「製造工程用洗浄剤」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

シリコンウエハ製造工程用洗浄剤例文帳に追加

DETERGENT FOR SILICON WAFER PRODUCING PROCESS - 特許庁

レンズ製造工程用洗浄剤組成物例文帳に追加

DETERGENT COMPOSITION FOR LENS PRODUCTION PROCESS - 特許庁

鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤及び洗浄方法例文帳に追加

CLEANING AGENT FOR CIRCULATIVE COOLING WATER SYSTEM AND CLEANING METHOD IN STEEL MAKING PROCESS - 特許庁

液晶パネル洗浄剤及びこの洗浄剤を用いた洗浄工程を含む液晶パネルの製造方法例文帳に追加

LIQUID CRYSTAL PANEL CLEANING AGENT, AND METHOD FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL PANEL COMPRISING CLEANING STEP USING THE SAME CLEANING AGENT - 特許庁

超純水製造に使用される限外ろ過膜６を予備的に洗浄する方法であって、限外ろ過膜６を酸剤で洗浄する酸洗浄工程と、この工程で洗浄した限外ろ過膜６を超純水で洗浄する超純水洗浄工程とを実施する。例文帳に追加

In the method for washing preliminarily an ultrafilter membrane 6 used for manufacturing the ultrapure water, an acid washing step for washing the ultrafilter membrane 6 with an acid agent and an ultrapure water washing step for washing the ultrafilter membrane 6 washed by this step with the ultrapure water are performed. - 特許庁

少なくとも蒸解工程と、洗浄工程と、精選工程とを有するパルプの製造工程において、洗浄工程で使用される工程水に界面活性剤を添加する。例文帳に追加

In a process for producing pulp, having at least a digesting process, a cleaning process and a purification process, a surfactant is added to process water used in the cleaning process. - 特許庁

光学フィルム製造用ロール金型を、水および水溶性溶剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の溶剤を含有する洗浄剤中で超音波洗浄を行なう第１の洗浄工程と、該第１の洗浄工程の後に、該ロール金型を高圧水で噴射洗浄する第２の洗浄工程とを含む光学フィルム製造用ロール金型の洗浄方法である。例文帳に追加

The cleaning method for a roll mold to manufacture optical films includes: a first cleaning step for subjecting the roll mold to manufacture optical films to ultrasonic cleaning in a cleaning agent containing at least one kind of solvent selected from the group consisting of water and a water-soluble solvent; and a second cleaning step for subjecting the roll mold to jet cleaning by high-pressure water after the first cleaning step. - 特許庁

硫酸バリウムや硫酸カルシウムを含んだスケールに対して短時間で充分な洗浄効果を発揮することができる紙・パルプ製造工程用洗浄剤及び紙・パルプ製造工程用洗浄剤系の洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleanser for paper/pulp manufacturing process, capable of exerting sufficient cleansing effect in a short time for scales containing barium sulfate or calcium sulfate, and to provide a cleansing method for such paper/pulp manufacturing process system. - 特許庁

洗浄工程とバッチ式焼鈍を含む鋼帯の製造工程において、高い洗浄性とバッチ式焼鈍後の鋼帯の密着度を低減できるバッチ式焼鈍鋼帯用洗浄剤組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a detergent composition for a batch-annealed steel strip, which has a high detergency and is capable of reducing the degree of adhesion of the steel strip after batch annealing in a manufacturing step of the steel step comprising a washing step and a batch annealing step. - 特許庁

特に連続ライン式のゴム手袋の製造方法において、インライン洗浄により、手型に付着した汚れを短時間で効果的に洗浄できる手型用洗浄剤と、前記手型用洗浄剤を用いた洗浄工程を含むゴム手袋の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a detergent for a hand form which can effectively wash off stains attached on the hand form in a short time through in-line washing in a production method of rubber gloves especially in consecutive line style, and a method for producing rubber gloves including a washing step using the detergent for the hand form. - 特許庁

また、上記脱臭剤組成物と、市販の酸性ＣＩＰ洗浄剤とを混合調整した酸性脱臭洗浄剤希釈液、あるいは、上記脱臭洗浄剤組成物を用いて、各種飲食料品の製造設備における酸洗浄工程と脱臭工程との両工程をワンステップで行うことを特徴とする洗浄方法を用いる。例文帳に追加

A cleaning method for performing both acid-cleaning and deodorization in a single step for production facilities for various beverages and foods using a diluted acidic deodorizing cleaning agent solution prepared by mixing and conditioning the deodorant composition and a commercially available acidic CIP cleaning agent or the deodorizing cleaning agent composition, is also provided. - 特許庁

表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、シクロヘキシル基を有する化合物を含有する半導体表面用洗浄剤。例文帳に追加

The cleaning agent for semiconductor surfaces, which is used after a chemical mechanical polishing process in the process of manufacturing the semiconductor device having the copper wiring on its surface, contains a compound having a cyclohexyl group. - 特許庁

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸、及び、（Ｂ）包接化合物を含有する洗浄剤である。例文帳に追加

The cleaning agent is used after the chemical-mechanical polishing process in the semiconductor device manufacturing process, and contains (A) an organic acid and (B) a clathrate compound. - 特許庁

シリコンインゴットのスライス後の洗浄において、シリコンウエハ表面の平坦性を損ねることなく、シリコンウエハ表面の汚れに対し優れた洗浄性を実現するシリコンウエハ製造工程用洗浄剤を提供する。例文帳に追加

To provide a detergent for silicon wafer producing processes expressing an excellent detergency to soil on a surface of a silicon wafer without impairing flatness of the silicon wafer in washing after slicing of a silicon ingot. - 特許庁

高度な洗浄性と共に残留しにくい、 ＬＣＤ 製造工程等において基板表面の有機もしくは無機薄膜を成膜後の洗浄に使用する洗浄剤組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a detergent composition having high detergency, hardly remaining, usable for washing after forming an organic or inorganic thin film on the substrate surface in an LED production step and the like. - 特許庁

半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する有機残渣やパーティクルなどを、銅配線の腐蝕や酸化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤及びそれを用いた半導体デバイスの洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning agent for use in a cleaning process after the planarizing polishing process in a semiconductor device manufacturing process capable of effectively removing the organic residue and/or particles etc. existing on the surface of the semiconductor device, particularly on the surface of the semiconductor device having copper wiring thereon without subjecting the copper wiring to corrosion and/or oxidation, and to provide a cleaning method of the semiconductor device using it. - 特許庁

銅配線を備えた半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、銅配線の腐蝕や酸化、それに起因する平坦化された基板上配線の表面荒れの発生が抑制され、且つ、半導体デバイス表面の不純物を有効に除去し得る洗浄剤及びそれを用いた洗浄方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning agent used in a cleaning process after a flattening polishing process in a manufacturing process of a semiconductor device having a copper interconnection, wherein corrosion and oxidation of the copper interconnection and surface roughening of the flattened interconnection on a substrate due thereto, are suppressed and impurities on a semiconductor device surface can effectively be removed, and to provide a cleaning method using the same. - 特許庁

洗浄工程において製品水素を使用することなく、水素精製装置内の吸着剤を所望どおりに洗浄することができ、効率良く製品水素を製造する水素製造方法と装置。例文帳に追加

To provide a method and an apparatus for producing hydrogen, by which an adsorbing agent in a hydrogen purification unit can be cleaned as desired without using product hydrogen in a cleaning process, and product hydrogen is efficiently produced. - 特許庁

金属粒子表面に機械的衝撃力を用いて樹脂微粒子をコーティングする、コーティング工程と、該コーティング工程により得られたコーティング粒子を界面活性剤水溶液で洗浄する、洗浄工程とを有する回路形成用トナーの製造方法。例文帳に追加

The method for producing the toner for circuit formation includes a coating step of coating the surfaces of metal particles with fine resin particles by using mechanical impulsive force, and a washing step of washing coated particles obtained by the coating step with an aqueous surfactant solution. - 特許庁

紙パルプ工場のクラフトパルプ製造工程の洗浄漂白工程で発生するスケールの付着を、従来のスケール防止剤を使用することなく、効果的に防止することができるクラフトパルプ洗浄漂白工程のスケール防止方法を提供する。例文帳に追加

To provide a scale preventing method for a kraft pulp cleaning and bleaching process step in a paper pulp production factory which can efficiently prevent the adhesion of the scale produced in the cleaning and bleaching process step of a kraft pulp manufacturing process step of a paper pulp mill without using a conventional scale preventing agent. - 特許庁

鉄鋼製造工程における循環冷却水系に設置された濾過器及び／又は冷却塔のマンガン汚れ又はマンガン析出物を溶解する洗浄剤であって、ホスホン酸及び／又はその塩を含んでなる鉄鋼製造工程における循環冷却水系用洗浄剤。例文帳に追加

This cleaning agent for the circulative cooling water system in a steel making process is a cleaning agent which dissolves the manganese fouling and manganese deposit in the filter and/or cooling tower installed in the circulative cooling water system in the steel making process, wherein the cleaning agent includes phosphonic acid and/or its salts. - 特許庁

本発明は、半導体素子及び液晶ディスプレイ素子の製造工程で使用される感光性樹脂組成物除去用洗浄剤組成物に関し、より詳しくは、a）アルキルアミド;及びb）ケトン;を含む洗浄剤組成物に関する。例文帳に追加

The cleaning agent composition for removing a photosensitive resin composition to be used in the manufacturing process of a semiconductor element and a liquid crystal display element, contains alkyl amide and ketone. - 特許庁

少なくとも重合性単量体と着色剤とを含有する重合性単量体組成物を、分散安定剤を含有する水性媒体中で重合して着色粒子を得る重合工程、該着色粒子を水性媒体で洗浄する洗浄工程及び脱水した着色粒子を乾燥する乾燥工程を有するトナーの製造にあたり、前記洗浄工程において、最終洗浄で使用する水性媒体の電気伝導度Ａ（μＳ／ｃｍ）と、最終洗浄後の脱水により着色粒子から分離した分離液の電気伝導度Ｂ（μＳ／ｃｍ）が、以下の関係式（１）、（２）及び（３）を満たす条件でトナーを製造する。例文帳に追加

The method for manufacturing a toner includes: a polymerization process to polymerize a polymerizable monomer composition containing at least polymerizable monomers and a coloring agent in an aqueous medium containing a dispersion stabilizer to obtain color particles; a cleaning process to clean the color particles with an aqueous medium; and a drying process to dry the dehydrated color particles. - 特許庁

実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning composition, a cleaning method using the same, and a manufacturing method of a semiconductor device, capable of solving a problem particular to a cleaning composition containing a specific detergent adjusted substantially to neutral, preventing corrosion by washing not only a semiconductor substrate and a metal layer but also a silicon, and sufficiently removing a plasma etching residue and an ashing residue generated during a manufacturing process. - 特許庁

本発明の半導体表面処理剤は、半導体製造工程で用いられる現像液、剥離液あるいは洗浄液として有用であるほか、ＣＭＰの研磨液やその後処理洗浄液としても有用である。例文帳に追加

The semiconductor surface treating agent in this invention is useful as a developing solution, remover, or cleaning solution used for a semiconductor manufacturing process, and also useful as a polishing solution of CMP and its post-treatment cleaning solution. - 特許庁

この紙・パルプ製造工程用洗浄剤を紙・パルプ製造工程系中に添加し、ｐＨを８以上とすることによって、デポジット中の硫酸バリウムや硫酸カルシウムを溶解除去する。例文帳に追加

By incorporating this cleanser in a paper/pulp manufacturing process system to effect the pH of the system to 8 or higher, barium sulfate or calcium sulfate in deposits is dissolved and removed. - 特許庁

使用時に水で希釈しても液分離（油水分離）せず、しかも、洗浄性及びすすぎ性に優れた準水系のシリコンウエハ製造工程で使用するための洗浄剤組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a cleaning agent composition used in a silicon wafer manufacturing process using semi-aqueous system, which is free from liquid separation (oil-water separation) even if it is diluted with water in use and is excellent in cleaning performance and rinsing performance. - 特許庁

本発明は、半導体素子の製造における半導体ウエハの加工工程で、塗布される反射防止剤によって生じる、不要な固化物を除去するために用いられる、洗浄液および洗浄方法を提供するものである。例文帳に追加

To provide a cleaning liquid and a cleaning method for removing unnecessary solidified matter produced by antireflection agent applied during the processing process of a semiconductor wafer in manufacturing a semiconductor element. - 特許庁

低分子型有機ＥＬ素子製造の真空蒸着工程において使用するマスクの洗浄液組成物であって、非プロトン性極性溶剤を１種類または２種類以上含む前記洗浄液組成物。例文帳に追加

The cleaning liquid composition for a mask used in the vacuum deposition for the production of a low-molecular organic EL element contains one or more kinds of aprotic polar solvents. - 特許庁

半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する不純物を、銅配線の腐蝕や酸化、或いは、平坦化されたデバイスの表面性状の悪化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning agent used for a cleaning process after a planarization polishing process in a semiconductor device manufacturing process, by which dopant existing on the surface of a semiconductor device, especially on the surface of the semiconductor device on which a copper wiring is applied is removed effectively, without causing corrosion and oxidization of the copper wiring, or deterioration of the surface texture of the device planarized. - 特許庁

半導体デバイス製造工程において、表面に銅配線を有する半導体デバイスの化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）有機酸と、（Ｂ）スルホン基またはフォスホン基を置換基として有するポリアミノカルボン酸とを含有する洗浄剤である。例文帳に追加

The cleaning agent which is used after a chemical-mechanical polishing process in the semiconductor device having the copper wiring on the surface comprises an organic acid (A) and poly amino carboxylic acid (B) having a sulfone group or a phosphon group as a substituent. - 特許庁

表面に銅配線が施された半導体デバイスの製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）ポリカルボン酸と、（Ｂ）アルデヒド構造を有する化合物と、を含有し、ｐＨが０．５〜５であることを特徴とする洗浄剤である。例文帳に追加

Disclosed is the cleaning agent used after a chemical-mechanical polishing process in the manufacturing process of the semiconductor device having the copper interconnection formed on the surface, wherein the cleaning agent contains (A) polycarboxylic acid and (B) a compound having an aldehyde structure and has the pH of 0.5 to 5. - 特許庁

（ａ）酸化アルミニウム粒子、（ｂ）カルボン酸系高分子増粘剤、及び（ｃ）非イオン界面活性剤を含有する硬質表面用洗浄剤組成物の製造方法であって、（ａ）成分、（ｃ）成分及び水を予め混合し、次いで、（ｂ）成分とを混合する工程を有する、硬質表面用洗浄剤組成物の製造方法。例文帳に追加

The method has a process of blending (a) component with (c) component and water in advance and then blending an obtained mixture with (b) component. - 特許庁

芯粒子である樹脂粒子の調製工程Ｓ１と、水溶性高分子分散剤の水溶液の調製工程Ｓ２と、帯電制御樹脂成分で被覆された合成樹脂粒子の調製工程Ｓ３と、水溶性高分子分散剤の除去工程Ｓ４と、合成樹脂粒子の分離・洗浄・乾燥工程Ｓ５とを含む水系での静電荷像現像用トナーの製造法ならびに該製造方法によって製造される静電荷現像用トナーを提供する。例文帳に追加

The toner consists of resin particles containing at least a synthetic resin and a colorant, and an outer shell comprising a charge control resin component fusion-bonded to the resin particle surface through a molten state. - 特許庁

セルロースを、酸化剤としてＮ−オキシル化合物を用いて改質し洗浄する改質洗浄工程と、改質された上記セルロースを分散媒に分散させ微細化する微細化工程と、を有するセルロースナノファイバーの製造方法である。例文帳に追加

The method for producing a cellulose nanofiber includes a reforming washing step which reforms and washes cellulose using an N-oxyl compound as an oxidizing agent and a pulverizing step of dispersing the modified cellulose in a dispersion medium and pulverizing. - 特許庁

また、廃液に凝集剤を添加する工程と、ついで前記廃液を蒸留する工程を少なくとも有する廃液処理方法により再生された液を用いて、現像または版洗浄を行う印刷版の製造方法。例文帳に追加

In the manufacturing method for the printing plate, the development or the plate washing is performed by using the liquid regenerated by the waste liquid treatment method having at least the process of adding the coagulant to waste water and the process of distilling the waste liquid. - 特許庁

第３級アミンオキシド水和物を用いたセルロース溶液を凝固再生浴に浸漬する凝固再生工程と、得られた膜状物を洗浄する洗浄工程と、湿潤状態の膜状物に孔径維持剤を添着する添着工程と、膜状物を非定長状態で加熱乾燥する乾燥工程を有する再生セルロース膜の製造方法。例文帳に追加

The method for producing the regenerated cellulose membrane includes a solidification-regeneration process in which a cellulose solution using a tertiary amine oxide hydrate is immersed in a solidification-regeneration bath, a cleaning process for washing the obtained membrane, a sticking process for sticking a pore diameter maintaining agent to the wet membrane, and a drying process for heat-drying the membrane held free. - 特許庁

半導体素子を製造するためのフォトレジストパターン形成工程中において、エッチング工程及びアッシング工程時に発生するフォトレジスト残留物などを効果的に除去できるフォトレジストポリマー除去用洗浄剤組成物を用いた半導体素子及び半導体素子の製造方法、フォトレジストパターン洗浄方法、フォトリソグラフィー方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a semiconductor device manufactured by using a photoresist polymer removing detergent composition which can effectively remove a photoresist residue or the like produced in an etching process and in an ashing process in the process of a photoresist pattern for manufacturing the semiconductor device, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device, a method for cleaning a photoresist pattern and a photolithographic method. - 特許庁

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄液であって、下記一般式（Ｉ）で表されるノニオン性界面活性剤と有機酸と数平均分子量５０００以下のポリエチレングリコールとを含み、かつ、ｐＨが５以下である半導体デバイス用基板の洗浄液、及びそれを用いた洗浄方法。例文帳に追加

The cleaning liquid for a semiconductor device substrate is provided which is used after a chemical mechanical polishing process in a semiconductor device manufacturing process and contains a nonionic surfactant represented by general formula (I), an organic acid and polyethylene glycol with a number average molecular weight of 5,000 or less, and has a pH of 5 or lower, and a cleaning method using the cleaning liquid. - 特許庁

末端停止剤として長鎖モノアルキルフェノールを用い、流動性が改良された直鎖状ポリカーボネートを界面重縮合法により製造するに際し、洗浄工程における洗浄性が向上した該ポリカーボネートの製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for producing a straight-chain polycarbonate having improved washability in the washing step in producing the polycarbonate having improved flowability by interfacial polymerization with the use of a long-chain monoalkylphenol as the chain-end terminator. - 特許庁

液晶表示素子用基板を平坦性を有する搬送用基板に貼着することができ、従来のガラス基板を用いた液晶表示素子製造装置や工程がそのまま利用でき、レジスト形成工程、エッチング工程、洗浄工程、配向膜印刷工程等の処理後に、該液晶表示素子用基板の取り外しがきわめて容易となるようなシート状粘着剤積層体を提供すること。例文帳に追加

To provide a sheet type adhesive laminate capable of pasting a liquid crystal display element board to a flat board for transfer system, utilizing a liquid crystal display element manufacturing unit and process using conventional glass board as it is, and very easy to dismantle the liquid crystal display element after treatment such as resist formation, etching, cleaning, and directed film printing process, etc. - 特許庁

顔料を強酸中でスルホン化し、塩形成していないスルホン酸基含有顔料誘導体を析出させる工程と、該スルホン酸基含有顔料誘導体を有機溶剤で洗浄する工程と、洗浄したスルホン酸基含有顔料誘導体を用いて顔料を水中に分散させる工程を含む水性顔料分散体の製造方法。例文帳に追加

A method for producing water-base pigment dispersion comprises the steps of sulfonating a pigment in a strong acid to precipitate a sulfonic acid group-containing pigment derivative which has not formed salt, washing the sulfonic acid group-containing pigment derivative with an organic solvent, and dispersing the pigment in water using the washed sulfonic acid group- containing pigment derivative. - 特許庁

洗浄剤を使用した洗浄工程を行わずに加工油を除去することができる無端金属ベルトの製造方法を提供することにより、窒化処理を阻害する要因を排除し、無端金属ベルトの強度を確保するとともに、無端金属ベルトの歩留まりを改善する。例文帳に追加

To secure the strength of an endless metallic belt and to improve the yield of the endless metallic belt by providing a method for manufacturing the endless metallic belt, by which a machining oil can be removed without performing a cleaning step using a detergent, thereby eliminating a factor to obstruct a nitriding treatment. - 特許庁

銅または銅合金配線を形成する半導体製造工程中の化学的機械的研磨の後に続く工程において使用される洗浄剤であって環状ポリアミン（Ａ）、水酸基を２〜５個含むポリフェノール系還元剤（Ｂ）、第４級アンモニウムヒドロキシド（Ｃ）、アスコルビン酸（Ｄ）、および水を必須成分とすることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤を用いる。例文帳に追加

The cleaning agent for the copper wiring semiconductor is used in a process succeeding to chemical mechanical polishing in a semiconductor manufacturing process for forming the wiring of copper or a copper alloy, and contains, as essential components, a cyclic polyamine (A), a polyphenol-based reductant (B) containing 2 to 5 hydroxy groups, a quaternary ammonium hydroxide (C), an ascorbic acid (D), and water. - 特許庁

本発明の紙・パルプ製造工程用洗浄剤は、炭酸塩、リン酸塩及びホスホン酸塩の少なくとも１種と、アミノカルボン酸塩型キレート剤とを有効成分として含む。例文帳に追加

The cleanser comprises as active ingredients at least one salt among carbonate, phosphate and phosphonate and an aminocarboxylic acid salt-type chelating agent. - 特許庁