「へきさくろろ」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

そして、第一流体流通部５側のセル３が第二流体流通部６側のセル３より小さく、隔壁の密度が０．５〜５ｇ／ｃｍ^３、かつ隔壁の熱伝導率が１０〜３００Ｗ／ｍＫである。例文帳に追加

Cells 3 at the first fluid flowing portion 5 side are smaller than the cells 3 at the second fluid flowing portion 6 side, and the partition walls 4 have 0.5-5 g/cm^3 of density and 10-300 W/mK of thermal conductivity. - 特許庁

この焙焼炉を用いて、昇温時に各加熱領域を別々に温度制御しながら、ヘキサクロロイリジウム（IV）酸アンモニウム又はヘキサクロロイリジウム（IV）酸カリウムを６００〜１０５０℃で酸化焙焼することにより品質の安定した酸化イリジウム粉が得られる。例文帳に追加

Using this roasting furnace, an iridium oxide powder having stable qualities is obtained by oxidatively roasting ammonium hexachloroiridate (IV) or potassium hexachloroiridate (IV) at 600-1,050°C while controlling the temperature of the each heating area separately when raising the temperature. - 特許庁

ＩｎＧａＡｓＰ層６ａ，６ｂ，６ｃの価電子帯間のエネルギー障壁は、ＩｎＧａＡｓＰ層が単層の場合に比べて小さくなる。例文帳に追加

An energy barrier among valence bands of the InGaAsP layers 6a, 6b, and 6c is smaller compared to a case of a monolayered InGaAsP layer. - 特許庁

前後左右の側壁部６４ａ〜６４ｄの板厚寸法ｔ１は、天板部６３の板厚寸法ｔ２よりも小さく設定される。例文帳に追加

A plate thickness t1 of the front, rear, right and left sidewall parts 64a-64d is set smaller than a plate thickness t2 of the top plate part 63. - 特許庁

三百八十八　六・七・八・九・一〇・一〇―ヘキサクロロ―一・五・五ａ・六・九・九ａ―ヘキサヒドロ―六・九―メタノ―二・四・三―ベンゾジオキサチエピン＝三―オキシド（別名エンドスルファン又はベンゾエピン）例文帳に追加

(ccclxxxviii) 6,7,8,9,10,10-hexachloro-1,5,5a,6,9,9a-hexahydro-6,9-methano-2,4,3-benzodioxathiepine 3-oxide; endosulfan  - 日本法令外国語訳データベースシステム

ジヒドロミルセノール、オクタン酸アリル、シクロヘキシルプロピオン酸アリル、イソアミルオキシ酢酸アリル、及びシクロヘキシルオキシ酢酸アリルから選ばれる１種又は２種以上を含有する衣料害虫の卵孵化抑制剤。例文帳に追加

The clothes pest egg hatching inhibitor comprises one or more kinds selected from dihydromyrcenol, allyl octanoate, allyl cyclohexyl propionate, allyl isoamyloxy acetate, and allyl cyclohexyloxy acetate. - 特許庁

隔壁の端部分が寄せ集められて隔壁の先端同志が接合され、これにより通路の端部領域の流路断面積が通路の残りの領域の流路断面積よりも小さくされている。例文帳に追加

The end parts of the partitions are gathered and the tips of the partitions are inter-coupled, and thus flow channel cross section of an end region of each passage is set smaller than that of the remaining region of each passage. - 特許庁

Ａ群：塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、塩化セチルピリジニウム、塩酸アルキルジアミノエチルグリシン、塩酸クロルヘキシジン、グルコン酸クロルヘキシジン、クロラミンＴ、クロルアセトアミド、クロルキシレノール、クロルフェネシン、１−（３−クロロアリル）−３，５，７−トリアザ−１−アゾニアアダマンテンクロライド、クロロブタノール、トリクロロカルバニリド、ヘキサクロロフェン例文帳に追加

The group A contains benzalkonium chloride, benzethonium chloride, cetylpyridinium chloride, an alkyldiaminoethylglycine hydrochloride, chlorhexidine hydrochloride, chlorhexidine gluconate, chloramine T, chloroacetamide, chloroxylenol, chlorphenesin, 1-(3-chloroallyl)-3,5,7-triaza-1-azoniaadamantane chloride, chlorbutanol, trichlorocarbanilide, hexachlorophene, etc. - 特許庁

ルイス酸の存在下、シクロヘキセンおよびベンゾイルギ酸エステルを反応させて得られる新規な２−（２’−シクロヘキセン−１’−イル）−２−ヒドロキシ−２−フェニル酢酸エステルを加水分解および還元することによって、２−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−２−フェニル酢酸を製造する。例文帳に追加

The method for producing the 2-cyclohexyl-2-hydroxy-2- phenylacetic acid comprises reacting cyclohexene with benzoyl formate in the presence of a Lewis acid and then hydrolyzing and reducing the obtained new 2-(2'-cyclohexen-1'-yl)-2-hydroxy-2-phenylacetate. - 特許庁

そして、側壁部１５，１６を、上端側よりも下端側の方が外部側に位置するように傾斜させるとともに、垂直方向に対する側壁部１５，１６の内面１５ａ，１６ａの傾斜角を、側壁部１５，１６の外面１５ｂ，１６ｂの傾斜角よりも小さくした。例文帳に追加

The sidewall portions 15 and 16 are tilted so that lower-end sides are positioned outside upper-end portions, and tilt angles of internal surfaces 15a and 16a of the sidewall portions 15 and 16 to a vertical direction are made smaller than tilt angles of external surfaces 15b and 16b of the sidewall portions 15 and 16. - 特許庁

画像データを被記録材へ記録して作成したデジタル写真の焼き増し記録を簡便に行うことができる記録装置を提供する。例文帳に追加

To provide a recorder in which additional print recording of a digital photograph formed by recording image data onto a recording material can be carried out conveniently. - 特許庁

誘引性のある性フェロモンとして知られるｎ−カプロン酸ｎ−ヘキシル、ｎ−カプロン酸（Ｅ）−２−ヘキセニル、ｎ−酪酸ｎ−オクチルに、第四の成分として酢酸ｎ−ヘキシルを加える。例文帳に追加

n-Hexyl acetate is added as a fourth component to n-hexyl n-caproate, 2-hexenyl n-caproate (E) and n-octyl n-butyrate which are known as attractive sex pheromones. - 特許庁

１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンの金属錯体を加水分解して１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン水和物とし、それを脱水して１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトンを得る。例文帳に追加

1,1,1,5,5,5-Hexafluoroacetylacetone is produced by hydrolyzing a metal complex of 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone and dehydrating the obtained 1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetone hydrate. - 特許庁

建材加工用の鉱油・アミン類を主成分とする切削油にＮ−シクロヘキシル−シクロヘキサナミンとシクロヘキシミルベンゼンアミンを主成分とする気化性防錆剤を８重量％混和する。例文帳に追加

This volatile cutting oil comprises a cutting oil for processing building materials mainly composed of mineral oils and amines and, admixed therewith, 8 wt.% of a volatile, rust-preventive mainly composed of N- cyclohexyl-cyclohexanamine and cyclohexyl benzenamine. - 特許庁

本発明のシクロヘキサンカルボニトリルの製造方法は、下記化学式１：で表されるシクロヘキサンカルボアルデヒドオキシムを、無水酢酸と反応させて、下記化学式２：で表されるシクロヘキサンカルボニトリルを得る工程（Ｃ）を含む。例文帳に追加

The method for producing the cyclohexanecarbonitrile includes a step (C) for obtaining the cyclohexanecarbonitrile represented by chemical formula 2 by reacting cyclohexanecarbaldehydeoxime represented by chemical formula 1 with acetic anhydride. - 特許庁

地中１に隔壁１０を形成する際に、その隔壁位置に沿った掘進機による掘削孔毎に配置され、隣接するもの同士を互いに連結して隔壁１０を形成する筒体のエレメント管６である。例文帳に追加

The element pipe 6 as a tubular body is arranged in each hole excavated along a position of the bulkhead by an excavator in the formation of the bulkhead 10 in the ground, and the bulkhead 10 is formed by connecting the adjacent element pipes 6 to each other. - 特許庁

細溝２０の幅は小さく、壁面２００２をなすブロック状の部分１２０４がタイヤ接地時の荷重負荷により変形して開口部２００６が閉塞される。例文帳に追加

A width of each narrow groove 20 is narrow, and a block part 1204 forming a wall surface 2002 obstructs the opening part 2006 by being deformed due to a weight load applied when a tire contacts the ground. - 特許庁

地上から吊り下げた掘削機により泥水１６中で掘削した掘削溝１０の掘削壁面５０を超音波計測装置４４にて計測する掘削壁計測装置に関する。例文帳に追加

The excavation wall surface 50 of an excavation groove 10 excavated in muddy water 16 by an excavator hung from the ground is measured in the ultrasonic wave measurement device 44. - 特許庁

その一対の壁面８は、副副流路の入口を有する副流路６の高さ方向と平行に形成され、且つ、両壁面８の間隔が副流路６の出口６ｂに向かって次第に小さくなる様に、副流路６の軸線に対し傾斜して設けられている。例文帳に追加

The pair of wall surfaces 8 are formed parallel with the height direction of the sub-passage 6 having an inlet of the sub-sub-passage and provided inclining with respect to the axis of the sub-passage 6 so that the spacing of both wall surfaces 8 is gradually reduced toward the outlet 6b of the sub-passage 6. - 特許庁

水溶性の白金塩であるジニトロジアミン白金、ヘキサヒドロキソ白金、ヘキサアンミン白金水酸塩、ヘキサクロロ白金酸塩より選ばれた一種又は二種以上のＡ成分と、グリシン、イミノ二酢酸、ニトリロトリ酢酸より選ばれた一種又は二種以上のＢ成分を含有する白金めっき液を用いる。例文帳に追加

The platinum plating bath includes an A component consisting of one or more kinds selected from the group consisting of diamminedenitroplatinum, hexahydroxoplatinum, hexaammineplatinum hydroxy salt, and hexachloroplatinate of water-soluble platinum salt, and a B component consisting of one or more kinds selected from the group consisting of glycin, iminodiacetic acid, and nitrilotriacetic acid. - 特許庁

（アルドリン、クロルデン、ディルドリン、エンドリン、ヘプタクロル、ヘキサクロロベンゼン、マイレックス、トキサフェン、ポリクロロビフェニル、ＤＤＴ、ポリクロロジベンゾダイオキシン、ポリクロロジベンゾフラン）例文帳に追加

(aldrin, chlordane, dieldrin, endrin, heptachlor, hexachlorobenzene, mirex, toxaphene, polychlorinated biphenyls, DDT, polychlorinated dibenzo-p-dioxins, and polychlorinated dibenzofurans)  - 経済産業省

下半拡幅部２２の掘削と覆工層１４の側壁部１８の破壊撤去とを、側壁部１８の側方の路盤上作業により行う。例文帳に追加

The excavation of the lower half widening section 22 and the fracture removal of the side walls 18 of the lining layer 14 are carried out by work on roadbeds on the sides of the side walls 18. - 特許庁

地中掘削用エレメント１０等の側壁部に、エレメントの外部と連通する側壁部開口１４を形成した。例文帳に追加

In a side wall part of an underground excavation element 10 or the like, a side wall part opening 14 formed to communicate with outer parts of the element 10 is formed. - 特許庁

香料組成物は、シス−３−ヘキセノール、ギ酸シス−３−ヘキセニル、酢酸シス−３−ヘキセニル、プロピオン酸シス−３−ヘキセニル等の香料を含有することが好ましい。例文帳に追加

and it is preferable that the aromatic composition contains aromatic chemical such as cis-3-hexenol, formic acid cis-3-hexenyl, acetic acid cis-3-hexenyl, and propionic acid cis-3-hexenyl. - 特許庁

小孔の流路断面積が排気流通路のそれよりも小さく且つ隔壁の細孔のそれよりも大きい。例文帳に追加

The flowing section area of each small hole is smaller than that of the passage and greater than the pores of the bulkheads. - 特許庁

したがって、カム軸５０が吸気弁側の軸受け６１の内壁と衝突する衝撃力が低減し、衝突音が小さくなる。例文帳に追加

Thus, impact force of the camshaft 50 colliding with an inner wall of the intake valve side bearing 61 reduces to reduce the collision sound. - 特許庁

側壁１４０の周方向に伸びる冷媒流路１４５の少なくとも一部は、上流から下流に向けて漸次断面積が小さくなる。例文帳に追加

At least a part of the refrigerant flow passage 145, extending in the circumferential direction of the side wall 140, is gradually reduced in the cross sectional area thereof from an upstream side to a downstream side. - 特許庁

光学エンジン１０と壁面の距離（Ｈ１）を、たとえば、プロジェクタの外部筐体の厚み程度にまで小さくすることができる。例文帳に追加

A distance (H1) between the optical engine 10 and the wall surface is made nearly the same size as the thickness of the outside housing of the projector. - 特許庁

また、縮径部３２１は、鍔部３２０の方へ向かうにつれて側壁３０の内径が小さくなるよう形成されている。例文帳に追加

Moreover, the reduced diameter part 321 is formed to be reduced in the inner diameter of the sidewall 30 toward the flange part 320. - 特許庁

底部５５に対するベースプレート５０のベースプレート側壁５６の高さを底部に対するディスク５７の高さより小さくする。例文帳に追加

Height of a base plate side wall 56 of a base plate for a bottom part 55 is made smaller than height of a disk 57 for the bottom part. - 特許庁

光源装置１を更に小型化させると、光源収容空間部Ｓ２を小さくすることによって、隔壁Ｗにランプハウス３０が近づくことになり、隔壁Ｗに対向した位置にあるランプハウス３０の側壁３１を隔壁Ｗから離間させる。例文帳に追加

The lamp house 30 comes close to the partition wall W by making the light source apparatus 1 further compact and reducing the size of a light source housing space part S2 to separate the side wall 31 of the lamp house 30 opposed to the partition wall W from the partition wall W. - 特許庁

壁画の制作時期は7世紀最末期から8世紀のごく初期頃と思われる。例文帳に追加

The murals are thought to be created from late seventh century to the vey early eighth century.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

便利堂は1938年（昭和13年）にはコロタイプ印刷による壁画の複製を製作している。例文帳に追加

Benrido produced their printed copies of the murals through the use of collotype printing in 1938.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

清河の画策によって浪士組が江戸へ帰還すると、芹沢、近藤勇らとともに京都に残留。例文帳に追加

When Kiyokawa schemed to have the Roshigumi return to Edo, he stayed in Kyoto with Serizawa, Isamu KONDO among others.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

この搬送流路２７を、その内壁での摩擦抵抗によりケーキを圧搾するように構成する。例文帳に追加

In the transferring passage 27, the cake is pressed and squeezed by the friction resistance in the inner wall. - 特許庁

これら垂直壁５２、下流側壁５４、及びリブ５６は帯電性の材料から作製されている。例文帳に追加

The vertical wall 52, the downstream side wall 54 and the ribs 56 are made from chargeable material. - 特許庁

以下の製法により特定のヘキサピリジルオスミウムジホスフィンロジウムを含む二核金属錯体。例文帳に追加

The dinuclear metal complex containing a specified hexapyridylosmium diphosphine rhodium prepared by the following preparative method. - 特許庁

比較的容易な演算で、反射壁面を絞り込み、伝搬経路探索の演算量を低減すること。例文帳に追加

To narrow a reflecting wall surface by comparatively easy operation, and to reduce the operation quantity for propagation route search. - 特許庁

また、第２の気付けアドレスを用いて、ローカルネットワークへ近隣探索要求を送信する。例文帳に追加

Further, the second care of address is sued to transmit a neighbor search request to the local network. - 特許庁

貯槽構体１０の外周面と掘削壁面の隙間に固化材２９を注入する。例文帳に追加

A hardener 29 is injected into the gap between the outer-periphery surface of the storage structural body 10 and an excavation wall surface. - 特許庁

セラミック基体２０は、高密度ＬＴＣＣ材料により製作され、板体及び側壁を有する。例文帳に追加

The ceramic substrate 20 is fabricated from a high density LTCC material and has plates and side walls. - 特許庁

銅薄膜形成用溶液原料は、銅^+1(アリルトリアルキルシラン)(ヘキサフルオロアセチルアセトン)に対して、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピルのような酢酸エステルを０．０１〜２０．０重量％添加し溶解して構成される。例文帳に追加

A soln. raw material for forming a copper thin film is composed in such a manner that copper+1 (allyltrialkylsilane) (hexafluoro acetylacetone) is added with acetic ester such as butyl acetate, isobutyl acetate, methyl acetate, ethyl acetate and isobutyl acetate by 0.01 to 20.0 wt.%, and they are dissolved. - 特許庁

４−ヒドロキシイミノシクロヘキシル酢酸またはそのエステルを、水素化触媒の存在下、水素と反応させて４−アミノシクロヘキシル酢酸またはそのエステルを製造する。例文帳に追加

4-Hydroxyiminocyclohexyl acetic acid or its ester is reacted with hydrogen in the presence of a hydrogenating catalyst to produce the 4- aminocyclohexyl acetic acid or its ester. - 特許庁

これにより、メモリセル部ＡＲ２用のＭＯＳトランジスタにおいて側壁絶縁膜１０ａの形成幅を小さく、そして、高耐圧回路部用のＭＯＳトランジスタにおいて側壁絶縁膜１０ｄの形成幅を大きくできる。例文帳に追加

Consequently, a side wall insulation film 10a can be formed narrow in a MOS transistor for the memory cell section AR2, while a side wall insulation film 10d can be formed wide in a MOS transistor for the circuit section with a high breakdown voltage. - 特許庁

フロート部２２の外壁３８と本体１４の内壁４０のと間のクリアランスのうち、フロート部２２の上部側のクリアランスを下部側のクリアランスより小さくする。例文帳に追加

In this shut-off valve the upper side clearance of a float part 22 among clearances between the outside wall 38 of the float part 22 and the inside wall 40 of a body 14 is formed smaller than the lower side clearance thereof. - 特許庁