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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 光の波長に関連した英語例文

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光の波長の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 22996



例文

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が1.1を越え1.2以下である露系にてレジスト層を露する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.1-1.2, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate. - 特許庁

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が1.0を越え1.1以下である露系にてレジスト層を露する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.0-1.1, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate. - 特許庁

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が1.2を越え1.3以下である露系にてレジスト層を露する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.2-1.3, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate. - 特許庁

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が1.3を越え1.4以下である露系にてレジスト層を露する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 1.3-1.4, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate. - 特許庁

例文

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が0.93乃至1.2である露系にてレジスト層を露する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン酸化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

A 2-layer structure antireflection coating is formed between a resist layer and a silicon oxide film formed on the surface of a silicon semiconductor substrate, and is used for exposing the resist layer by an exposure system whose numerical aperture is 0.93-1.2, with a wavelength of 190-195 nm. - 特許庁


例文

2層構造反射防止膜は、190〜195nmの波長を有し、開口数が0.93を越え1.0以下である露系にてレジスト層を露する際に用いられる、レジスト層とシリコン半導体基板の表面に形成されたシリコン窒化膜との間に形成され、反射防止膜を構成する上層、下層の複素屈折率N_1,N_2を、N_1=n_1−k_1i,N_2=n_2−k_2iとし、上層、下層の膜厚をd_1,d_2とし、[n_10,k_10,d_10,n_20,k_20,d_20]の値の組合せとして所定の組合せを選択したとき、n_1,k_1,d_1,n_2,k_2,d_2が、以下の関係式を満足する。例文帳に追加

The double layer structure antireflection film is used in exposing a resist layer in an exposure system having a wavelength of 190-195 nm and having a numerical aperture of 0.93-1.0, and is formed between the resist layer and a silicon nitride film formed on the surface of the silicon semiconductor substrate. - 特許庁

基板上に形成されたレジストパターンであって、前記レジストパターンは、有機溶剤、水または水を主成分とする溶剤に対する溶解度の高い有機材料からなる第1のレジスト層と、前記第1のレジスト層上に形成され、露波長に対する吸性の高い有機材料からなる第2のレジスト層と、前記第2のレジスト層上に形成され、ドライエッチングに対する耐性の高い有機材料からなる第3のレジスト層と、の少なくとも3層を有してなる。例文帳に追加

The resist pattern formed on a board comprises a first resist layer made of an organic material having high solubility in water or a solvent containing water as a main component, a second resist layer made of an organic material having high light absorbability to an exposure wavelength, and a third resist layer formed on the second resist layer and made of an organic material having high resistance to dry etching of at least three layers. - 特許庁

紫外線透過フィルタを介して、燃焼炎から発生するを半導体式センサで検出して、燃焼器により炉内に形成される前記燃焼炎を検出する火炎検出器を構成するに、前記紫外線透過フィルタとして紫外線色ガラスフィルタを備えると共に、前記半導体式センサとして、650nm以上の波長領域に感度を有しない半導体式紫外線センサを備えて構成する。例文帳に追加

This flame detector for detecting light generated in combustion flame by a semiconductor type optical sensor via an ultraviolet transmission fliter to detect the combustion flame formed in the furnace by the combustor is provided with an ultraviolet color glass filter as the ultraviolet transmission fliter, and a semiconductor type ultraviolet sensor having no sensitivity in an area having a wavelength of 650 nm or more as the semiconductor type optical sensor. - 特許庁

更にSiに対し減衰深さが深く、従ってSi自身が直接加熱され難い波長のレーザーを用い、該レーザーにおいて、減衰深さの浅い金属膜を該コンタクト領域にのみ選択的に配置することによりSiを間接的に選択局所加熱し、拡散層のイオン注入非晶質領域のみを液相化することにより極浅矩形高濃度不純物分布のソース・ドレイン接合の形成を可能とした。例文帳に追加

The source drain junction of the extremely shallow rectangular high concentration impurity distribution is formed by liquidifying only the ion implantation amorphous region of the diffusing layer using the laser beam, in the wavelength which ensures deep attenuation for Si and makes difficult the direct heating of the Si itself and selectively and locally heating in direct the Si, by selectively allocating a metal film of shallow attenuation depth for the laser beam only to the contact region. - 特許庁

例文

液晶層と前記液晶層の透過を画素ごとに変調可能な複数の画素からなる表示パネルと、映像信号に対応して前記表示パネルの画素の透過を制御する画素電圧印加手段と、前記表示パネルを照明して表示出力する照明手段とを備えた液晶表示装置において、前記照明手段として、屈折率周期構造1を有することで、ブラッグ反射を利用し、ある波長の電磁波を選択的に透過させない構造を特徴としたものである。例文帳に追加

The liquid crystal display has a refractive index periodic structure 1 as the illuminating means so that an electromagnetic wave having a certain wavelength is not selectively transmitted by using Bragg reflection. - 特許庁

例文

炭素数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をAとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をBとしたとき、下記(I)式及び(II)式を同時に満たすセルロ−スエステルを含有する学フィルムであって、更に、波長590nmにおける遅相軸方向の屈折率Nx及び進相軸方向の屈折率Nyが下記(III)式を満たしかつ面内のレタデーションR_0が30nm以上200nm以下であることを特徴とする学フィルム。例文帳に追加

The optical film comprises a cellulose ester having a 2-4C acyl group as a substituent and having the substitution degree A of acetyl groups and the substitution degree B of propionyl or butyryl groups satisfying both of (I): 2.0A+B≤3.0 and (II): A<2.4. - 特許庁

炭素数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をAとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をBとしたとき、下記(I)式及び(II)式を同時に満たすセルロ−スエステルを含有する学フィルムであって、更に、波長590nmにおける遅相軸方向の屈折率Nx及び進相軸方向の屈折率Nyが下記(III)式を満たしかつ面内のレタデーションR_0が30nm以上200nm以下であることを特徴とする学フィルム。例文帳に追加

The optical film comprises a cellulose ester having a 2-4C acyl group as a substituent and the substitution degree A of an acetyl group and the substitution degree B of a propionyl or butyryl group satisfying both of (I): 2.0A+B≤3.0 and (II): A<2.4. - 特許庁

レーザ媒質の両端側に全反射ミラー4および出力ミラー5を相互に対峙するように配設してなるレーザ発振ユニットの前記全反射ミラー4の背部に位置し、前記全反射ミラー4を通過するレーザの出力を検出する出力パワーモニタ用センサを有するレーザ出力モニタにおいて、モニタ対象のレーザ波長領域における前記全反射ミラー4の透過率が、温度変化に対してほとんど変動しなくなるように前記全反射ミラー4を形成したことを特徴とする。例文帳に追加

This laser output monitor having an output power monitoring sensor which is arranged behind a total reflecting mirror 4 of a laser oscillation unit constituted by arranging the total reflecting mirror 4 and an output mirror 5 at both end sides of a laser medium opposite each other and detects the output of laser light passing through the total reflecting mirror 4 is characterized in that the total reflecting mirror 4 has little variation in transmissivity with the temperature. - 特許庁

波長可変フィルタ100は、一対の入力導波路102および出力導波路104と、入力導波路および出力導波路に一定の間隔で配置された結合器130,132と、結合器を介して入力導波路と出力導波路との間を接続するN本のアレー導波路140とからなるラダー干渉型フィルタと、入力導波路および前記出力導波路の屈折率を変化させる手段110,112とを備える。例文帳に追加

The tunable filter 100 includes a pair of input waveguide 102 and output waveguide 104, optical couplers 130 and 132 disposed at a fixed interval in the input waveguide and the output waveguide, a rudder interference type filter comprising N pieces of array waveguides 140 connecting the input waveguide and the output waveguide via the optical couplers and means 110 and 112 changing the refractive indexes of the input waveguide and the output waveguide. - 特許庁

少なくとも2色以上の波長帯域のを透過するカラーフィルターが並列されている反射型カラー液晶表示装置用カラーフィルターにおいて、カラーフィルター10は、透明基板1の上に順に設けられた、白色照明を直進方向とは異なる透過方向へ回折する指向性拡散板2と、その上に設けられた少なくとも2色以上の並列されている吸収型フィルター3とを有する。例文帳に追加

In the color filter for the reflective color liquid crystal display device comprising juxtaposed color filters transmitting light in wavelength bands of at least two or more colors, the color filter 10 is provided with the directional diffusion plate 2 diffracting the white illumination light into the transmission direction different from the linear direction and juxtaposed absorption type filters 3 with at least two or more colors arranged thereon, successively arranged on a transparent substrate 1. - 特許庁

表面に凹凸を有する導電性を有する基板1の表面に、感波長における吸収係数が大きな第1のフォトレジスト層2を形成し、さらにその上に、吸収係数が小さな第2のフォトレジスト層3を形成し、露、現像することにより、精度が良く、かつ、開口部に残渣がない電鋳型6を作ることができるので、基板表面形状を忠実に転写した電鋳部品8を提供する。例文帳に追加

The electroforming mold 6 free from the residue in the opening part is formed with high precision by forming a first photoresist layer 2 having large absorption coefficient in a photosensitive wavelength on the surface of the conductive substrate 1 having the projecting and recessed parts on the surface and further forming a second photoresist layer 3 having smaller absorption coefficient is formed thereon and exposing and developing, thereby providing the electroforming component 8 faithfully transferred of the substrate surface shape. - 特許庁

基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザーに対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザーを該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。例文帳に追加

The transparent conductive film is formed by applying an absorbent-containing liquid containing an absorbent absorptive to laser light to a surface of a transparent conductive film precursor which is formed on a substrate to form a transparent film by sintering, followed by drying, thereby forming an absorbent layer, and irradiating the absorbent layer with laser light having a wavelength to be absorbed by the absorbent layer, thereby sintering the transparent conductive film precursor. - 特許庁

針状電極(pin electrode)と 酸化チタニウムを塗布した板状電極(plate electrode)からなる電極に対し、直流高電圧を印加し、プラズマ放電を発生させ、さらに、電極間に発生する波長が400nm以下の紫外線を利用して、触媒作用を示す酸化チタニウムを活性化させ、触媒の示す酸化作用とプラズマ放電の両者により臭気物質をより完全に分解させることで、高効率に臭気物質を分解する。例文帳に追加

To highly efficiently decompose odor materials by applying a DC high voltage to electrodes composed of a pin electrode and a plate electrode coated with titanium oxide thereby generating plasma discharge, activating the titanium oxide indicating a photocatalytic action by utilizing ultraviolet rays having a wavelength of400 nm generated between the electrodes further and completely decomposing the odor material by both of oxidation action indicated by a photocatalyst and the plasma discharge. - 特許庁

本発明は、酸化イットリウム、酸化スカンジウム結晶粒界へ析出し易いアルミニウムを用いずに、しかも珪素含有量を特に低減した特殊な原料を使用したり、或いは原料を微粉砕する等の必要もなく、汎用の原料を用いて厚さ1mm時の可視帯域波長400〜800nmにおける直線透過率が60%以上となる透性セラミックス焼結体を得ることを課題とする。例文帳に追加

To obtain a translucent ceramic sintered compact, wherein linear transmittance in visible wavelength ranging from 400 nm to 800 nm is60% when the thickness is 1 mm, by using a generally used raw material without using aluminum easily deposited on an yttrium oxide, scandium oxide crystal grain boundary and without necessitating the use of a special raw material in which the content of silicon is particularly reduced or the pulverization of a raw material. - 特許庁

可視領域で実質的に不可視であつて、紫外線により励起されて615±20μmに発中心波長を有するユウロピウムを含む色素と、ポリビニル系樹脂とを含有するとともに、ホスフインオキサイド化合物、ホスフインサルフアイド化合物およびホスフイン化合物の中から選ばれる少なくとも1種のリン系有機化合物を含有し、かつ水または/およびエタノ—ルを溶媒中94重量%以上含有することを特徴とするインク組成物。例文帳に追加

An ink composition comprises a dyestuff which is substantially invisible in the visible light range and contains europium having an emission center wavelength at 615±20 μm upon excitation by ultraviolet rays; a polyvinyl resin; and furthermore, at least one phosphorus organic compound selected from a phosphine oxide compound, a phosphine sulfide compound and a phosphine compound and a solvent containing not less than 94 wt.% water and/or ethanol. - 特許庁

157nmと158nmとの間の波長範囲で複数の近接した間隔のラインを含むスペクトル発を発生させるための分子のフッ素を含むガス混合体で充填された放電チャンバ2と、分子のフッ素にエネルギを与えるパルス放電を発生させる電源回路と結合した一対の電極3a,3bと、放電チャンバ2を取り囲むと共に第1のエタロン6を備える共振器とをそれぞれ設け、第1のエタロン6が複数の近接した間隔のラインの1つを選択し、最大の反射率の選択されたラインに対して、および、比較的低い反射率の選択されないラインに対して配置されて、選択されないラインを削除する。例文帳に追加

The first etalon 6 selects one of adjacent lines, the selected line is arranged with respect to a line that is selected and maximum in reflectance and a line that is not selected and comparatively low in reflectance, and lines which are not selected are eliminated. - 特許庁

本発明による源装置は複数のレーザダイオードと、上記複数のレーザダイオードの近傍に設けられた温度センサと、上記温度センサの出力に基づき上記複数のレーザダイオードの各々の温度を制御することによりその発振波長を制御する制御ループと、上記複数のレーザダイオードから選択される参照レーザダイオードの温度制御条件に従って他のレーザダイオードの温度制御条件を補償する手段とを備えている。例文帳に追加

A light source apparatus includes a plurality of laser diodes, a temperature sensor mounted in neighborhood of the laser diodes, a control loop for controlling an oscillation wave length by controlling temperatures of the laser diodes based on an output of the temperature sensor, respectively, and a means for compensating a temperature control condition of other laser diodes according to a temperature control condition of a reference laser diode selected from the laser diodes. - 特許庁

支持体上に感層及び表面層を有し、表面層が、フィラー、架橋性樹脂、及び下記一般式(I)で表されるアミン化合物を含有し、表面層が、λc輪郭曲線フィルタ0.25mmで粗さ成分を遮断し、λf輪郭曲線フィルタ2.5mmでうねりより長い波長成分を遮断したうねり曲線から得られる算術平均うねりWaが0.05μm以上0.3μm以下であり、かつ輪郭曲線要素の平均長さWSmが0.5mm以上1.5mm以下である電子写真感体とする。例文帳に追加

The electrophotographic photoreceptor has a photosensitive layer and a surface layer on a support, wherein the surface layer contains a filler, a crosslinkable resin and an amine compound represented by general formula (I), wherein A and B represent any one of -CH_2X and -CH_2CH_2Y (X and Y each represent an aromatic residue which may have a substituent). - 特許庁

それぞれ異なる波長域に感度を有するハロゲン化銀乳剤を含有する層を3層以上有するハロゲン化銀感材料において、該ハロゲン化銀乳剤が95モル%以上が塩化銀からなるネガ型ハロゲン化銀乳剤であり、かつ各層に含まれるハロゲン化銀乳剤が共に、形状、組成、粒径が実質的に同一である粒子が全粒子の80%以上であることを特徴とするハロゲン化銀感材料。例文帳に追加

In the silver halide photosensitive material with three or more layers each containing silver halide emulsions having sensitivities in different wavelength ranges, the silver halide emulsions are negative type silver halide emulsions having95 mol% silver chloride content and grains having the substantially same shape, composition and grain diameter occupy80% of all grains in the silver halide emulsions contained in each of the layers. - 特許庁

異なる波長の電磁波を吸収し、電変換しうる複数の電磁波吸収層、各電磁波吸収層を挟む一対の電極、電荷伝送・電荷読み出し部位、及び該一対の電極の少なくとも一方と電荷伝送・電荷読み出し部位とを連結する複数のコンタクト部位から少なくとも構成される画素ユニットを有する撮像素子であって、画素サイズよりも上記画素ユニットが有する電極の内、両最外側の電極の最外表面間の長さの方が小さい多層積層多画素撮像素子。例文帳に追加

Out of the electrodes which were arranged in the pixel unit, length between the outermost surfaces of the electrodes of both of outermost sides is smaller than a pixel size. - 特許庁

LEDエピフィルム20と、このLEDエピフィルム20の第1の面20a上に配置された学的反射面30aと、LEDエピフィルム20の第2の面20b上に配置された学的反射面11aとを有し、LEDエピフィルム20内で発生したを第1の面20aを通して出射する半導体発装置であって、λ_0をLEDエピフィルム20で発生するの発中心波長とし、nをLEDエピフィルム20の屈折率とし、hをLEDエピフィルム20の厚さとし、mを0又は正の整数とし、ξをLEDエピフィルム20で発生するの干渉が無いときの発スペクトルの半値幅としたときに、次式を満足する。例文帳に追加

The semiconductor light emitting device has an LED epitaxial film 20, an optical reflective surface 30a arranged on a first surface 20a of the film 20, and an optical reflective surface 11a arranged on a second surface 20b of the film 20, and outputs the light generated in the film 20 through the surface 20a. - 特許庁

細胞懸濁液内に含有されている細胞Cと他の成分とを分離する遠心分離機と、遠心分離機による細胞Cと他の成分との分離前の細胞懸濁液、または、遠心分離機による細胞Cと他の成分との分離中の細胞懸濁液に対して、細胞懸濁液に含まれる赤血球E中のヘモグロビンに選択的に吸収される波長帯域のレーザを照射するレーザ照射装置18とを備える細胞分離装置100を提供する。例文帳に追加

The cell separation apparatus 100 includes: a centrifugal separator that separates the cells C and other components contained in a cell suspension; and laser irradiation devices 18 for applying a laser beam having a wavelength band selectively absorbed in a hemoglobin in an erythrocyte E contained in the cell suspension, to the cell suspension before or during the separation of the cells C and other components by the centrifugal separator. - 特許庁

基礎面上に可視線の波長よりも小さいピッチで多数の微細凸部(微細構造)A1を配列させた反射防止構造体であって、微細凸部A1が、円又はこの円に内接する多角形の平面形状を有し且つ頂部に向けて平面形状の面積が漸次減少する多段構造を成すものとすることで、当該反射防止構造体を成形するための成形型を容易に作製することを可能にし、微細凸部A1を高精度に形成して反射防止機能のさらなる向上を実現する。例文帳に追加

The antireflection structure is made by arraying a large number of fine protrusions (fine structures) A1 on a base surface with a pitch smaller than a wavelength of visible light ray, wherein the fine protrusion A1 has a circle or a polygonal planar shape which touches the circle internally and forms a multi-step structure in which the area of the planar shape decreases step by step toward the apex part. - 特許庁

本発明に係る紫外線ランプ2は、発部分をなす管7を、オゾン発生可能な第一の紫外線を透過し得る第一の材料で形成されたオゾン発生部10と、上記第一の紫外線を吸収し且つこれより長い波長の殺菌可能な第二の紫外線を透過し得る第二の材料で形成された殺菌部11とから管周方向に分割して構成し、且つこれらを互いに固着してなるものである。例文帳に追加

A tube 7 composing a luminescent part of the ultraviolet lamp 2 is composed by being divided in the tube peripheral direction in an ozone generating part 10 formed by a first material that transmits a first ultraviolet ray capable of generating ozone and a sterilization part 11 formed by a second material that absorbs the first ultraviolet ray and transmits a second ultraviolet ray of a longer wavelength capable of sterilization and fixing both the parts 10, 11 together. - 特許庁

本発明の目的は、短波長レーザー露で形成された高密度のドット潜像にハイブリット現像方式を適用すると、発生しやすい画像濃度の低下やカブリの問題を解決し、更に、小粒径トナーを用いた場合でも十分な画像濃度や高精細のドット画像の再現性が達成される画像形成方法を提供することであり、画像形成方法を用いた画像形成装置を提供することである。例文帳に追加

To provide an image forming method which solves the problems of deterioration in image density and fogging which are easily caused when a hybrid developing system is applied to a dot latent image of high density formed by short wavelength laser exposure, and further, can achieve sufficient image density and the reproducibility of a dot image with high definition even in the case a toner with a small particle diameter is used; and to provide an image forming apparatus using the image forming method. - 特許庁

ホログラムの記録面上に多数の平行な切断面によって水平方向に分割することで多数の線状の分割領域が設定され、多数の分割領域を横断する方向に周期的に異なる波長に対応する振幅情報と位相情報とが記録されており、所定の照明により再生した場合に、再生が、前記ホログラム記録面上の前記各分割領域を通ってそれぞれ平行な平面内を進行するように構成されていることを特徴とする。例文帳に追加

A large number of linear partitioned areas is set by partitioning a hologram recording face along a horizontal direction by a large number of parallel cross-sectional faces, amplitude information and phase information corresponding to a different wavelength are recorded periodically along a direction crossing the large number of linear partitioned areas, and each regeneration light advances within a plane in parallel through each partitioned area on the hologram recording face, when regenerated by prescribed illumination. - 特許庁

アルカリ性媒体中で現像可能であり且つ340ないし390ナノメーターの範囲内の波長の輻射線に対して感受性である化学的に増幅されたネガティブ機能性ホトレジストであって、前記輻射線硬化性ホトレジストは、所定の構造を有するオキシムスルホネート化合物を含む輻射線感受性酸発生剤及びアクリル樹脂、アミノ樹脂、ポリエステル樹脂、又はアルキッド樹脂からなる群より選択される少なくとも一つの酸硬化性樹脂を含むホトレジスト。例文帳に追加

The radiation curing photoresist is a negative function photoresist which is developable in an alkaline medium, is sensitive to radiations of a wavelength within a range of from 340 to 390 nm and is chemically amplified, and includes a radiation sensitive photo-acid generator containing an oxime sulfonate compound having a prescribed structure and at least one acid curing resin selected from the group consisting of an acrylic resin, amino resin, polyester resin or alkyd resin. - 特許庁

少なくとも数ナノメートル以上の補償帯域を有する複数のチャープファイバグレーティング11,12,13が、サーキュレータ14,15,16を介して接続されたことを備えた構成により、複数のチャープファイバグレーティングの持つそれぞれの分散補償量の重ね合わせにより分散補償量が決定されるファイバグレーティング型波長多重伝送用分散補償モジュールを提供できるという作用を有する。例文帳に追加

A fiber grating type dispersion compensation module for wavelength multiplex transmission is configured of a plurality of chirped fiber gratings 11, 12, 13 having compensation bands of at least a few nano-meters or more connected via optical circulators 14, 15, 16, and with this configuration, a dispersion compensation is determined by superposing each dispersion compensation of the plurality of chirped fiber gratings. - 特許庁

共押出法を用いて連続製膜された3層以上のポリエステル層を含んだ積層ポリエステルフィルムにおいて、波長370nmでの線透過率が3%以下、ヘーズが3%以下、厚み方向の屈折率が1.490以上1.505以下、表面粗さRaが3nm以上30nm以下であり、層中の紫外線吸収剤濃度が特定範囲を満足することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。例文帳に追加

In the laminated polyester film continuously formed using a coextrusion method and containing three or more polyester layers, light transmittance at a wavelength of 370 nm is not more than 3%, haze is not more than 3%, a refractive index in a thickness direction is 1.490-1.505, surface roughness Ra is 3-30 nm and the concentration of an ultraviolet absorber in each of layers satisfies a specific range. - 特許庁

画素内に反射領域および透過領域とが並列に配置された第1基板10Aにフォトスペーサ22を形成した後に配向膜11を塗布し、配向膜11に対し配向膜11に吸収される波長帯域の紫外を照射して、配向膜11の配向処理を行い、第1基板10Aに対し第2基板10Bを所定の基板間隔をもって貼り合わせ、第1基板10Aおよび第2基板10Bの間に液晶を注入し、配向制御力により液晶分子が配向された液晶層を形成する。例文帳に追加

A second substrate 10B is stuck to the first substrate 10A at a prescribed interval between substrates, a liquid crystal is injected between the first and the second substrates 10A and 10B and a liquid crystal layer wherein liquid crystal molecules are aligned by alignment controlling force is formed. - 特許庁

隔壁を介在して向かい合う第1パネルと第2パネルを含んでなるプラズマディスプレイパネルにおいて、前記第1パネルの誘電体層上に形成された第1保護膜と、前記第1保護膜上に形成され、300〜500nmの波長領域で最大値の陰極線発(cathod eluminescence)を持つ金属酸化物の含まれた第2保護膜と、を含んでなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルを提供する。例文帳に追加

This plasma display panel comprising by including a first panel and a second panel opposed to each other through a partition wall, is characterized by comprising a first protective film formed on a dielectric layer of the first panel, and a second protective layer formed on the first protective layer and including metal oxide having the maximum cathode luminescence at a wavelength region of 300-500 nm. - 特許庁

波長193nmにおける透過率が液体の路長1mmあたり99%以上である製造方法であって、1,1’−ビシクロヘキシル、exo−テトラヒドロジシクロペンタジエン、およびtrans−デカヒドロナフタレンから選ばれた少なくとも1つの脂環式飽和炭化水素化合物をアルミナ、シリカアルミナおよびゼオライトから選ばれた少なくとも1つの酸化物からなる吸着剤が充填された2本以上のカラムを順に通過させる。例文帳に追加

The method for producing an alicyclic saturated hydrocarbon having transmittance at a wavelength of 193 nm of99% per 1 mm of the optical path length comprises successively passing at least one alicyclic saturated hydrocarbon compound selected from 1,1'-bicyclohexyl, exo-tetrahydrodicyclopentadiene and trans-decahydronaphthalene through two or more columns packed with an adsorbent composed of at least one oxide selected from alumina, silica alumina and zeolite. - 特許庁

マイクロレンズを形成する際の露波長では解像しない微細なパターンの分布状態により露する際の透過量分布を制御するフォトマスクを用いたマイクロレンズの形成方法において使用する、固体撮像素子レンズ用感性樹脂組成物であって、 残膜率飽和露量を前記フォトマスクを介して感性樹脂組成物に照射、現像した時のマスク開口率と残膜率の関係において、マスク開口率が20%から80%の範囲で最小2乗法により直線近似した時のR^2が0.950〜1.000の範囲であることを特徴とする固体撮像素子レンズ用感性樹脂組成物。例文帳に追加

The relation between the aperture ratio of the mask and the film remaining rate when the photosensitive resin composition is irradiated through the photomask with light in the saturation exposure light quantity of the film remaining rate shows that R^2 in linear approximation by a least squares method ranges from 0.950 to 1.000 in a range of 20% to 80% of the mask aperture ratio. - 特許庁

被膜層を設けた金属箔上にポリイミド層を形成した後、前記金属箔とポリイミド層とを分離してポリイミドフィルムを製造する方法において、前記被膜層が3-グリシドキシプロピルトリメトキシシランのような有機シラン化合物により形成されたものであり、前記被膜層におけるケイ素量が、波長分散型蛍X線分析装置で測定したケイ素量として20〜500mg/m^2の範囲であることを特徴する。例文帳に追加

In a method for producing a polyimide film comprising forming a polyimide layer on a metal foil having a coating layer and separating the metal foil from the polyimide layer, the coating layer is formed from an organic silane compound such as 3-glycidoxpropyl trimethoxy silane, and an amount of silicone in the coating layer is 20 to 500 mg/m^2 measured by a wavelength-dispersion type fluorescent X ray analysis device. - 特許庁

入射した放射線を波長が220nm以下の紫外線に変換する、NdをドープしてなるLaF_3結晶、或いはコアバレンス発するフッ化バリウムの如き金属フッ化物結晶からなるシンチレーターと、シンチレーターが発する紫外線を導いて紫外線を電気信号に変換するダイヤモンド薄膜センサーとを具備し、そして放射線を電気信号として取り出すことを特徴とする放射線検出装置である。例文帳に追加

The apparatus for detecting radiation for taking out radiation as electric signals includes: a scintillator for converting incident radiation into ultraviolet rays of wavelength of ≤220 nm, or comprising a LaF_3 crystal doped with Nd and a metal fluoride crystal like barium fluoride emitting core valence; and a diamond thin film sensor for guiding the ultraviolet rays emitted by the scintillator to convert the ultraviolet rays into electric signals. - 特許庁

少なくとも、色材を含有するインクジェット用インクにおいて、 前記色材が、下記一般式(I)で表される化合物又はその塩であり、前記色材の含有量(質量%)が、インクジェット用インク全質量に対して3.0質量%以上であり、 且つ、吸度を測定して得られた、前記インクジェット用インクを2000倍に希釈したインクにおける最大吸収波長(λmax)が、612.0nm以上616.0nm以下であることを特徴とするインクジェット用インク。例文帳に追加

In the ink for inkjet recording comprising at least a colorant, the colorant is a compound represented by general formula (I) or salt thereof, the content of the colorant is more than 3.0% by mass based on the whole mass of the ink for inkjet recording. - 特許庁

セルロース繊維と、バインダ樹脂と、マトリクス樹脂と、を含有する繊維強化複合材料において、前記セルロース繊維は、ネットワーク構造を形成して前記バインダ樹脂に内包されており、前記バインダ樹脂は、前記マトリックス樹脂中で連結した構造を有し、50μm厚換算における波長400〜800nmの平均線透過率が70%以上である、ことを特徴とする繊維強化複合材料を提供する。例文帳に追加

The fiber-reinforced composite material comprises cellulose fibers, a binder resin, and a matrix resin, characterized in that above cellulose fibers form a network structure and are incorporated into the binder resin, the above binder resin has a coupled structure in the above matrix resin, and the composite material exhibits mean light transmission of 70% or higher at a wavelength of 400 to 800 nm in terms of 50 μm thickness. - 特許庁

本発明はすなわちBET比表面積が特定範囲にある波長選択吸収性顔料とヒンダードアミン系耐候安定剤を含有し、紫外線吸収剤は全く含まない樹脂組成物またはこれからなる成形体(A)と、紫外線吸収剤を含む樹脂組成物またはこれからなる成形体(B)とを必須の構成材料とする複合材料であって、少なくとも(B)が受する構成であることを特徴とする複合材料。例文帳に追加

The resin composite material is one essentially consisting of (A) a resin composition containing a wavelength-selective light-absorbing pigment having a BET specific surface area in a specified range and a hindered amine weather resisting stabilizer and containing no UV absorber or a molding therefrom and (B) a resin composition containing an ultraviolet absorber or a molding therefrom, wherein at least (B) receives light. - 特許庁

インスリン依存性糖尿病の患者の膵臓の膵島(ランゲルハンス島)の炎症部位に浸潤したマクロファージにより特異的および選択的に取込まれる性質をもち、且つ特定波長線を吸収して活性化されて蛍を発生させる性質をもつ感受性物質、もしくは膵島の炎症部位に浸潤したマクロファージにより特異的および選択的に取込まれる性質をもち、且つX線の照射を受けると、X線を吸収する性質をもつX線吸収性物質を投与すると、膵臓に励起またはX線ビームを選択的に照射することによって、インスリン依存性糖尿病の線力学的診断と線力学的治療とが可能になる。例文帳に追加

This diagnostic composition or therapeutic agent composition is suitable for a photodynamic diagnosis and a photodynamic treatment of insulin dependent diabetes mellitus. - 特許庁

少なくとも、電子写真感体を帯電し、画像露し、潜像を形成し、トナーによって潜像を現像してトナー像を形成し、転写材へ転写し、転写材上のトナー像を定着手段によって定着する画像形成方法において、電子写真感体が支持体上に少なくとも架橋表面層を有する感層を設けたものであり、該感層が波長400nm〜450nmのに感度を有し、且つ該架橋表面層が少なくとも電荷輸送性構造を有しない3官能以上のラジカル重合性モノマーと1官能性の電荷輸送性構造を有するラジカル重合性モノマーとを架橋硬化することによって形成されたものである画像形成方法。例文帳に追加

The electrophotographic photoreceptor is obtained by disposing on a support at least a photosensitive layer having a crosslinked surface layer, wherein the photosensitive layer has sensitivity to light having a wavelength of 400-450 nm, and the crosslinked surface layer is formed by crosslinking and curing at least a trifunctional or higher functionality radical polymerizable monomer having no charge transport structure and a monofunctional radical polymerizable monomer having a charge transport structure. - 特許庁

例文

この発明の検出器は、p形またはn形Si 基板6の一面に第1電極4が形成され、Si基板6の他面にpn接合を有するSi_1-x1Ge_x1第1混晶層7−1がヘテロエピタキシャル成長により形成され、その第1混晶層の上面にpn接合を有するSi_1-x2Ge_x2第2混晶層7−2がヘテロエピタキシャル成長により形成され、同様にして、pn接合を有するSi_1-xjGe_xj第j混晶層(j=1〜m;x1>x2>…>xm)7−jが順に積層され、その第m混晶層の外面の周辺に第2電極5が形成され、その第m混晶層の外面に入射された混晶比xjに対応する波長λj(j=1〜m)のを検出して、第1,第2電極間に対応する電圧Vjを出力する。例文帳に追加

A light of wavelength λj(j=1-m), corresponding to the mixed crystal ratio xj incident on the outside surface of the m-th mixed crystal layer, is detected and a corresponding voltage Vj across first and second electrodes is output. - 特許庁

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