「細窪」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

そして、手掛け窪み２１は、自身の延び方向の一方側に向かって先細る幅を有しており、サーミスタ３１は、手掛け窪み２１の延び方向での先細った一方側にて、副手掛け部１１Ｓの内部でかつ手掛け窪み２１の裏に位置する。例文帳に追加

The handle dent 21 has a width tapered toward one side of the extending direction of itself, and a thermistor 31 is positioned in an interior of the sub handle part 11S in a back of the handle dent 21 in the tapered one side of the extending direction of the handle dent 21. - 特許庁

各微細構造組は、第二表面に対して突起する少なくとも一つの突起構造、及び、第二表面に対して窪む少なくとも一つの窪み構造を含む。例文帳に追加

Each minute structure set includes at least one protrusive structure protruded to the second surface, and includes at least one recessive structure recessed in the second surface. - 特許庁

20から30くらいの細長いくぼみからなる線が北から南にのびている。窪みの長さはそれぞれ100 mくらいである。例文帳に追加

At this level a line of some twenty to thirty elongated depressions, each measuring about 100 m in length, extends from north to south.。 - 英語論文検索例文集

20から30くらいの細長いくぼみからなる線が北から南にのびている。窪みの長さはそれぞれ100 mくらいである。例文帳に追加

At this level a line of some twenty to thirty elongated depressions, each measuring about 100 m in length, extends from north to south. - 英語論文検索例文集

売書売印の生活をしながら、江戸に出て大窪詩仏の門下となり、細川林谷に篆刻の法を受ける。例文帳に追加

While earning his living through selling books and selling In (an object on top of which a seal pattern has been carved), he went to Edo and studied under Shibutsu OKUBO, and learned from Rinkoku HOSOKAWA how to carve Tensho-style Chinese characters.  - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

微細構造はその形状と流体により基板表面を転がって窪みにセルフアラインして嵌合する。例文帳に追加

The microstructure rolls over the substrate surface due to its shape and fluid to fit into the dent for self-alignment. - 特許庁

この微細構造は成形ブロック（１９）であり、基板（５０）上にある窪み（５５）にセルフアラインして、この基板と一体化する。例文帳に追加

This microstructure is a building block (19), which aligns itself at a dent (55) on a substrate (50) such that it is integrated with it. - 特許庁

トレンチ、コンタクトホール、ディープパターン、或いは多孔質基板の細孔等の窪み内を確実に処理しうる処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a treatment method capable of surely treatment the inside of a recess in a trench, a contact hole, a deep pattern, or a fine hole of a porous substrate. - 特許庁

窪みに導入された細胞は各アガロース層に選択的に導入時と逆電位を与えて流路中に出す。例文帳に追加

The cells, introduced in the recess, are put into the flowing passage selectively, by giving a reverse potential to that given at the introduction, to each of the agarose layers. - 特許庁

護岸構造物１の前面の潮間帯及び該潮間帯より上側の波によって洗われる高さ位置に、水平方向に向けて細長い開口部を有し、窪みは、その開口部の高さが１ｍ以下で、該高さと同等以上の奥行きである窪み２を多段配置に設ける。例文帳に追加

The living thing living accelerating function attached revetment is constituted by having narrow opening sections toward the horizontal direction in an ebb zone on the front of a revetment structure 1 and in a high position washed by waves higher than the ebb zone and recesses 2 having their opening sections with heights less than 1 m and having the depths equal to or higher than the heights provided so as to arrange them in a multistage state. - 特許庁

一対のバリアカフス１４の一部の部分に親水性とされる親水部１４ａが細長く設けられ、親水部１４ａに覆われ得る吸収体３の部分に外側凹部１６が窪む形で細長く設けられる。例文帳に追加

A slender hydrophilic part 14a is formed in a part of each barrier cuff 14, and a slender outside recess 16 is formed in a part of the absorber 3 which can be covered by the hydrophilic part 14a. - 特許庁

微細な窪み又は孔２が穿たれた硬質体１の表面に土壌10を付着させ、その微細な窪み又は孔２に跨るビーム径の炭酸ガスパルスレーザー光４を土壌10に照射してプラズマ発光６を誘起させ、そのプラズマ発光６の分光分析により土壌10中の汚染物質11を測定する。例文帳に追加

Soil 10 is allowed to adhere onto the surface of a hard body 1 where fine hollows or holes 2 are bored, and the soil 10 is irradiated with carbon dioxide pulse laser light 4 having a beam diameter over the fine hollows or holes 2, to thereby induce plasma emission 6, and a pollutant 11 in the soil 10 is measured by the spectroscopic analysis of the plasma emission 6. - 特許庁

正方形の窪み２が形成された基板１と、窪み２の中に形成された、周期構造を自己組織的に形成する高分子を鋳型として形成された、管状の細孔３を複数有し、該細孔３の配向方向が基板１の面内方向に対して略垂直方向に揃っているシリカ薄膜４とを備える。例文帳に追加

The oriented mesoporous thin film comprises a substrate 1 whereon square concaves 2 are formed, and a silica thin film 4 having a plurality of tubular pores 3 formed in the square concaves 2 making use of a macromolecule that can self-duplicate a periodical structure as a template, with the orientation of the tubular pores 3 aligned with an approximately perpendicular direction with respect to an in-plane direction of the substrate 1. - 特許庁

基板上に形成された窪みまたは貫通孔の中において、所定の形状の細孔の配向が、基板の面内方向に対して略垂直方向を含む任意の方向に揃うことを可能にする配向メソ細孔薄膜、鋳型および配向メソ細孔薄膜の作製方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an oriented mesoporous thin film capable of aligning the orientation of pores of a prescribed shape in the concaves formed on a substrate or in the holes passing through the substrate with an arbitrary direction including an approximately perpendicular direction with respect to an in-plane direction of the substrate, and a method for preparing a template and the oriented mesoporous thin film. - 特許庁

強磁性細線１の上の面の、電圧電極４ａと４ｂとの間、および電流電極２ａと電圧電極４ａとの間に、イオンビームエッチング等の手段を用いて、窪み５を作成する。例文帳に追加

A recessions 5 are formed between the voltage electrodes 4a and 4b and between the current electrode 2a and the voltage electrode 4a on the upper side of the ferromagnetic thin line 1 by means of ion beam etching etc. - 特許庁

微細構造はガリウム砒素ブロック等の成形ブロック１９であり、シリコン基板５０上にある窪み５５にセルフアラインして、シリコン基板５０と一体化する。例文帳に追加

The microstructure is a building block 19, such as a gallium arsenide block, which aligns itself at a dent 55 on a silicon substrate 50 such that it is integrated with it. - 特許庁

簡単な工程で、半導体基板に形成された微細窪みにボイドや汚染の少ないめっき金属を効率良く充填して、配線を形成することができる基板めっき装置及び方法を提供する。例文帳に追加

To form a wiring by filling micro recesses made in a semiconductor substrate efficiently with a plating metal through a simple process while suppressing void and contamination. - 特許庁

基板に形成された配線用の溝等の微細窪みに銅又は銅合金等の金属を隙間（空洞）なく均一にめっきすることができる基板のめっき方法及び装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for plating a substrate by which copper or a copper alloy is uniformly plated on fine recessed parts such as wiring grooves formed on the substrate without gaps or voids. - 特許庁

（ｉ）に示す工程では、エッチング処理を行って、ＧａＡｓ基板１の露出部分からＧａを優先的に剥離させることで窪み等が形成された三次元微細構造を作製する。例文帳に追加

In the process shown in (i), the three-dimensional microfabrication structure is fabricated on which a dent is formed by performing etching and by detaching Ga preferably from the exposed portion of the GaAs substrate 1. - 特許庁

プラスティック製台座一体の横卵子形窪みに、ゆで玉子を横に置き、三本の細い鋼線を縦に押し切りし、ゆで玉子を横に４分割する。例文帳に追加

In this tool, a boiled egg is horizontally placed in a horizontally egg-shaped cavity integrated with a plastic pedestal, and the egg is horizontally divided into four by cutting the egg by vertically pushing three thin steel wires. - 特許庁

プラグ形成時に位置ずれが発生しても水分や不純物が溜まる窪みが発生することがなく、微細化しても長期間にわたる信頼性を確保できる半導体装置及びその製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a semiconductor device and a manufacturing method of the same, which do not generate a dent in which moisture and an impurity accumulate though displacement occurs when a plug is formed and which can ensure prolonged reliability though microfabricated. - 特許庁

この後、前記突起物（13）を含む基板表面に、半導体超薄膜層（14）をエピタキシャル成長すると、前記突起物(13)の直上に微細な窪み（15）が形成される。例文帳に追加

After this, when a semiconductor ultrathin film layer 14 is grown epitaxially on the surface of the substrate including the projected materials 13, fine recesses 15 are formed directly over the projected materials 13. - 特許庁

窪み部２２ｄにおける燃料ホース１の内周面との隙間を接着剤の粘度に応じて適切に設定しておけば、毛細管現象によって接着剤を行き渡らせることができる。例文帳に追加

Connection construction of the hose can spread the adhesive by means of capillary phenomenon if it is configured so as to adequately set a clearance between the inner peripheral surface of the fuel hose 1 and the depression 22d in accordance with viscosity of the adhesive. - 特許庁

ガラス製の部材の表面に所定の断面形状を備えた微細な窪みが形成されたコネクタ用部品の製造方法であって、高い寸法精度を備え且つ生産性に優れた方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method which can produce a product of high size precision and which is superior in productivity as a method of manufacturing a components for a connector in which fine specific-section hollows are formed on the surface of a member made of glass. - 特許庁

これにより、樹脂成形物の表面に微細な孔（窪み）や溝等が形成されて表面積が増加するため、樹脂成形物の生分解速度を容易に上昇させることができる。例文帳に追加

By this treatment, fine holes (recesses), grooves and the like are formed on the surface of the biodegradable resin molded product to increase the surface area, and thus the rate of biodegradation of the resin molded product can easily be increased. - 特許庁

複数の突部と複数の窪部から構成される微細凹凸構造を有する微小構造体であって、前記突部の表面に蒸着部を形成してなる、微小構造体。例文帳に追加

The microstructure has a minute uneven structure consisting of a plurality of projecting parts and a plurality of recessed parts, and a deposition part is formed on a surface of each of the projecting parts. - 特許庁

ボーン２４は細線材を複数本幅状に配列して湾曲状に成形し、ネープ部２３の盆の窪対応位置に圧接するように配置する。例文帳に追加

The bone 24 is obtained by arranging plural thin wires in a width state and forming the wires into a curved state and is arranged so as to be brought into contact with the hollow corresponding position of a tray of the nape part 23 under pressure. - 特許庁

また、窪み12が各々単独に点在するため、封止樹脂やソルダレジストインキ等の液状体が毛細管現象によって流れ出すおそれはない。例文帳に追加

In addition, there independently exist the concaves 12 thereon, respectively, so that a sealing resin or a liquid such as a solder resist ink or the like is hard to flow out by capillary phenomenon. - 特許庁

アルカリ金属やシアンを含むことなく、シード層の薄肉部を補強したり、高アスペクト比の微細窪みの内部に銅を確実に埋込む銅めっきを施すことができるようにする。例文帳に追加

To constitute the above device in such a manner that the thin part of a seed layer may be reinforced without containing alkaline metals and cyanide and that copper plating to surely embed copper into microrecesses of a high aspect ratio may be applied. - 特許庁

小型の金属対応のタグを実現し、細い金属棒や金属表面の窪地に埋設でき、機械的強度を向上させかつ静電気やサージ電流にも耐力を向上させる。例文帳に追加

To achieve a small tag which is adaptable to a metal, which is embedded in a pit of a slender metal bar and a metal surface, improves mechanical strength and improves bearing force even against static electricity and surge current. - 特許庁

シード層の薄肉部を補強したり、高アスペクト比の微細窪みの内部に銅等を確実に埋め込むことができ、更にはめっき膜の平坦度を向上させてスループットを向上できるようにする。例文帳に追加

To provide an electroless plating method for reinforcing a thin film part in a seed layer, surely filling copper or the like into fine recesses having a high aspect ratio, and further improving flatness of a plated film to improve the throughput. - 特許庁

その窪み１６によって固体撮像素子１１とガラス基板１４との間の間隙が大となり、毛細管現象が立ち切られることにより、封止樹脂１９の侵入による撮像面１２の汚染が防止される。例文帳に追加

Since the distance between the solid-state image pickup element 11 and the glass substrate 14 becomes longer due to the recess 16, which interrupts the capillary phenomenon, contamination of the image pickup surface 12 due to sufiltration of the encapsulating resin 19 is prevented. - 特許庁

なお、窪みのフラット部にＬＥＤ素子（１０６）を搭載し、ＬＥＤ素子と給電用フレームは金線等、導電性細線（１０５）で接続されている。例文帳に追加

Resin mould is performed in a form wherein a part (103a) of a surface opposite to an LED element mounting surface of the heat dissipation plate on which the LED element is mounted is exposed. - 特許庁

回路基板１４の内面には撮像面１２よりも広い面積の窪み１６が形成されており、その窪み１６によって固体撮像素子１１と回路基板１４との間の間隙ｈ１が大となって、毛細管現象が断ち切られることにより、封止樹脂１９の撮像面１２への浸入が停止される。例文帳に追加

On the inner surface of a circuit substrate 14, a dent 16 that is larger in area than the imaging area 12 is formed, due to which a space h1 between the solid-state imaging device 11 and the circuit substrate 14 becomes large, thus resulting in elimination of a capillary phenomenon, which keeps sealing resin 19 from entering the imaging surface 12. - 特許庁

基板３の表面４に、該表面４側から裏面側に向けて断面形状が次第に先細りになる窪み５を形成し、その窪み５の内面を含む基板表面４の全体に半導体膜６を形成し、形成された半導体膜６を溶融させて結晶化させて半導体装置用基材を製造する。例文帳に追加

Onto the surface 4 of a substrate 3, a dent 5 is formed whose sectional shape tapers off from the surface side 4 to its back side, a semiconductor film 6 is formed onto the whole substrate surface 4 including the inner surface of the dent 5, and the formed semiconductor film 6 is dissolved and then crystallized, thus manufacturing the substrate for the semiconductor device. - 特許庁

Ａｌを主成分とする基板を陽極酸化して得られる陽極酸化皮膜によるナノ構造体の製造方法において、該基板上に規則的に配列した複数の窪みを形成する工程、その後陽極酸化により形成される細孔について、少なくとも一部の細孔を形成過程において自己組織的に分岐させる工程、更に該細孔における分岐する以前の部分を除去する工程を含むナノ構造体の製造方法。例文帳に追加

The method of producing a nanostructure comprises: a stage wherein a plurality of regularly arranged recesses are formed on a substrate; a stage wherein, as to fine pores formed by the subsequent anodic oxidation, at least a part of the fine pores is self-organizationally diverged; and a stage wherein the parts before the divergence in the fine pores are removed. - 特許庁

フッ酸等の薬液を使用しなくても、結晶化ガラスの表面に微細な窪みや突起等を形成することができ、且つ使用環境の温度差が大きくても、熱衝撃により破損し難い結晶化ガラスの製造方法を創案すること。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a crystallized glass capable of forming minute dents, juts etc. on the surface of the crystallized glass without using a chemical liquid such as hydrofluoric acid and not liable to break by thermal impact even if a temperature difference of use environment is large. - 特許庁

深さ方向に先細りの窪み空間が形成された金属体の先端近傍の表面において、励起光の進行方向に表面プラズモンの電場増強を適切かつ充分に行える表面プラズモンの電場増強構造を提供する。例文帳に追加

To provide an electric field enhancing structure of surface plasmon, capable of properly and fully providing electric field enhancement of the surface plasmon, in the traveling direction of exciting light, in the surface of the neighborhood of the top end of a metal body in which a tapered hollow space is formed in the depth direction. - 特許庁

ヒータ２により加熱されるベース部材３の下面側を、硬質の金属製プレートで構成したかけ面部材４により覆うとともに、前記ベース部材３の下面側に熱伝導体５を収容する細長い溝状の窪み６を形成したものである。例文帳に追加

The underside of a base member 3 heated by means of a heater 2 is covered with an ironing member 4 constituted of a hard metal plate and a slender channel-like cavity 6 for storing a heat-conductive body 5 is formed on the underside of the base member 3. - 特許庁

表面に微細窪みを形成した基板を用意する工程と、前記基板の表面にめっき液中でめっきを施す工程と、前記基板の表面に形成されためっき膜をエッチング促進剤として機能する添加剤を含有したエッチング液中で電解エッチングする工程とを有する。例文帳に追加

This wiring forming method is provided with a process for preparing a substrate wherein fine dimples are formed on the surface, a process for plating the surface of the substrate in plating liquid, and a process wherein a plating film formed on the surface of the substrate is subjected to electrolytic etching in etching liquid containing additive which acts as etching promoter. - 特許庁

好ましくは、微細な窪み又は孔２を、硬質体１の表面に所要深さ及び幅で穿った所要間隔の複数条の線状溝とし、その線状溝の深さ、幅及び／又は間隔を土壌10の性状に応じて選択する。例文帳に追加

Preferably, the fine hollows or holes 2 are a plurality of lines of linear grooves having required intervals bored with each required depth and width on the surface of the hard body 1, and the depth, the width and/or the interval of the linear grooves are selected corresponding to the property of the soil 10. - 特許庁

絶縁性部材４は、全体がほぼ円盤状で、フッ素樹脂製で中心に環状体１ｂを当接する窪みを形成し、縁に４個の切欠４ｂを備えて隙間率が１０％の円盤状をなすとともに、細環1aをキャップ体内に通す隙間も有している。例文帳に追加

An insulating member 4 is almost disc-shaped as the whole and made by fluororesin, and forms a cratering to abut on a ring-formed body 1b at the center, and has four notches 4b at a brim to form the disc shape having 10% gap ratio, and also has a gap to put a thin ring 1a through a cap body. - 特許庁

金属配線層の側面に窪みを設けるには、金属配線層をメッキにより析出させるに際して、中間工程の電流密度を前後の工程の電流密度よりも低くして微細金属結晶のメッキ層とした後、エッチング処理を行うことにより得られる。例文帳に追加

In order to locate the recess on the side of the metal wiring layer, after the current density of an intermediate process is made lower than a current density of before/after process to form a plating layer of a fine metal crystal when depositing the metal wiring layer by plating, the recess can be obtained by carrying out an etching treatment. - 特許庁

結晶粒の粒径が雄型５１の空隙部５３ｂの幅を下回っているとともに、粒径は壁の厚さＴに対して過小でもなく過大でもない領域におかれているので、微細な空隙部５３ｂ内への結晶粒の流動が円滑になされ、良好な溝状窪部３３の成形が行える。例文帳に追加

Since the particle size of crystal grains is smaller than the width at the air gap part 53b of a male die 51 and the particle size is set in such a region as not too small nor too large with respect to the wall thickness T, the crystal grains flow smoothly into micro air gap parts 53b, thus ensuring good shaping of the trench recess parts 33. - 特許庁

本発明の照明装置は、導光板２とその光入射面側に配置された点光源１を備えており、導光板の光出射面と反対側の面上に内部に窪んだ凹形状で形成された複数の微細散乱構造体２０がほぼ全面に形成されている。例文帳に追加

The lighting device has the light guide plate 2 and the spot light source 1 arranged at a light incident face side of the light guide plate, and a plurality of fine dispersion structures 20 formed on a surface opposite to a light emitting surface of the light guide plate at a concave shape are approximately formed on the whole surface of the light guide plate. - 特許庁