「半」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

In a semiconductor device where a first silicon nitride film 10 including hydrogen is laminated and formed as a passivation film on the protective film 3 formed on the semiconductor substrate 1, the second silicon nitride film 5 of a thickness 100-500 Å is formed so as to cover the protective film 3 between the protective film 3 and the first silicon nitride film 10.例文帳に追加

半導体基板１に形成した保護膜３上に水素を含む第１の窒化シリコン膜１０がパシベーション膜として積層形成されてなる半導体装置において、保護膜３と第１の窒化シリコン膜１０の間に、膜厚が１００〜５００Åの第２の窒化シリコン膜５により保護膜３を覆うように形成したものである。 - 特許庁

There are provided a positive pole comprising fluorocarbon in which easily-graphatizable carbon or graphite material with plane interval of (002) plane being 3.50 Å or below is a starting carbon material, a negative pole capable of releasing lithium ion, and an organic electrolyte containing propanesultone, with an open circuit voltage being 3.5 V or lower after preliminary discharge.例文帳に追加

（００２）面の面間隔が３．５０Å以下である易黒鉛化性炭素または黒鉛質材料を出発炭素材料としたフッ化炭素からなる正極、リチウムイオンを放出可能な負極、及びプロパンサルトンを含有する有機電解液を組み合わせ、さらに予備放電後の開路電圧を３．５Ｖ以下とする。 - 特許庁

With the crystallization method, a first amorphous silicon film 6 is deposited on an oxide film 4, that is deposited for improving viscosity having a glass substrate 2 and for preventing contamination by approximately 10-300 Å, and then a silane (SiH4) or disilane (Si2H6) gas is allowed to flow to form a silicon crystal nucleus 8 on the first amorphous silicon film 6.例文帳に追加

結晶化方法は、ガラス基板２との粘着性向上及び汚染防止用として蒸着する酸化膜４上に第１非晶質シリコン膜６を約１０〜３００Å程度蒸着後シラン（ＳｉＨ４）或いはジシラン（Ｓｉ２Ｈ６）ガスをフローしてシリコン結晶核８を第１非晶質シリコン膜６上に形成させる。 - 特許庁

The silver halide emulsion contains silver halide grains comprising silver chloroiodobromide having a silver iodide content of 0.02-2.0 mol% and a silver bromide content of 0.02-5.0 mol% and having at least one layer in which silver iodide is locally present inside each grain, wherein an outermost shell layer not substantially containing iodide has a thickness of 6-100 Å.例文帳に追加

沃化銀含有率０．０２〜２．０モル％であり、かつ臭化銀含有率０．０２〜５．０モル％であり、かつ粒子内部に少なくとも１つの沃化銀局在層を有し、かつ実質的に沃化物を含有しない最外シェル層の厚さが６〜１００Åである塩沃臭化銀を有してなるハロゲン化銀粒子を含有することを特徴とするハロゲン化銀乳剤。 - 特許庁

This electrogalvanized steel sheet excellent in white rust resistance and blackening resistance has a galvanizing layer having an oxidized Zn film with a thickness of 10 to 200 Å, in which the cathode current density in the potential -1100 mV in an aqueous solution of NaCl (0.1 mol/L, 25°C) is ≤40 μA/cm2.例文帳に追加

耐白錆性及び耐黒変性に優れる本発明の電気Ｚｎめっき鋼板とは、厚さ１０Å以上２００Å以下の酸化Ｚｎ皮膜を有するＺｎめっき層であって、ＮａＣｌ水溶液（０．１ｍｏｌ／リットル，２５℃）中での電位−１１００ｍＶにおけるカソード電流密度が４０μＡ／ｃｍ^2以下であるＺｎめっき層を有することを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor laser element is divided into the chips at a high yield, by adjusting the surface roughness Ra of the rear surface, namely, the surface on which the semiconductor layer is not formed of the GaN-based semiconductor substrate composed of a semiconductor wafer, which is constituted by laminating a semiconductor layer upon a hexagonal GaN substrate and has cleavage planes on its side faces to ≤300 Å.例文帳に追加

本発明において、六方晶ＧａＮ基板上に半導体層が積層形成された半導体ウエハーであって、基板であり、また側面に、へき開面を有するＧａＮ系半導体基板の裏面、つまり半導体層が形成されていない面の表面ラフネスＲａが３００オングストローム以下とすることで歩留まり良くチップ分割を行うものである。 - 特許庁

In the color filter comprising a resin matrix and a coloring layer arranged on a transparent substrate, the color filter and the color liquid crystal display device are characterized by having the resin black matrix consisting of particles with ≥1 Ω.cm volume resistivity and a polymer and by having ≤100 Å surface roughness of the resin black matrix.例文帳に追加

透明基板上に樹脂マトリックス、および着色層を設けたカラーフィルターにおいて、上記樹脂ブラックマトリックスが体積抵抗率１Ω・ｃｍ以上の粒子とポリマーからなり、該樹脂ブラックマトリックスの表面粗度が１００オングストローム以下であることを特徴とするカラーフィルター、およびカラー液晶表示装置。 - 特許庁

A lower magnetic pole layer 19 and/or an upper magnetic pole layer 21 is formed by plating of NiFe alloy composed of 76 to 90 mass% Fe in the composition ratio or NiFe alloy which is 130 to 175 Å in average crystal grain diameter and composed of 70 to 90 mass% Fe in the composition ratio.例文帳に追加

下部磁極層１９及び／または上部磁極層２１を、Ｆｅの組成比が７６質量％以上で９０質量％以下、あるいは平均結晶粒径が１３０Å以上で１７５Å以下で且つＦｅの組成比が７０質量％以上で９０質量％以下のＮｉＦｅ合金でメッキ形成する。 - 特許庁

There are provided a positive pole comprising fluorocarbon in which easily-graphatizable carbon or graphite material with plane interval of (002) plane being 3.50 Å or below is a starting carbon material, a negative pole capable of releasing lithium ion, and an organic electrolyte containing ethylene sulfite, with an open circuit voltage being 3.5 V or lower after preliminary discharge.例文帳に追加

（００２）面の面間隔が３．５０Å以下である易黒鉛化性炭素または黒鉛質材料を出発炭素材料としたフッ化炭素からなる正極、リチウムイオンを放出可能な負極、及びエチレンサルファイトを含有する有機電解液を組み合わせ、さらに予備放電後の開路電圧を３．５Ｖ以下とする。 - 特許庁

In the display body including a substrate, a metallic layer and a transparent layer in this order and including an adhesive layer on one face of the substrate opposite to the metallic layer, the metallic layer is an indium vapor-deposited film disposed on the surface of the transparent layer and having ≤6% visible light transmittance and ≤600 Å thickness.例文帳に追加

基体と、金属層と、透明な層とを順に含み、前記基体の金属層とは反対面に粘着剤層を含む金属光沢を有する表示体において、前記金属層が前記透明な層表面上に設けられたインジウム蒸着膜であり、このインジウム蒸着膜の可視光線透過率が６％以下でありかつその厚さが600 オングストローム以下であるようにする。 - 特許庁

This method for producing the corresponding aromatic nitrile by performing the catalytic reaction of the mixed gas containing the alkyl-substituted aromatic hydrocarbon, ammonia and oxygen on the catalyst is provided by using the catalyst constituted by the oxides of vanadium and chromium, having the ≥0.10 and ≤0.30 cc/g total volume of pores of the catalyst having a ≥100 Å diameter, and a carrier.例文帳に追加

アルキル置換芳香族炭化水素とアンモニアおよび酸素を含む混合ガスを触媒上で接触反応させて対応する芳香族ニトリルを製造するに際し、触媒の径が１００Å以上の細孔の全容積が０．１０ｃｃ／ｇ以上０．３０ｃｃ／ｇ以下であるバナジウムとクロムの酸化物および担体から構成される触媒を用いる。 - 特許庁

This titanium sheet superior in the formability can maintain a lubricity with a die and a tool when being formed, without losing the formability of a raw material, and keeps scratch resistance against the die and the tool, by making a Vickers hardness at a load of 200 gf as 170 or less, and a thickness of an oxide film as 150 Å or more, on the surface of the titanium sheet.例文帳に追加

チタン薄板の表面において、荷重２００ｇｆのビッカース硬さを１７０以下にし、更には酸化皮膜の厚さを１５０Å以上にすることにより、素材の成形性を損なうことなく成形時の金型や工具との潤滑性を維持し、更には金型や工具に対する耐疵付き性を確保した、成形性に優れたチタン薄板を得ることができる。 - 特許庁

An electrode catalyst for a fuel cell includes a nitrogen-containing carbon compound which contains 1-20 mass% of nitrogen, has a graphite structure with a distance on the d002 face measured by a powder X-ray diffraction method of 3.40-4.00 Å, and has at least three peaks in a range of 1,200-1,600 cm^-1 of a Raman shift wavenumber in a Raman spectrum.例文帳に追加

１〜２０質量％の窒素を含有し、粉末Ｘ線回折法により測定されるｄ００２面の間隔が３．４０〜４．００Åであるグラファイト構造を有し、ラマンスペクトルのラマンシフト波数の１２００〜１６００ｃｍ^−１の範囲に少なくとも３つピークを有する含窒素炭素化合物を含む燃料電池用電極触媒。 - 特許庁

Ammonium hydrogencarbonate is added in a process for forming a precipitate by adding an alkali to an aq. soln. of a salt of a rare earth element and the resultant cake is separated by solid-liquid separation and fired at 300-900°C to produce the objective rare earth oxide having ≤0.5 μm Fischer diameter, ≥30 m2/g specific surface area and ≤250 Å crystallite size.例文帳に追加

フィッシャー径が０．５μｍ以下、比表面積が３０ｍ^2 ／ｇ以上、且つ結晶子サイズが２５０Å以下の希土類酸化物、および希土類元素の塩の水溶液に、アルカリを添加して沈殿を生成する過程で重炭酸アンモニウムを添加して得られるケーキを固液分離し、３００℃以上９００℃以下で焼成する希土類酸化物の製造方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the compound semiconductor device comprises the steps of acquiring a lower electrode resist pattern 21 of a T-shaped gate electrode, then forming a pattern shrink material 1 in thickness of 3,000 to 40,000 Å on the entire surface, diffusing an acid from the lower layer resist pattern 21 in the shrink material 1, and mixing and baking 7 to crosslink the shrink material 1.例文帳に追加

図１（ロ）に示すように、Ｔ型ゲート電極の下部電極部レジストパタン２１を得た後、パタンシュリンク材１を３０００〜４０００オングストロームの膜厚で全面に形成して、下層レジストパタン２１からの酸をパタンシュリンク材１に拡散させ、パタンシュリンク材１が架橋するミキシングベーク７を行う。 - 特許庁

The sensor is comprised of a membrane capacitor of a structure in which a membrane 12 of a ferroelectric BaTiO3 of a thickness of 30 ML (approximately 120 Å) grown through the use of an MBE method is provided on a lower electrode 10 comprised of an SrTiO3 substrate doped with Nb of a thickness of 0.5 mm and in which a Pd upper electrode 14 is provided by deposition on the membrane 12.例文帳に追加

センサーは、０．５ｍｍ厚のＮｂをドープされたＳｒＴｉＯ_3基板から成る下側電極１０の上にＭＢＥ法を用いて成長させた３０ＭＬ（ほぼ１２０Å）厚の強誘電体ＢａＴｉＯ_3薄膜１２を設け、その上に析出によりＰｄの上側電極１４を設けた構造の薄膜キャパシタから成る。 - 特許庁

To provide spheric porous silica or silica/metal composite particles expressed by specified formula, having 0.1 to 500 μm particle size and substantially 1 sphericity obtained by a circumcircle method, and showing an X-ray diffraction peak from 1 to 5° for (Cu-Kα) and a maximum pore volume at a pore diameter from 15 to 40 Å, and to provide a method for manufacturing the particles.例文帳に追加

特定の式で表され、粒径が０．１乃至５００μｍの範囲にあり、外接円法で求めた真球度が実質上１であり、回折角１乃至５度（Ｃｕ−Ｋα）にＸ線回折ピークを有し且つ細孔径１５乃至４０オングストロームに細孔容積の極大値を有する球状多孔質シリカ乃至シリカ金属複合体粒子及びその製法を提供する。 - 特許庁

The second conductive film 114 is formed of barium, strontium or the like relatively thinner than the first conductive film 110, that is, in the thickness of 100-1000 Å.例文帳に追加

このような半導体メモリ装置及びその製造方法は、ストレージ電極用導電膜を薄く形成し、エッチングがよくできる障壁膜を静電容量確保のため導電膜より相対的に厚く形成することによりストレージ電極形成のための乾式エッチング時遷移金属のストレージ電極の側面蒸着が最小化でき、ストレージ電極間のブリッジが防止できる。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming on a substrate 1 a resist layer 3 containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene and not containing a fluorine atom; performing rendering or exposure of a predetermined pattern shape by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a fluorocarbon-containing developer having a dissolution rate of an insoluble part of less than about 0.5 Å/h.例文帳に追加

基板１上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含みかつフッ素を含有しないレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターン形状の描画又は露光を行う工程と、非溶解部の溶解速度が１時間あたり約０．５Å未満であるフルオロカーボンを含む現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する現像工程と、を含む。 - 特許庁

This removal device and method for the siloxane make the digestion gas containing the siloxane to flow through a packed tower in which an absorbent is packed, and cause the absorbent to absorb the siloxane and remove them, wherein the absorbent has a specific surface area of ≥500 m^2/g, a distribution peak of micro pores between 10 and 30 Å, and is an alkaline-treated active carbon.例文帳に追加

本発明のシロキサン類の除去装置及び方法は、シロキサン類を含有する消化ガスを、吸着剤を充填した充填塔を通過させて前記シロキサン類を前記吸着剤により吸着除去処理するシロキサン類の除去装置及び方法において、前記吸着剤が、比表面積５００ｍ^2／ｇ以上であり、細孔分布ピークが１０〜３０Åの範囲にあり、かつアルカリ処理された活性炭であることを特徴とする。 - 特許庁

The titanium oxide powder contains an anatase-type crystal structure which has an interplanar spacing d of a (101) plane within the range of 3.478-3.562 Å obtained from the half-value width of a diffraction peak of the (101) plane of the anatase-type crystal.例文帳に追加

本発明の基材表面に親水性を付与するためのコーティング液は、少なくとも一部にスルホン酸基又はその前駆基のどちらか一方又はその双方を有する加水分解性シラン化合物又はその部分加水分解物のどちらか一方又はその双方と、アナターゼ型結晶構造を含みこのアナターゼ型結晶の（１０１）面の回折ピーク半値幅から求めた（１０１）面の面間隔ｄ値が３．４７８Å〜３．５６２Åの範囲を満たす酸化チタン粉末とを親水性有機溶媒に分散させたことを特徴とする。 - 特許庁

The crude polyoxyalkylene polyol is produced by using a compound having P=N bond as the catalyst and carrying out an addition polymerization of an active hydrogen compound with an epoxide compound and then brought into contact with a solid acid having 450-1,200 m2/g specific surface area and 40-1,000 Å mean pore diameter to control the remaining content of the catalyst in the polyoxyalkylene polyol to ≤150 ppm.例文帳に追加

Ｐ＝Ｎ結合を有する化合物を触媒として、活性水素化合物にエポキサイド化合物を付加重合して粗製ポリオキシアルキレンポリオールを製造し、次いで、粗製ポリオキシアルキレンポリオールと、比表面積が４５０〜１２００ｍ^2／ｇ、平均細孔直径が４０〜１００Åである固体酸とを接触させ、ポリオキシアルキレンポリオール中の触媒残存量を１５０ｐｐｍ以下に制御することを特徴とするポリオキシアルキレンポリオールの製造方法、及び、該ポリオール誘導体の製造方法。 - 特許庁

This acrylic resin composition comprises a resin component obtained by polymerizing the acrylic alkyl ester in the presence of a crosslinked acrylic ester elastomer having 700-2,000 Å of weight-average particle sizes prepared by polymerization of a monomer mixture composed of an acrylic alkyl ester and a multi-functional compound and further polymerizing a methacrylic ester, which has a specific graft rate and of which a part soluble in methyl ethyl ketone has a specific viscosity.例文帳に追加

アクリル酸アルキルエステル及び多官能性化合物からなる単量体混合物を重合させてなる重量平均粒子径が７００〜２０００Åである架橋アクリル酸エステル系弾性体の存在下に、アクリル酸アルキルエステルを重合し、更にメタクリル酸エステルを重合して得られる樹脂成分からなり、特定のグラフト率を有し、メチルエチルケトン可溶分が特定の粘度を有するアクリル樹脂組成物。 - 特許庁

The self-assembled composition comprising a substantially homogeneous and ordered array of the photographically useful compound and silver and halide atoms in one or more hydrophilic colloid layer of the radiation sensitive image element comprising a support bearing one or more hydrophilic colloid layer, is characterized in that the average minimum distance from each Ag atom in the composition to an atom of the photographically useful compound in the composition is less than 50 Å.例文帳に追加

支持体上に１又は２以上の親水性コロイド層を有してなる感輻射線性画像形成要素において、１以上の親水性コロイド層に、写真的に有用な化合物が、実質的に均質に、かつ、規則的に配列した写真的に有用な化合物と銀原子及びハロゲン化物原子とを含んで成る自己集成型組成物であって、該組成物中の各Ag原子から該組成物中の該写真的に有用な化合物の原子までの平均最短距離が５０Å未満であることを特徴とする自己集成型組成物。 - 特許庁

A crude polyoxyalkylene polyol, prepared by using an alkaline compound as a catalyst, is added with 0.01 to 1.5 wt.% at least one adsorbent chosen from aluminum silicate or magnesium silicate having a specific surface area of from 600 to 1,200 m2/g and an average pore diameter of from 40 to 100 Å to maintain the amount of the residual catalyst in the polyoxyalkylene polyol at 5 ppm or less.例文帳に追加

触媒として、アルカリ性化合物を用いて製造された粗製ポリオキシアルキレンポリオールに、比表面積が６００〜１２００ｍ^2／ｇ、平均細孔直径が４０〜１００Åであるケイ酸アルミニウム、及びケイ酸マグネシウムから選ばれた少なくとも１種の吸着剤を０．０１〜１．５重量％加え、ポリオキシアルキレンポリオール中の触媒残存量を５ｐｐｍ以下に制御するポリオキシアルキレンポリオールの精製方法。 - 特許庁