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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 段階反応に関連した英語例文

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段階反応の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 422



例文

また、ウェーハ上にフォトレジストを塗布する段階、フォトレジスト上にフォトマスクを整列させて露光する段階、ウェーハ上にフォトレジストパターンを形成させる段階、フォトレジストパターンを架橋反応させる段階、及び架橋反応後、フォトレジストパターンをフローベークさせる段階を含む。例文帳に追加

Furthermore, a stage for coating the wafer with the photoresist, a stage for exposing the photoresist while a photomask is arrayed, a stage for forming the photoresist pattern on the wafer, a stage for submitting the photoresist pattern to cross-linking reaction, and a stage for subjecting to flow baking of the photoresist pattern after the cross- linking reaction are included. - 特許庁

第一の処理段階において不飽和カルボン酸をグリシドールと反応させ、引き続いて第二の処理段階においてオルトエステルを反応混合物に添加する。例文帳に追加

An unsaturated carboxylic acid is reacted with glycidol in the first treating stage, then an orthoester is added to the reaction mixture in the second treating stage. - 特許庁

第1反応器は外周にリング状の1加熱炉24を備え、第1反応器内温度は処理の第1段階では200℃以上374℃以下であり、第2段階では、374℃以上650℃以下である。例文帳に追加

The first reactor has the first annular heating oven 24 on the periphery, and the temperature of the first reactor is 200-374°C in the first treatment step and 374-650°C in the second treatment step. - 特許庁

さらに、半導体ウエハの表面に反応層を形成する段階及び前記半導体ウエハの表面に形成された反応層を脱着させてウエハ表面をエッチングする段階を含む。例文帳に追加

Further, this method is provided with a step for forming a reaction layer on the surface of the semiconductor wafer, and a step for etching the surface of the wafer by detaching the reaction layer formed on the surface of the semiconductor wafer. - 特許庁

例文

酵素反応反応コイルは、過酸化水素を生じる段階を含む酵素反応を行なうための反応コイルであって、少なくともその内表面が樹脂から成る。例文帳に追加

The reaction coil for oxygen reaction is a reaction coil for performing an oxygen reaction, including a stage for generating hydrogen peroxide, and at least the inner surface is made of resin. - 特許庁


例文

段階反応で、広範囲な種類の反応基質に対して適用することができ、簡便に、短時間で、しかも高い反応収率で目的とするシアノ置換化合物等の置換反応有機化合物を合成する。例文帳に追加

To provide a method for photosubstitution reaction of an organic compound by which application to a wide range of kinds of reactional substrates can be made in stage-reaction and a substitution-reaction organic compound such as the objective cyano-substituted compound, etc. is simply synthesized in a high reactional yield in a short time. - 特許庁

該層状ニオブ酸化物と炭素数が8より大きいアルキル基を含まないアルキルアンモニウムとを水溶液中で反応させる第1段階、及び該第1段階の生成物と所望の炭化水素アンモニウムとを水溶液中で反応させる第2段階から成る吸着剤の製法である。例文帳に追加

The method for manufacturing the adsorbents comprises a first step in which the layered niobium oxide reacts with an alkylammonium containing no >8C alkyl group in an aqueous solution and a second step in which a product of the first step is reacted with the hydrocarbon ammonium salt in an aqueous solution. - 特許庁

本方法は、それぞれが少なくとも1つのポリマーPと、少なくとも2つのモノマーを含む反応性希釈剤とを含む複数の混合物を生成する段階と、前記混合物を共軸層の形態で付着して層間で相互拡散を行わせる段階と、最後にポリマーPおよび/または反応性希釈剤を架橋させる段階とを含む。例文帳に追加

All of acrylate functional groups are consumed and, in the resultant crosslinked polymer structure, migration between polymer chains is substantially impossible. - 特許庁

基板上部に配線を形成する段階;アニーリングを実施して配線上に層間反応層を形成する段階;層間反応層を経由して配線と電気的に連結される導電層を形成する段階を含む配線の接触構造形成方法。例文帳に追加

The method of forming the contact structure of wiring contains a step of forming the wiring on the upper face of a substrate, a step of forming an interlayer reactive layer on the wiring by performing an annealing, and a step of forming an electrically conductive layer that is to be electrically connected to the wiring via the interlayer reactive layer. - 特許庁

例文

(a)アルカリ金属、アルカリ土類金属またはアンモニウムのアルカノアートと金属前駆体を水溶液にて反応させて金属アルカノアートを製造する段階、(b)上記金属アルカノアートを濾過及び乾燥する段階、及び、(c)段階(b)の金属アルカノアートを熱処理する段階を含む。例文帳に追加

The method includes the following steps: (a) an alkanoate of an alkali metal, an alkaline earth metal or ammonium is reacted with a metal precursor in an aqueous solution to prepare the metal alkanoate, (b) the metal alkanoate is filtered and dried, and (c) the metal alkanoate in step (b) is subjected to a heat-treatment. - 特許庁

例文

プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。例文帳に追加

The method for depositing thin films of metal oxides on a substrate in a reaction vessel of an atomic layer vapor deposition apparatus using plasma includes a step of supplying raw metal compounds into the reaction vessel, a step of supplying gaseous oxygen into the reaction vessel, and a step of generating oxygen plasma in the reaction vessel during the predetermined time. - 特許庁

半導体基板を蒸着工程の行われる反応チャンバ内にローディングする段階、前記反応チャンバ内に低温で分解可能な窒素元素を含む窒素雰囲気ガスを投入して前記反応チャンバ内を窒素雰囲気に形成する段階及び前記反応チャンバ内にシリコンソースガス及び酸素ソースガスを投入して前記半導体基板上にシリコンオキシド層を蒸着する段階を含む。例文帳に追加

The method comprises the step of loading a semiconductor substrate into the reaction chamber for performing deposition, the step of charging nitrogen atmosphere gas which contains a nitrogen element decomposable at low temperature into the reaction chamber to generate a nitrogen atmosphere in the reaction chamber, and the step of charging silicon source gas and oxygen source gas into the reaction chamber to deposit a silicon oxide layer on the semiconductor layer. - 特許庁

プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。例文帳に追加

The method for forming a metal oxide film on the substrate in the reactor of atomic layer depositing equipment, using the plasma includes a step of feeding metal material compound into the reactor, a step of feeding oxygen gas into the reactor, and a step of producing oxygen plasma during a prescribed time inside the reactor. - 特許庁

また、本発明に係るカーボンナノチューブの成長方法は、前記反応装置にカーボンを含むガスを導入させて、化学気相堆積法でカーボンナノチューブを成長させる段階と、所定のスピードにより前記反応装置の反応容器の内部圧力を連続的に低減させる段階と、前記反応容器に先端が異なるカーボンナノチューブを成長させる段階と、を含む。例文帳に追加

This growth method of carbon nanotube contains a step in which a gas containing carbon is introduced to the reaction unit and carbon nanotube is grown by chemical vapor-phase deposition method, a step in which the inner pressure of the reaction vessel of the reaction unit is continuously decreased at a specified speed, and a step in which carbon nanotubes with different tips are grown in the reaction vessel. - 特許庁

プラズマを用いる原子層蒸着装置の反応器内において基板上に金属酸化物膜を形成する方法であって、反応器内に金属原料化合物を供給する段階と、反応器内に酸素ガスを供給する段階と、反応器内に所定時間中に酸素プラズマを生じさせる段階と、を含む金属酸化物膜の形成方法。例文帳に追加

The method for forming a metal oxide film on the substrate in a reactor of an atomic layer vapor deposition apparatus using plasma includes: a step of supplying a metallic source compound into the reactor; a step of supplying oxygen gas into the reactor; and a step of generating oxygen plasma during a predetermined time in the reactor. - 特許庁

1,2−ジカルボン酸誘導体の製造工程を2段階反応から1段階反応に短縮をすることにより、反応副生成物による収率の低下や製品の分離精製時の煩雑さを解決し、1,2−ジカルボン酸誘導体を効率よく得る製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently producing a 1,2-dicarboxylic acid derivative by solving the reduction of yield and comlexity at separation and purification of a product, caused by reaction by-products by shortening the production steps of the 1,2-dicarboxylic acid derivative from two step reaction to one step reaction. - 特許庁

約2:1のモル比でアクリルニトリル及びエチレンジアミンを反応させ、N,N’−ビス(シアノエチル)−1,2−エチレンジアミン反応生成物を製造する段階、そして当該反応生成物を水素化する段階を含む、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)−1,2−エチレンジアミンの製造法に関する。例文帳に追加

This invention relates to a method for producing N,N'-bis(3-aminopropyl)-1,2-ethylenediamine comprising a step in which N,N'-bis(cyanoethyl)-1,2-ethylenediamine reaction product is produced by reacting acrylonitrile and ethylenediamine by a molar ratio of approximately 2:1 and a step in which the reaction product is hydrogenated. - 特許庁

また,本発明に係る酸化触媒装置制御方法は,定着装置の内部から発生されたキャリア蒸気を吸い込む段階と,吸い込まれたキャリア蒸気を液化処理させる段階と,キャリア蒸気のうち液化されないキャリア蒸気を酸化分解反応する第1酸化分解段階およびキャリア蒸気のうち液化されたキャリアを酸化分解反応する第2酸化分解段階を含む。例文帳に追加

The oxidation-catalyst apparatus control method comprises a process of sucking the carrier vapor generated from the inside of the fixing apparatus, a process of liquefying the sucked carrier vapor, a 1st oxidation-decomposition process of attaining the oxidation decomposition reaction of the non-liquefied carrier vapor among the carrier vapor, and a 2nd oxidation-decomposition process of attaining the oxidation decomposition reaction of the liquefied carrier among the carrier vapor. - 特許庁

寒天ゲルを溶解可能な抽出溶媒に紅藻類を一定時間浸漬して、前記抽出溶媒により寒天ゲルを溶解する段階と、前記溶解された寒天ゲルを反応溶媒と反応させて繊維質に変換する段階と、前記繊維質を硬化剤により硬化させる段階と、前記硬化された繊維質をパルプ化させる段階と、を含む紅藻類を用いたパルプと紙の製造方法。例文帳に追加

The method of manufacturing the pulp and the paper using Rhodophyta includes a step of immersing Rhodophyta in an extraction solvent capable of dissolving agar gel for a predetermined time period to dissolve the agar gel in the extraction solvent, a step of reacting the dissolved agar gel with a reaction solvent for conversion into a fiber, a step of curing the fiber using a curing agent, a step of pulping the cured fiber. - 特許庁

トロポロンをアンモニア水からなる反応媒体中で、反応媒体を加熱し、反応原料および2−アミノトロポンの分解しない時間で、式1の工程により反応が進行する条件で反応させ一段階で2−アミノトロポンを生成させることを特徴とする2−アミノトロポンの製造方法。例文帳に追加

This method for producing the 2-aminotropone is characterized by thermally reacting tropolone with ammonia in a reaction medium comprising ammonia water in conditions proceeding the reaction in a process of formula 1 for a time not decomposing the reaction raw materials and the 2-aminotropone to produce the 2-aminotropone at one step. - 特許庁

したがって、本発明に係る反応容器では、反応領域において反応を行った後に、隔壁を加熱して融解させることで、隔離していた試薬を所望のタイミングで反応領域に放出することでき、次の段階反応を蓋の開封を伴わずに連続して行うことができる。例文帳に追加

Thus, in this reaction vessel, after conducting the reaction in the reaction region, by melting the partition wall on heating, the reagent separated can be released into the reaction region at a desired timing, thus enabling subsequent reaction to be conducted in consecutive fashion, without having to unseal the lid of the reaction vessel. - 特許庁

これにより、アンモニア性窒素の硝化反応を亜硝酸の段階で止めて、硝化反応時の酸素の供給量と、還元反応時の水素供与体の供給量とを低減することができる。例文帳に追加

Consequently, with nitrification reaction of ammonia nitrogen stopped in the stage of nitrous acid, the supply quantity of oxygen during the nitrification reaction and the supply quantity of a hydrogen donor during the reduction reaction are reduced. - 特許庁

炭化水素化合物に対し、改質反応、シフト反応、CO酸化反応という多段階の化学的工程を経て水素リッチな燃料ガスを生成するシステムを構成する。例文帳に追加

A fuel gas generating system is constituted which generates hydrogen-rich fuel gas by applying a multiple step chemical process comprising a reforming reaction, a shift reaction and CO oxidization reaction. - 特許庁

フェライトを反応媒体とする二段階水分解熱化学サイクルによって水素を製造する方法において、1400℃以下の比較的低温でも優れた高反応性とともに、優れた反応媒体のサイクル性を得ること。例文帳に追加

To attain excellent high reactivity at a relatively low temperature of ≤1,400°C and excellent cyclability of a reaction medium in a method of producing hydrogen by a two step water decomposition thermochemical cycle using ferrite as the reaction medium. - 特許庁

水蒸気改質反応への移行段階において少量の水を正確に供給することができ、部分酸化改質反応から水蒸気改質反応へと円滑に移行することが可能な燃料電池システムを提供すること。例文帳に追加

To provide a fuel cell system, capable of accurately supplying a small quantity of water at a transition stage to a steam reforming reaction and smoothly transferring from a partial oxidation reforming reaction to steam reforming reaction. - 特許庁

置換反応を異なる温度で低い温度から多段階に行ったり、あるいは置換反応反応液中の水分量を5質量%以下に維持しながら行う。例文帳に追加

The substitution reaction is carried out by raising the reaction temperature in multiple steps from a low temperature or keeping the water content of the reaction liquid to ≤5 mass%. - 特許庁

上記反応物調合の段階はアルミ粉1を一個の表面改質剤と均一に混合させて一個の反応物を形成させ、そして上記反応物を一個の容器の中に入れる。例文帳に追加

In the step of the reactant preparation, aluminum powder 1 is uniformly mixed with one surface modifier to form one reactant, and then, the reactant is charged to one vessel. - 特許庁

原料の投入前、反応中、反応後のいずれの段階においても、反応器気相部の酸素濃度を特定の低濃度範囲に維持できる、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a hydroxyalkyl (meth)acrylate, by which the concentration of oxygen in the gas phase portion of a reactor can be maintained in a specific low concentration range at any stage before the charging of a raw material, during the reaction and after the reaction. - 特許庁

フォトレジストを膨潤させるか、クラックを発生させるか、または剥離させるように第1反応物でフォトレジストを処理する段階、フォトレジストを化学的に変性させるように第2反応物で処理する段階、化学的に変性されたフォトレジストを第3反応物で除去する段階を含むフォトレジスト除去方法である。例文帳に追加

The method of removing photoresist includes the steps of treating the photoresist using a first reactant so as to swell, crack, or peel the photoresist, processing the photoresist using a second reactant so as to chemically modify the photoresist, and removing the chemically modified photoresist using a third reactant. - 特許庁

反応器内に処理基板を提供する段階と、前記反応器内にシリコン系ガスと炭素系ガスとを注入する段階と、前記処理基板の表面で前記シリコン系ガスおよび前記炭素系ガスを化学反応させ、炭化シリコンを含む垂直配向膜を前記処理基板上に形成する段階と、を含むことを特徴とする垂直配向膜の製造方法。例文帳に追加

The manufacturing method for vertical alignment layer includes a stage of supplying a processed substrate into a reactor, a stage of injecting silicon-based gas and carbon-based gas into the reactor, and a stage of subjecting the silicon-based gas and carbon-based gas to chemical reaction on a surface of the processed substrate to form a vertical alignment layer containing silicon carbide on the processed substrate. - 特許庁

即ち、本発明は、有機溶媒中でアルコールとスルフィドとの混合物を用意する段階、この混合物にSO_2X_2(式中、Xはハロゲン原子を表す。)を反応させる段階、この反応生成物にアミン又は含窒素へテロ環化合物を反応させる段階から成るカルボニル化合物の製法である。例文帳に追加

Namely, the method for producing a carbonyl compound comprises a step for preparing a mixture of the alcohol with the sulfide in an organic solvent, a step for reacting the mixture with SO_2X_2 (X is a halogen atom), and a step for reacting the reaction product with an amine or a nitrogen-containing heterocyclic compound. - 特許庁

層40の堆積は、(i)第1流量において、第1反応物質が真空チャンバ内へと流入する段階、(ii)真空チャンバ内への第1反応物質の流入を、第2流量に低下させる段階、および(iii)第1反応物質の真空チャンバ内への流入を、第3流量へと増加させる段階を連続して行うことによって実施される。例文帳に追加

The layer 40 is piled up by the continuous steps of a first reaction substance is allowed to enter a vacuum chamber at a first flow rate, the inflow of the first reaction substance into the vacuum chamber is lowered to that of a second lower flow rate, the inflow of the first reaction substance into the vacuum chamber is increased in steps to a third flow rate. - 特許庁

重金属および臭素を含有する触媒、および反応溶媒の存在下、テトラアルキルビフェニルを、酸素含有ガスにより酸化してビフェニルテトラカルボン酸を製造する方法であって、反応温度が80〜165℃の範囲内で行う第一段階および反応温度が170〜250℃の範囲内で行う第二段階の二段階からなることを特徴とするビフェニルテトラカルボン酸の製造法。例文帳に追加

This method for producing the biphenyltetracarboxylic acid comprises oxidizing a tetraalkylbiphenyl with an oxygen-containing gas in the presence of a catalyst containing a heavy metal and bromine and a reaction solvent and consists of a first stage in which the reaction is carried out at 80-165°C and a second stage in which the reaction is carried out at 170-250°C. - 特許庁

半導体基板上に多数の金属配線を形成する段階;ビアホールが形成される領域の前記金属配線上に反応防止膜を形成する段階;前記反応防止膜を含む前記半導体基板上に層間絶縁膜を形成する段階;前記反応防止膜の上部の前記層間絶縁膜をエッチングしてビアホールを形成する段階;前記ビアホール内部にビアプラグを形成する段階を含む半導体素子の製造方法。例文帳に追加

This manufacturing method of a semiconductor element includes steps of forming: multiple metal wires on a semiconductor substrate; a reaction prevention film on the metal wires in a region with via holes formed therein; an interlayer insulation film on the semiconductor substrate including the reaction prevention film; via holes by etching the interlayer insulation film above the reaction prevention film; and the via plugs in the via holes. - 特許庁

a)反応ガスを反応器中で触媒溶液の存在下に酸化し、その際に触媒溶液の液滴を含有する反応混合物が生じ、そしてこれを b)第一の分離器に導きそしてそこにおいて触媒溶液の液滴を反応混合物から除きそして c)残留する反応混合物を第一分離器からスクラバーに導きそしてそこにおいて酸化生成物を反応混合物から除く各段階を含む、触媒溶液の存在下に反応ガスを酸化する方法の改善。例文帳に追加

To provide a production process for acetaldehyde in which the separation of a catalyst is improved. - 特許庁

ポリアルキレンテレフタレートをジメチルテレフタレートに200〜250℃で溶解する段階と、該ポリアルキレンテレフタレート溶液とメタノールとを反応させる段階と、得られたモノマーを回収する段階とを含むポリアルキレンテレフタレートからモノマーの製造方法を提供する。例文帳に追加

The method for producing monortiers from a polyalkylene terephthalate comprises a step to dissolve the polyalkylene terephthalate in dimethyl terephthalate at 200-250°C, a step to react the obtained polyalkylene terephthalate solution with methanol and a step to recover the produced monomers. - 特許庁

本発明に係るカーボンナノチューブアレイの成長方法は、基材を準備する段階と、該基材に触媒を形成する段階と、反応ガスを導入して、所定の温度で前記基材にカーボンナノチューブアレイを成長させる段階と、を含む。例文帳に追加

The method for growing the carbon nanotube array includes a step for preparing a base material, a step for forming a catalyst on the base material, and a step for growing the carbon nanotube array on the base material at a prescribed temperature by introducing a reactive gas. - 特許庁

酸素含有ルテニウム化合物を担体に担持させる段階と、前記酸素含有ルテニウム化合物の解離酸素とルテニウムとが反応しない温度で、前記担体を乾燥する段階と、乾燥した前記担体に担持されたルテニウム化合物を還元する段階とからなるルテニウム触媒製造方法。例文帳に追加

The ruthenium catalyst production method comprises the steps of allowing a carrier to carry an oxygen-containing ruthenium compound, drying the carrier at a temperature at which the oxygen dissociated from the oxygen- containing ruthenium compound does not react with ruthenium, and reducing the ruthenium compound carried by the carrier. - 特許庁

珪藻土を酸性溶液に溶解させる段階、溶解された珪藻土に塩基溶液を添加してシリカを沈澱させて回収する段階、及び回収されたシリカに還元剤を混合し、還元反応を引き起こしてシリコンを得る段階を含む。例文帳に追加

The production method of the high purity silicon includes the steps of: dissolving diatom earth into an acidic solution; adding a basic solution into the dissolved diatom earth to precipitate and recover silica; and mixing a reducing agent with the recovered silica to cause reduction reaction to obtain silicon. - 特許庁

植物性油脂を分画する段階;前記の分画された植物性油脂を脂肪酸誘導体と混合し、原料油脂を製造する段階;及び、前記の原料油脂を酵素的エステル交換反応させる段階で製造されたチョコレート用及び製菓用ココアバター代替油脂。例文帳に追加

There is provided the alternative oil and fat for cocoa butter for chocolate and for confectionery coatings, produced by steps of fractionating vegetable oil and fat, mixing the fractionated vegetable oil and fat with a fatty acid derivative to produce raw material oil and fat, and applying the raw material oil and fat to enzymatic transesterification. - 特許庁

DCマグネトロンスパッタリング反応器で使用するマグネトロンは、堆積段階では小さい直径で回転でき、クリーニング段階では大きい直径で回転でき、それにより堆積スパッタリング軌道の外側に再堆積したスパッタ材料は、クリーニング段階で除去される。例文帳に追加

A magnetron to be used in a DC magnetron sputtering reactor can be rotated at a smaller diameter in a deposition stage, and can be rotated at a large diameter in a cleaning stage, and the sputtering material re-deposited outside the deposition sputtering track is removed in the cleaning stage. - 特許庁

サリサイドプロセスは、基板200の上に金属層210を形成する段階と、ラピッドサーマルプロセス(RTP)を行ってシリコン表面上にサリサイド層212を形成する段階と、反応しなかった金属層210を除去する段階とを含む。例文帳に追加

The salicide step includes a step for forming a metallic layer 210 on the substrate 200, a step for forming a salicide layer 212 on a silicon surface in a rapid thermal process(RTP), and a step for removing a metallic layer 210 that is not reactivated. - 特許庁

「集積回路」は電子的機能を果たす完成品又は中間段階の製品で、電子反応を誘発する素子により構成されている。例文帳に追加

"Integrated circuits" is a product in a final or an intermediate form performing an electronic function consisting of elements which can stimulate an electronic reaction. - 特許庁

DERAを触媒とした一段階アルドール反応によってβ−ケトールを合成する方法が提供される。例文帳に追加

The method for synthesis of a β-ketol by one step aldol reaction uses the DERA as a catalyst. - 特許庁

熱輸送媒体(4)は、主要には、第1段階の改質反応で形成された、水素、二酸化炭素、メタノール蒸気及び水蒸気を含む。例文帳に追加

This heat transfer medium 4 mainly includes the hydrogen, carbon dioxide, methanol vapor and steam formed by a first stage of the reforming reaction. - 特許庁

段階反応方法により、プロピレンからアクリル酸を、簡便かつ安価に、しかも安定して製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing acrylic acid from propylene by a one-stage reaction method simply, inexpensively and stably. - 特許庁

段階反応で、環状炭化水素基を有するエポキシ化合物を高い収率で得ることができる。例文帳に追加

To provide a method for producing an epoxy compound having a cyclic hydrocarbon group in high yield by a one-stage reaction. - 特許庁

担体を反応液に浸漬して十分にしみ込んだ段階で、担体を引き上げて、溶媒中のメタノールを室温で蒸発させる。例文帳に追加

The carrier is dipped into a reaction liquid, and the carrier is pulled up in the sufficiently permeating stage, and methanol in a solvent is vaporized at a room temperature. - 特許庁

このプラントは更に、改質ガス流れから一酸化炭素を除去するための複数段階反応器系(5,6)を有する。例文帳に追加

The plant, further, has a reformer system (5, 6) having plural stages for removing carbon monoxide from the reformed gas flow. - 特許庁

例文

保護基を用いず、単純な構造の化合物を原料とした1段階のアリル化反応で、アリルグリシンを製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing an allyl glycine compound by a one step allylation reaction using simple structure compounds as raw materials without a protecting group. - 特許庁

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