「Back Exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

There is provided a mounting unit 2 comprising two or more optical units 3... so as to face a stage 1 on which the substrate 8 of an exposure target is placed, and one optical unit moves back and forth within one device region 9... to expose entirely the substrate 8 for each of the device regions 9... formed in an array shape.例文帳に追加

露光対象である基板８を載置したステージ１に対向するように、２個以上の光学ユニット３…を備えた搭載部２を設け、１つの光学ユニットが１つのデバイス領域９…内で進退移動して、アレイ状に形成されたデバイス領域９…毎に基板８全面を露光するように構成している。 - 特許庁

In addition, the resistance value of a main electrode is reduced; an auxiliary first electrode doubling as a black matrix and a bank for an ink jet process are included; and the auxiliary first electrode is used as a mask, without adding a separate mask process, to form a bank by a back exposure method, whereby the number of mask processes is reduced.例文帳に追加

さらに、主電極の抵抗値を低くし、ブラックマトリックス兼用として利用された補助第１の電極と、インクジェット工程用バンクとを含み、別途のマスク工程の追加なしに補助第１の電極をマスクとして利用して、背面露光法によりバンクを形成して、マスク工程数の節減する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical element by which the following problem is solved without requiring addition of a new step; even if a polymerizable liquid crystal is cooled after holding at a temperature showing liquid crystal regularity, the liquid crystal recrystallizes between bringing back to room temperature and an exposure/development step and by which patterning is also possible if necessary.例文帳に追加

重合性液晶を液晶規則性を示す温度で保持した後冷却しても、常温に戻してから露光／現像の工程までの間に再結晶化する問題があった点を、新たな工程の追加の必要もなく、必要に応じてパターン化も可能な光学素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A film forming a channel protection layer is formed on an oxide semiconductor layer having a light-transmitting property, a positive photoresist is formed on the film forming the channel protection layer, and a channel protection layer is selectively formed on a channel formation region in the oxide semiconductor layer by using a back surface light exposure method.例文帳に追加

チャネル保護層を形成する膜を透光性を有する酸化物半導体層上に形成し、チャネル保護層を形成する膜上にポジ型のフォトレジストを形成し、裏面露光法を用いて酸化物半導体層中のチャネル形成領域上に選択的にチャネル保護層を形成することを要旨とするものである。 - 特許庁

The method for inspecting a surface of a stencil mask to be used for charged particle beam exposure or the like includes an inspection step where a foreign matter or a defect on the surface of a membrane is inspected based on a first image of the surface of the membrane and on a second image of the back face of the membrane.例文帳に追加

荷電粒子線露光などに用いられるステンシルマスクの表面の検査を行う方法であって、その検査工程においてメンブレン部表面の第１の画像と、メンブレン部裏面の第２の画像とに基づいて、メンブレン部表面の異物や欠陥を検査することを特徴とするステンシルマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

A second movable portion 78 is a plate type member, having opening portions 82a to 82d for opening exposure windows 65a to 65d of the optical writing device 64 and is energized toward the back side by an energizing member 84 having force weaker than the force with which the energizing member 80 energizes the first movable portion 76.例文帳に追加

第２の可動部７８は、光書き込み装置６４の露光窓６５ａ〜６５ｄをそれぞれ開放する開口部８２ａ〜８２ｄを有する板状の部材であり、付勢部材８０が第１の可動部７６を付勢する力よりも弱い力の付勢部材８４によって背面側に向けて付勢させている。 - 特許庁

In relation to a circuit board of which the front and back sides are electrically connected through copper-plated vias, in this manufacturing method of a board for a semiconductor package, a surface roughening process of solder resist 8, a palladium removal process of a copper exposure part on a solder ball mounting surface, and a surface treatment process comprises an organic rustproofing process, electroless gold plating, electroless tin plating and a solder process.例文帳に追加

銅メッキされたビアにより表裏導通された回路基板において、ソルダーレジスト８の表面粗化処理、更に半田ボール搭載面の銅露出部のパラジウム除去処理、および表面処理工程が、有機防錆処理、無電解金メッキ、無電解スズメッキ、半田処理からなる半導体パッケージ用基板の製造方法。 - 特許庁

A back exposure black matrix for the color filter is provided which is black photosensitive composition for the color filter composed of a binder polymer, a cross-linking monomer, a photopolymerization initiator and a pigment and which is characterized by adding a silane compound having one or more of photo cross-linking functional groups and of reactive groups producing a siloxane bond with dehydration polymerization.例文帳に追加

バインダーポリマーと架橋性モノマーと光重合開始剤と顔料からなる、カラーフィルター用黒色感光性組生物であって、光架橋性官能基と脱水重合反応によりシロキサン結合を生成する反応性基をそれぞれ一つ以上有するシラン化合物を添加することを特徴とする、カラーフィルター用裏露光ブラックマトリックスを提供する。 - 特許庁

The projection aligner has an alignment light radiating means for radiating an alignment light on a projection lens, from the back side of an exposure light irradiating means to a mounting means for irradiating a first reference mark provided on the mounting means and a second reference mark provided on a pattern substrate with the alignment light.例文帳に追加

アライメント光を、載置手段に対して露光光照射手段と反対側から、投影レンズに向かってアライメント光を発するアライメント光照射手段であって、載置手段に設けられた第１基準マークと、パターン基板に設けられた第２基準マークと、にアライメント光を照射するアライメント光照射手段を有する投影露光装置を提供する。 - 特許庁

In platemaking plating method for enabling the lead frame or forming a semiconductor package to be subjected to metal plating required or wire bonding, there is a process for forming a resist film made of photoresist in the entire lead frame, and then exposing only the entire back to light, and then performing the pattern exposure of the front for development, metal plating, and resist peeling.例文帳に追加

半導体パッケージを形成するリードフレームにワイヤーボンディングのために必要な金属めっきを施す製版めっき方法において、リードフレーム全体にフォトレジストのレジスト膜を形成した後、まず先に裏面のみを全面露光し、次いで表面のパターン露光を行ってから、現像、金属めっき、レジスト剥離を行う工程を含むようにする。 - 特許庁

The manufacturing method of an organic thin film transistor comprises a step for preparing a substrate, a step for forming a gate electrode on the substrate, a step for forming a gate insulating film all over the surface of the substrate including the gate electrode, a step for forming an organic active layer on the gate insulating film by back exposure, and a step for forming source and drain electrodes on the active layer.例文帳に追加

有機薄膜トランジスタの製造方法は、基板を準備する段階と、前記基板上にゲート電極を形成する段階と、前記ゲート電極を含む基板の全面にゲート絶縁膜を形成する段階と、前記ゲート絶縁膜上に背面露光によって有機アクティブ層を形成する段階と、前記アクティブ層上にソース及びドレイン電極を形成する段階とを含む。 - 特許庁

In successive shooting mode wherein a plurality of images are successively photographed, the relative position relationship between the taking lens and imaging device begins to be put back to a given reference position relationship after exposing operation for a given photographed image and when a given condition is met, exposing operation or exposure preparing operation for a next photographed image is allowed even before the returning operation is completed.例文帳に追加

複数の撮影画像を連続的に撮影する連写モードにおいて、所定の撮影画像の露光動作後、撮影レンズと撮像素子との相対的な位置関係を所定の基準位置関係に復帰させる復帰動作を開始し、所定の条件が満たされれば、復帰動作が完了する前であっても次の撮影画像の露光動作または露光準備動作を許可する。 - 特許庁

To provide a transparent polyimide composite tubular body excellent in light transmittance, mechanical characteristics and chemical resistance, having no defect such as a bubble and useful for a transparent supporting body of a back exposure type photoreceptor drum or a member of electrophotographic system image forming devices for transferring, fixing, etc., and a production method capable of producing the polyimide composite tubular body simply and at a low cost.例文帳に追加

優れた光透過率と機械的特性および耐薬品性を有し、気泡などの欠陥がなく背面露光感光ドラムの透明支持体あるいは転写、定着など電子写真方式の画像成形装置等の部材に有用な透明なポリイミド複合管状物、及びこのポリイミド複合管状物を低コストで簡易的に製造できる方法を提供すること。 - 特許庁

The heat-developable image recording material having an image forming layer comprising a non-photosensitive organic silver salt, a reducer for the organic silver salt, photosensitive silver halide and an organic binder on a support and subjected to image exposure with light of ≤500 nm wavelength has a back layer containing a dye having a specified structure on the face of the support opposite to the image forming layer.例文帳に追加

支持体上に非感光性有機銀塩、該有機銀塩の還元剤、感光性ハロゲン化銀、および有機バインダーを含む画像形成層を有し、波長５００ｎｍ以下の光で画像露光される熱現像画像記録材料において、該支持体の画像形成層とは反対の面に特定の構造を有する染料を含むバック層を有することを特徴とする熱現像画像記録材料。 - 特許庁

To provide imaging equipment with which an X-ray of high-quality is always produced by controlling moving velocity of a grid accurately and by preventing insufficient moving amount of the grid and occurrence of artifacts such as plaids and spurious resolutions of the grid caused when the grid stops or turns back even in a case when appropriate exposure time can not be estimated before imaging.例文帳に追加

撮影前に放射線の適切な曝射時間の予測が困難である撮影であっても、グリッドの移動速度を正確に制御し、グリッドの移動量の不足、グリッドの停止或いは折り返しによる格子縞やグリッド像の擬解像等のアーチファクトの発生を確実に防止することができる構成とすることで、常に品質の高い放射線画像を取得することができる撮影装置を提供する。 - 特許庁

This aligner for exposing a semiconductor wafer 11 in contact by moving the semiconductor wafer 11 after aligning the semiconductor wafer 11 and a photomask 13 registers as images the positional relation between the semiconductor wafer 11 and photomask 13 when aligned and the positional relation at exposure and recognizes the respective images to put the semiconductor wafer 11 back into a state of alignment, when a misalignment is detected, so as to correct the position.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェハー１１とフォトマスク１３を位置合わせした後、半導体ウェハーを動かすことによって密着させて露光する露光装置において、位置合わせ時における半導体ウェハーとフォトマスクとの位置関係と、露光時における同位置関係をあらかじめ画像登録しておき、露光時、上記各画像を認識することによって位置ズレが検出されたときに、ステージ１２上で半導体ウェハーを位置合わせ時における状態に復元させることによって位置補正を行う。 - 特許庁