「パルス電子ビーム」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

連続して多数の電子ビームパルスを発生することが可能なパルス電子ビーム発生装置およびこの装置を用いたパルス電子ビーム成膜装置を得る。例文帳に追加

To provide a pulsed electron beam generating device capable of continuously generating a large number of electron beam pulses, and an electron beam film deposition device using the above device. - 特許庁

主として、非常にコンパクトで、短パルス、特に、サブピコ秒の時間幅のパルス電子ビームを生成する短パルス電子ビーム発生装置と、小型パルス電子分光分析装置を提供する。例文帳に追加

To provide a compact short pulse electron beam generating device capable of generating a short pulse, in particular a pulse electron beam in a time period of sub picosecond, and a small-sized pulse electron spectroscopic analyzing device. - 特許庁

複数のパルス状電子ビームに１つのパルス状レーザビームを衝突させて、時間差をおいてＸ線を発生させる。例文帳に追加

To generate X-ray at a time interval by causing a pulsed laser beam to collide with a plurality of pulsed electron beams. - 特許庁

電子ビームのパルス幅を低減した電子加速装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide an electron accelerator with a pulse width of an electron beam reduced. - 特許庁

パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。例文帳に追加

To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding. - 特許庁

飛ばし用パルス信号Ｓ１２の加算量（パルス高）を調整することで、電子ビーム位置の飛ばし量を変えることができる。例文帳に追加

By adjusting the added amount (pulse height) of the pulse signal for skipping S12, the skipping amount of electron beam position can be changed. - 特許庁

短パルス電子ビーム発生装置１０は、電子発生用短パルスレーザー発生装置２０と、フォトカソード高周波電子銃２００と、短パルスレーザーと高周波とを同期させる同期回路４０と、短パルス電子ビームのパルス幅を圧縮するようにしたα電磁石３０とを備えた構成とした。例文帳に追加

The short pulse electron beam generating device 10 is provided with a short pulse laser generating device 20 for generating an electron, a photo cathode high frequency electron gun 200, a synchronous circuit 40 for synchronizing a short pulse laser and a high frequency, and an α electromagnet 30 for reducing pulse duration of the short pulse electron beam. - 特許庁

自由電子レーザー装置において、電子ビームからレーザー光への高い引出効率とフェムト秒領域極短パルスを実現する方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR ACHIEVING HIGH LASER BEAM OUTPUT EFFICIENCY FROM ELECTRON BEAM AND FEMTOSECOND REGION EXTREMELY SHORT-PULSE IN FREE ELECTRON LASER APPARATUS - 特許庁

プラズマ電子銃から発射される電子ビームパルスは、大きい断面積であってエネルギ密度が低いと言う特徴がある。例文帳に追加

An electron beam pulse emitted from a plasma electron gun is characterized by a large cross section and a low energy density. - 特許庁

一方、小型パルス電子分光分析装置は、この短パルス電子ビーム発生装置１０と、分光用短パルスレーザー発生装置８０と、短パルスレーザーと高周波とを同期させる同期回路と、分光分析用試料を透過した短パルスレーザーを測定する測定器とを備えた構成とした。例文帳に追加

The small-sized pulse electron spectroscopic analyzing device is provided with the short pulse electron beam generating device 10, a spectroscopic short pulse laser generating device 80, a synchronous circuit for synchronizing the short pulse laser and the high frequency, and a measuring instrument for measuring the short pulse laser passing though a sample for spectroscopic analyzing. - 特許庁

速度を可変に電子ビーム５を発する電子ビーム発生装置（１１）と、金属製のグレーティング６と、スリット８とを有し、グレーティング６の表面に沿つて電子ビーム５を通過させてレーザ７を放出させると共に、電子ビーム５の速度を周期的に変えて、レーザ７をスリット８を通過させてパルス化させて、パルス・レーザを得る。例文帳に追加

The system for generating a free electron laser comprises a unit (11) for generating a variable speed electron beam 5, a metallic grating 6, and a slit 8 wherein a laser 7 is emitted by passing the electron beam 5 along the surface of the grating 6 and a pulse laser is obtained by varying the speed of the electron beam 5 periodically and passing the laser 7 through the slit 8 while being pulsed. - 特許庁

パルスビーム電流の１パルス分を積分する積分回路１０と、該積分回路１０で積分された１パルス分のビーム電流を一定速度で放電させる放電回路２０と、該放電回路２０による放電時間を測定する計時回路３０とを備えることにより、マイクロトロンで発生する電子ビームのような低周波のパルスビームの電荷量を測定することを可能とした。例文帳に追加

The amount of charges of a low frequency pulse beam such as an electron beam generated by a microtron can be measured by providing an integrating circuit 10 to integrate a pulse beam current for one pulse, a discharge circuit 20 to discharge the beam current for one pulse integrated by the integrating circuit 10 and a clocking circuit 30 to measure a discharge time by the discharge circuit 20. - 特許庁

金属ターゲットの退避位置でパルス電子ビーム１とパルスレーザー光３の衝突で単色硬Ｘ線４を発生し、金属ターゲット４２の衝突位置でパルス電子ビーム１と金属ターゲット４２の衝突により同一の光源位置２ａから特性Ｘ線５を発生する。例文帳に追加

The single-color hard X rays 4 are generated by collision of the pulsed electron beams 1 and the pulsed laser light 3 at the shelter position of the metal target, and the characteristic X rays 5 are generated from the same light source position 2a by collision of the pulsed electron beams 1 and the metal target 42 at the collision position of the metal target. - 特許庁

例えば、レーザ光３がパルスレーザ光であり、電子ビーム１が連続状又はパルスレーザ光のパルス幅と同じかそれより長いパルス幅をもつパルス状の電子ビームである場合は、レーザ光３を検出し、Ｘ線検出データとレーザ光検出データとを、衝突点９に関して時間軸を一致させて乗算して、Ｘ線波形を生成する。例文帳に追加

For instance, if laser light 3 is pulse laser light, and an electron beam 1 is either a continuous beam or a pulsed electron beam with pulse width the same as or longer than that of the pulse laser light, the laser light 3 is detected, the X-ray detection data and laser light detection data are multiplied with a time axis matched concerning the collision point 9 to generate the X-ray waveforms. - 特許庁

チャンバー内に設置された電極に対して直流パルス電圧を印加することによって電子ビームを発生させ、この電子ビームを炭素系材料の表面に照射することで改質を行う。例文帳に追加

An electron beam is generated by applying a direct current pulse voltage to electrodes provided in a chamber, and reforming of the surface of a carbon-based material is carried out by irradiating the surface of the carbon-based material with the electron beam. - 特許庁

電子ビーム（１８）はレーザ空洞（２０）内で光パルス（１６）中の光子と相互作用して、第２の方向（２６）にＸ線（２２）を生成する。例文帳に追加

The electron beam (18) interacts with photons in the optical pulse (16) in the laser cavity (20) to generate an X-ray (22) in the second direction (26). - 特許庁

電子ビームとパルスレーザ光とを衝突させて逆コンプトン散乱によりＸ線を発生させる高輝度Ｘ線発生装置。例文帳に追加

This high-luminance X-ray generation device generates an X-ray by inverse Compton scattering by making an electron beam collide with a pulse laser beam. - 特許庁

低速陽電子パルスビーム寿命測定法による薄膜材料の空孔サイズ計測の精度を向上させるために、従来よりも時間分解能に優れた低速陽電子パルスビーム測定方法及び測定装置を提供することを課題とする。例文帳に追加

To provide a slow positron pulse beam lifetime measuring method and apparatus, which is excellent in time resolution in comparison with conventional ones, in order to improve accuracy of measuring a hole size of a thin film material by a slow positron pulse beam lifetime measuring method. - 特許庁

同期信号発生器が、光共振器内を往復するパルスレーザビームと、マルチバンチ電子ビームとが衝突するように、第１の同期信号と第２の同期信号とを送出する。例文帳に追加

A synchronization signal generator transmits the first synchronization signal and the second synchronization signal to make the pulse laser beam going and returning inside the optical resonator collide with the multibunch electron beam. - 特許庁

前記の電子ビーム照射方法において、エネルギ密度が １ Ｊ／ｃｍ^２以上、パルス照射回数５回以上、パルス幅１μｓ以上で行う。例文帳に追加

The electronic beam irradiation method is performed under a condition that energy density ≥1 J/cm^2, the number of pulse irradiations ≥5 times, and a pulse width ≥1 μs. - 特許庁

電子ビームによって感光される速度で回転する基板Ｗの領域ＭＡに収束される電子ビームを、第２偏向電極１８にパルス電圧ＰＶを印加することで、ブランキングすることなく＋Ｘ方向に周期的に偏向する。例文帳に追加

An electron beam converged to an area MA of a substrate W rotating at a speed to be exposed by the electron beam is deflected periodically to a +X direction without blanking by applying a pulse voltage PV to a second deflection electrode 18. - 特許庁

本発明は、アノードプラズマの存在によって、電子ビーム散乱がなく、大面積のできる低エネルギーパルス電子ビーム装置を使用し、金型材料の平滑化、耐食性の向上、光沢化を行い、また炭素鋼の金型において、表面硬さを向上する金型の表面処理方法である。例文帳に追加

In a surface treatment method for a metal mold, a mold material made of carbon steel is smoothed, improved in corrosion resistance, polished, and improved in surface hardness by using a low energy pulse electronic beam apparatus capable of forming a large area without causing electronic beam scattering due to the existence of anode plasma. - 特許庁

プラズマ電子銃によるエネルギ密度が低く、断面積の大きい電子ビームパルスによって金属の表面改質と表面被覆を一連の作業として実行する装置を提供する。例文帳に追加

To provide an apparatus for performing the surface improvement and the surface covering of a metal as a series of works by the electron beam pulse of low energy density and large sectional area generated by a plasma electron gun. - 特許庁

１１０はセンシング部であり、UWBパルス信号の反射波は電子銃１１１から放出された電子ビームを変調して、その飛跡を蛍光面１１３，ＣＣＤ撮像素子１１４で捕捉する。例文帳に追加

A sensing part is 110, a reflection wave of the UWB pulse signal modulates an electron beam emitted from an electron gun 111, and a track thereof is captured by a fluorescent face 113 and a CCD imaging device 114. - 特許庁

電子ビームを受けることにより入射光の光量に対応したピークレベルを有する画素パルスを含む撮像画像信号を生成する光電変換手段に向けて、電子ビームを放出する電子放出素子各々を所定の駆動周期毎に点順次にて駆動するにあたり、電子放出素子の各々を上記駆動周期よりも所定期間だけ長い期間に亘り駆動する。例文帳に追加

When driving each of electron emitting elements, which emit electron beams to a photoelectric transfer means generating a photographed image signal including pixel pulse having a peak level corresponding to the light volume of incident light by receiving electron beams, at a prescribed drive cycle in point sequence, each of the electron-emitting elements is driven for a longer period by a prescribed period than the drive cycle. - 特許庁

本発明の目的は、マルチビーム光走査装置において水平同期信号周期やパルス間隔の検査を容易にかつ比較的小さな回路規模で実現することが可能なマルチビーム光走査装置およびこれを用いた電子写真装置を提供することである。例文帳に追加

To provide a multibeam optical scanner in which a horizontal synchronization signal period and pulse interval are easily inspected with a comparatively small circuit size, and to provide an electronic photograph apparatus using the multibeam optical scanner. - 特許庁

（一）　ビームのパルスの持続時間が一マイクロ秒以下であって、一、七〇〇にメガ電子ボルトで表した電子の運動エネルギーのせん頭値の二・六五乗を乗じたものに、クーロンで表した加速された電子の全電荷量を乗じた値が〇・二五以上のもの例文帳に追加

1. Electron accelerators or flash X-ray generators with a beam pulse duration of 1 microsecond or less, and with a value of 0.25 or more when 1,700 is multiplied by the result of multiplying the peak value of electron kinetic energy expressed in megaelectron volts raised to the 2.65 power by the total charge quantity of accelerated electrons, expressed in coulombs  - 日本法令外国語訳データベースシステム

窒化処理装置１では、加速電源２２が、加速用陰極１８および加速用陽極１９にパルス電圧を印加することにより、パルス状の電子ビームを反応室４９内に出力し、反応室４９内に窒素プラズマを生成する。例文帳に追加

In the nitriding treatment apparatus 1, an accelerating power source 22 applies a pulse voltage to a cathode 18 for acceleration and an anode 19 for acceleration to make a pulsed electron beam emitted into a reaction chamber 49, and consequently makes the electron beam generate nitrogen plasma in the reaction chamber 49. - 特許庁

カーボンナノホーンの製造方法が、グラファイトからなるターゲット原料をチャンバー内にセットするステップと、大気圧下で、かつ、常温の不活性ガスからなる雰囲気中で、電子加速器から放出される連続電子ビーム又はパルス状電子ビームをターゲット原料に照射することにより、ターゲット原料を溶融、ガス化させるステップを有することを特徴とする。例文帳に追加

A method for producing carbon nanohorns includes: a step of setting a target material comprising graphite in a chamber; and a step of melting and gasifying the target material by irradiating the target material with a continuous electron beam or a pulsed electron beam emitted from an electron accelerator under atmospheric pressure and in an atmosphere at ambient temperature comprising inert gas. - 特許庁

識別された電流構成が所定の範囲内にある場合には、パルス幅変調を用いてイメージング・システムの特定のビューについて電子ビームの負荷サイクルを変調する。例文帳に追加

If the identified current configuration is within a predetermined range, a duty cycle of the electron beam for the particular view of the imaging system is modulated using pulse width modulation. - 特許庁

原信号発生器１０１の出力で電子ビームを偏向すると、蛍光面１１３に一定のリサージュパターンが得られ、UWBパルス信号のセンシングをＣＣＤ画像解析プロセッサ１２０で行うことができる。例文帳に追加

When the electron beam is deflected by the output from the original signal generator 101, a fixed Lissajous pattern is obtained on the fluorescent face 113, and the UWB pulse signal is sensed a CCD image analytical processor 120. - 特許庁

パルス方式の電子ビームによる非平衡プラズマにより高密度ラジカルが生成でき、プラズマ反応におけるエネルギー損失が小さく、かつ、小型、高効率なプラズマ反応装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma reactor which can produce a high-density radical by a non-equilibrium plasma due to an electron beam of a pulse method, has a low energy loss in a plasma reaction, and also is small in size and high in efficiency. - 特許庁

電子ビームをパルス状に照射し、照射位置をアーク放電毎に変更することにより、高い成膜の制御性を得ることができ、ターゲットの有効利用が可能となる。例文帳に追加

This vapor deposition apparatus can obtain high controllability for film formation and can effectively use the target, by irradiating the evaporation surface with the electron beam in a pulse form and changing the position to be irradiated at every time of the arc discharge. - 特許庁

レーザコントローラ（２４）は、レーザビームパルス（７７）を発射するために電子制御動作コントローラ（２５）によってレーザインターフェースコントローラ（２４）に供給されるトリガー信号（９３）と、フラッシュレート（７３）とを実質的にレーザビームパルス（７７）が発生されることになる時間において同期させる同期手段（２７）を含む。例文帳に追加

The laser controller (24) includes a synchronizing means (27) for synchronizing a triggering signal (93) provided to the laser interface controller (24) by the computerized motion controller (25) to fire the laser beam pulses (77) and the flash rate (73) substantially at a time when the laser beam pulses (77) are to be generated. - 特許庁

電子ビーム照射装置１は、負電圧を周期的に発生させる電圧生成器６と、電圧生成器６に接続され、表面が接地された処理対象２に対してインパルスである電子ビーム３を照射するカソード１と、カソード１と処理対象２とを収容可能であり、内部雰囲気を真空に保持可能である真空チャンバ５０とを備える。例文帳に追加

The electron beam irradiating unit 1 includes a voltage generator 6 which generates negative voltage periodically; a cathode 1 connected to the voltage generator 6 and irradiates the object 2 to be treated whose surface is grounded with the electron beam 3 as an impulse; and a vacuum chamber 50 which is able to accommodate the cathode 1 and the object 2 and maintain its internal atmosphere under vacuum. - 特許庁

そして、実際のプリント基板Ｐ上への電子部品の装着する場合において、吸着ノズル５に吸着保持された電子部品の撮像及び認識処理の際に、前記オフセット値をパルス数に換算したパルス数を考慮した位置までビーム４Ａが移動したときに画像取込回路４１が取込指令を発するタイミングに反映させる。例文帳に追加

In the case where an electronic component is mounted on an actual printed board P, when the beam 4A moves to a position set by considering the number of pulses obtained by converting the offset value to the number of pulses in an imaging and recognition process of an electronic component sucked and held to a suction nozzle 5, it is reflected on timing at which an image incorporation circuit 41 issues an incorporation command. - 特許庁

超短パルスレーザＰを導入する導入口４１ｘと、真空または希ガスを封入して成り前記導入口４１ｘから導入した超短パルスレーザＰにより電子を加速させる細孔４１ｚと、前記細孔４１ｚで加速された電子ビームＱ１を被照射体の遺伝子Ｍａを切断するために該遺伝子Ｍａに対して射出する射出口４１ｙとを具備して成るようにした。例文帳に追加

This gene modification apparatus is provided with an inlet 41x for introducing an ultrashort pulse laser P, a fine pore 41z formed by sealing vacuum or rare gas and accelerating electrons by the ultrashort pulse laser P introduced from the inlet 41x, and an outlet 41y emitting electronic beam Q1 accelerated by the fine pore 41z to a gene Ma for cutting the gene Ma of a subject. - 特許庁

陽極板１６には穴又はアパーチャ２２が設けられている結果、電子ビーム２０はそれを通過し、非常に高い周波数の繰返し速度及び非常に速い立上り時間でターゲット１８中にパルス状の高圧電流を生じる。例文帳に追加

The positive electrode plate 16 is provided with a hole or aperture 22, the electron beam 20 resultantly passes through it, and a pulse-like high-voltage current is generated in the target 18 at a repeating rate of a very high frequency, and in a very quick rise time. - 特許庁

（二）　ビームのパルスの持続時間が一マイクロ秒を超えるものであって、一、七〇〇にメガ電子ボルトで表した電子の運動エネルギーのせん頭値の二・六五乗を乗じたものに、クーロンで表した一マイクロ秒の間に加速することができる電荷量の最大値を乗じた値が〇・二五以上のもの例文帳に追加

2. Electron accelerators or flash X-ray generators with a beam pulse duration exceeding 1 microsecond, and having a value of 0.25 or more when 1,700 is multiplied by the result of multiplying the peak value of electron kinetic energy expressed in megaelectron volts raised to the 2.65 power is multiplied by the maximum charge quantity of electrons accelerated for 1 microsecond, expressed in coulombs  - 日本法令外国語訳データベースシステム

ガスクラスターに熱電子を衝突、電離させ発生させたガスクラスターイオンを加速してワークに照射する装置において、リターディング電圧を印加するリターディンググリッド２１、イオンビームをパルス化する偏向電極２４ａ、２４ｂ、ドリフトチューブ２６、ファラデーカップ２７、および電流計測手段２８，２９を備えて、飛行時間法によりイオンのクラスターサイズ分布を計測するようにした。例文帳に追加

After ion irradiating conditions are adjusted so as to have a desired distribution, the ion beam is irradiated to the work 32. - 特許庁