide management technology of a development processing solution which can reduce the labor for measurement by a densitometer and the management burden of the development processing solution.例文帳に追加

濃度計による測定の手間や現像処理液の管理負担やを軽減することのできる現像処理液の管理技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing device, which is capable of preventing a processing solution from dripping down from nozzles, after the processing solution is sprayed from the nozzles.例文帳に追加

この発明はノズル体から処理液を噴射した後、その処理液がノズル体から滴下するのを防止した基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

Therefore, the processing solution containing chemicals are hardly condensed on the lower surface of the cover 9, so that the substrate can be prevented from being contaminated by the processing solution condensed on the cover 9.例文帳に追加

したがって、薬液を含む処理液がカバー９の下面に結露することはなく、カバー９への結露に起因して基板が汚染されるのを防止できる。 - 特許庁

The evaporation and oxidative deterioration of the processing solution are therefore suppressed.例文帳に追加

このため、処理液の蒸発及び酸化劣化が最小限に抑えられる。 - 特許庁

To prevent a processing solution from flowing to the periphery of a wafer even if the wafer is moved before the processing solution applied on the wafer is not dried out yet.例文帳に追加

基板上に塗布された処理液が乾ききらない間に基板を移動させても処理液が基板周縁部に流出することを防止する。 - 特許庁

METHOD OF PROCESSING DETECTOR HAVING PROBE MOLECULE FIXED THERETO AND AQUEOUS PROCESSING SOLUTION例文帳に追加

プローブ分子が固定された検出具の処理方法及び水性処理液 - 特許庁

The photosensitive material processor including at least an application roller for applying the processing solution to the photosensitive material and a processing solution supply means for supplying the processing solution to the application roller is characterized in that the processing solution supply means is a slot die comprising a manifold and a slit.例文帳に追加

感光材料に処理液を塗布するための塗布ローラと、該塗布ローラに処理液を供給するための処理液供給手段とを少なくとも有する感光材料処理装置において、該処理液供給手段が、マニホールドとスリットからなるスロットダイであることを特徴とする感光材料処理装置。 - 特許庁

To surely replenish a processing solution to a stock tank ST in a processing solution replenishing device S provided with a storage part ST for storing the processing solution sent from a cartridge C and a replenishing means SP for sending the processing solution stored in the storage part ST to a processing tank Ta for processing a photosensitive material.例文帳に追加

本発明は、カートリッジＣから送られる処理液を貯留する貯留部ＳＴと、貯留部ＳＴの処理液を感光材料の処理を行う処理槽Ｔａに送る補充手段ＳＰとを備えた処理液補充装置Ｓにおいて、ストックタンクＳＴへの処理液の充填を確実に行うことを目的とする。 - 特許庁

To suppress leakage of a processing solution between processing tanks due to jamming of a photosensitive material.例文帳に追加

感光材料のジャミングによる処理槽間の処理液のリークを抑制する。 - 特許庁

Air bubbles from a bubbler 30 are supplied to a processing solution in a processing tank 10.例文帳に追加

処理槽１０内の処理液にバブラー３０からの気泡を供給する。 - 特許庁

To provide a cartridge for processing photosensitive materials which prevents a processing solution from spilling and scattering in a place for processing the photosensitive materials or the peripheries thereof in exchanging the processing solution or the like and can prolong the life of the processing solution, and to obtain an apparatus for processing the photosensitive materials.例文帳に追加

処理液の交換等において感光材料を処理する場所やその周囲に処理液がこぼれたり飛散することがなく、処理液の寿命を延長可能な感光材料処理カートリッジ、及び感光材料処理装置を得ること。 - 特許庁

Since the processing solution is cooled by the cooling operation and it becomes hard for pure water to dissolve into IPA, the pure water can be efficiently removed from the processing solution.例文帳に追加

処理液は冷却処理にて冷却されており、純水がＩＰＡに対して溶けにくくされているので、効率的に処理液から純水を除去できる。 - 特許庁

A developing solution as a processing solution is fed into the closed vessel to make the substrate to undergo still development, and then rinses are supplied so as to discharge the processing solution from the closed vessel.例文帳に追加

そして密閉容器内に処理液例えば現像液を供給して静止現像を行い、次いでリンス液を供給して前記処理液を排出する。 - 特許庁

To provide a photographic processing device in which the washing effect of a photographic printing paper carrying mechanism is enhanced without obstructing the maintenance of a processing solution in a processing solution tank.例文帳に追加

処理液槽の処理液のメンテナンスに支障をきたすことなく、印画紙の搬送機構の洗浄効果を高めることの出来る写真処理装置を提供する。 - 特許庁

To protect a processing solution against deterioration and contamination when it is newly fed by a method, wherein a processing solution left in a spray means is collected, after it is sprayed through a spray means.例文帳に追加

スプレー手段により処理液を噴射後にスプレー手段に残存する処理液を回収して、新たな処理液の供給時に劣化及び汚染することを防止する。 - 特許庁

PROCESSING SOLUTION FOR FORMING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE AND PROCESSING METHOD OF LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR例文帳に追加

平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法 - 特許庁

By these arrangements, the processing solution flows out immediately on each processing bath, and the remaining processing solution among each of the holding protrusions 3a to the holding protrusions 6a can be suppressed.例文帳に追加

これにより、処理液は、各処理槽上で直ちに流出して、前記支持凸部３ａ乃至支持凸部６ａ各々同士間の処理液の残留が抑制できる。 - 特許庁

PROCESSING SOLUTION FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理液及びそれを用いた処理方法 - 特許庁

METHOD FOR OXIDIZING WASTE PHOTOGRAPHIC PROCESSING SOLUTION ELECTROLYTICALLY AND METHOD FOR IMPROVING ELECTROLYTIC OXIDATION EFFICIENCY例文帳に追加

写真廃液の電解酸化処理方法及び電解酸化処理効率の改良方法 - 特許庁

To effectively prevent the deterioration of processing solution in accordance with the service circumstances of an automatic developing device.例文帳に追加

自動現像装置の使用状況に応じて効果的に処理液の劣化を防止する。 - 特許庁

PROCESSING SOLUTION HAVING FIXABILITY FOR SILVER HALIDE COLOR PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL AND PROCESSING METHOD例文帳に追加

ハロゲン化銀カラー写真感光材料用の定着能を有する処理液及び処理方法 - 特許庁

METHOD FOR PACKING PROCESSING SOLUTION INTO HOLLOW FIBER AND METHOD FOR PACKING GEL INTO HOLLOW FIBER例文帳に追加

中空繊維への加工液の充填方法および中空繊維へのゲル充填方法 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR ADJUSTING TEMPERATURE OF PROCESSING SOLUTION IN AUTOMATIC DEVELOPING SYSTEM例文帳に追加

自動現像システムの処理液温度調整装置及びその処理液温度調整方法 - 特許庁

To prevent oxidation of processing solution by preventing air from being led in a processing system.例文帳に追加

処理システム中に空気が引き入れられることを防止し、処理溶液の酸化を防止する。 - 特許庁

The processing apparatus a silver halide photosensitive material which stops stirring the processing solution upon detecting a predetermined elapsed time, after processing has ended and stirs the processing solution on detecting the temperature of the processing solution dropping lower than a predetermined temperature.例文帳に追加

処理終了後に所定時間を経過したことを検知すると処理液の撹拌を停止させ、処理液の温度が所定温度よりも低くなったことを検知すると処理液の撹拌を行うように制御したハロゲン化銀写真感光材料の処理装置。 - 特許庁

To provide a substrate processor capable of effectively preventing a processing solution from being entrained to the other surface of the substrate and surely controlling the entrainment of the processing solution when supplying the processing solution to one surface of the substrate while rotating the substrate to process the substrate.例文帳に追加

基板を回転させながら基板の一方面に処理液を供給して処理を行う場合に、基板の他方面への処理液ミストの巻き込みを効果的に防止でき、処理液の回り込みを確実に制御できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

A processing solution is produced by mixing a chemical with pure water from a chemical cartridge 29 via a chemical supply part 27 so that the processing solution is supplied to a processing vessel via a supply pipe.例文帳に追加

薬液カートリッジ２９から薬液供給部２７を介して純水に薬液を混合させて処理液を生成させ、供給管を介して処理槽に処理液を供給させる。 - 特許庁

Furthermore, since the sulfuric acid concentration is held constant, the number of times of use of the same processing solution can be increased until the entire amount is replaced, a consumption amount of the processing solution can be decreased.例文帳に追加

また、硫酸の濃度を一定に保つことにより全量交換までの同一処理液の利用回数を増やすことができるので、処理液の消費量を削減することができる。 - 特許庁

The processing solution ejection part 15 comprises a vertical passage 45 formed by the tip part 41 of the processing solution pipe 25, and a nozzle head 42 connected to the outlet of the up/down passage 45.例文帳に追加

処理液吐出部１５は、処理液配管２５の先端部分４１で形成したアップ・ダウン流路４５と、このアップ・ダウン流路４５の出口に結合したノズルヘッド４２とを有している。 - 特許庁

The processing solution nozzle 3 is retained at a position so that the arriving point 20 of the processing solution 2 on the surface of the substrate W is apart from the rotating center 21 of the substrate W by a predetermined distance 22.例文帳に追加

処理液ノズル３を、基板Ｗの表面における処理液２の着液点２０を、基板Ｗの回転中心２１から所定距離２２離隔した位置に保持する。 - 特許庁

A cooling pipe 273 is installed in each tank 104, and when the temperature of a processing solution 228 exceeds a fixed value, cooling water is passed through the cooling pipe to cool the processing solution 228.例文帳に追加

また、タンク１０４内に冷却パイプ２７３を設置し、処理液２２８の温度が所定値以上になると冷却パイプ２７３内に冷却水を通して処理液２２８を冷却する。 - 特許庁

The electron beam irradiation section 10 directs an electron beam passing through a window 14 to a processing solution 81 on the surface of the object 90 to be processed, so as to activate the processing solution 81.例文帳に追加

電子ビーム照射部１０は、窓１４を通過した電子ビームを処理対象物９０表面上の処理溶液８１に照射して、その処理溶液８１を活性化させる。 - 特許庁

To provide a substrate processor, capable of suppressing or preventing the dropping of a processing solution from a processing solution ejection part over a long time and thereby improving the quality of substrate processing.例文帳に追加

処理液吐出部からの処理液の長時間に渡るぼた落ちを抑制または防止することができ、これにより基板処理の品質を向上できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

This method for oxidizing waste photographic processing solution electrolytically (this method for improving the electrolytic oxidation efficiency) comprises a step to electrolytically oxidize the waste photographic processing solution while diluting the gas to be generated in/emitted from the waste photographic processing solution with air or oxidizing gas-mixed air.例文帳に追加

写真廃液の電解酸化処理において、該処理によって写真廃液中に発生して放出されるガスを空気又は酸化性気体混合空気によって希釈しながら電解酸化することを特徴とする写真廃液の電解酸化処理方法（電解酸化処理効率の改良方法）。 - 特許庁

To provide a printing plate developing device for developing a printing plate by making the development processing solution act on a printing plate prepared to have property that solubility to the development processing solution is different in accordance with an image, which is constituted to have the degree of freedom in the arrangement of the device and prevent the development processing solution from being scattered.例文帳に追加

画像に応じて、現像処理液に対する溶解性が異なる性質を有するように準備された版面に対し、現像処理液を作用させ、版面を現像する版面現像装置に関し、装置の配置に自由度を持たせ、現像処理液の飛散を防止する。 - 特許庁

To obtain a printing plate developing method for developing a printing plate by making the development processing solution act on a printing plate prepared to have property that solubility to the development processing solution is different in accordance with an image, which has the degree of freedom in the arrangement of a device and by which the development processing solution is prevented from being scattered.例文帳に追加

画像に応じて、現像処理液に対する溶解性が異なる性質を有するように準備された版面に対し、現像処理液を作用させ、版面を現像する版面現像方法に関し、装置の配置に自由度を持たせ、現像処理液の飛散を防止する。 - 特許庁

When a processing solution is applied to a silver halide photographic sensitive material containing at least 0.5 g/m2 Ag to process the sensitive material, at least 0.023 mol/l color developing agent is mixed with the processing solution immediately before the application and this color developing agent-containing processing solution is applied.例文帳に追加

少なくとも０．５ｇ／ｍ^2以上のＡｇを含有するハロゲン化銀写真感光材料に処理液を塗布して処理し、この塗布する直前に少なくとも０．０２３モル／ｌ以上の発色現像主薬を処理液に混合し、この発色現像主薬を含有する処理液を塗布する。 - 特許庁

To obtain a substrate processing device, which can eliminate a use amount of a processing solution and can contain a specified chemical solution component of a sufficient amount in the processing solution at the time when a substrate is processed, when the substrate is impregnated in the processing solution having the chemical solution component incidental to a natural deterioration to process it.例文帳に追加

自然劣化を伴う薬液成分を有する処理液に基板を浸漬して処理するにあたって、処理液の使用量を削減するとともに、基板処理時において処理液中に十分な量の所定の薬液成分を含有させることができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a low pressure transportation method and a low pressure transportation system for a processing solution, which can surely prevent the mixing and dissolution of bubbles into the processing solution when the processing solution is transported from a first tank to a second tank even when performing deaeration and degassing in a batch system.例文帳に追加

バッチ方式で脱気・脱泡処理を行う場合においても、処理液を第１タンクから第２タンクへ搬送するに際して、処理液へ気泡が混入溶解されることを確実に防止することが可能な処理液の減圧搬送方法及び減圧搬送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method to reduce corrosivity and toxicity of a used photographic processing solution.例文帳に追加

使用済み写真処理溶液の腐食性および毒性を低下させる方法を提供する。 - 特許庁