「Back Exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To transmit and back up control parameters of a semiconductor exposure system efficiently.例文帳に追加

半導体露光装置における制御パラメータを効率的に配信およびバックアップする。 - 特許庁

When the scene is discriminated to be a back-lighted scene, in step 104, an exposure correction value is determined.例文帳に追加

逆光シーンであると判別されると、ステップ１０４で、露出補正量を決定する。 - 特許庁

To prevent a liquid from invading inside the back surface of a substrate in an immersion exposure device.例文帳に追加

液浸露光装置において基板の裏面の内側への液体の侵入を防止する。 - 特許庁

To provide a double-sided exposure apparatus capable of exposing both of top and back faces of a substrate under the same exposure conditions without requiring complicated adjustment or control.例文帳に追加

面倒な調整や制御を行わずに同一の露光条件で基板の表裏を露光できる両面露光装置を提供する。 - 特許庁

To achieve miniaturization of an image forming apparatus by applying simple configuration to support and drive a thin photoreceptor for back exposure in the image forming apparatus using a back exposure system.例文帳に追加

背面露光方式の画像形成装置において、薄肉の背面露光用感光体の支持、駆動に簡易な構成を適用することによって画像形成装置の小型化を実現する。 - 特許庁

When scanning exposure in an exposure section 6 ends, the main roller 7 rotates in the backward direction and since the exposure region exposed to the rolled photosensitive material 2 is brought back to the punching section 30, the distance between the exposure region, the distance between the exposure region and the punch holes can be made closer.例文帳に追加

露光部６における走査露光が終了すると、メインローラ７が逆方向に回転してロール状感材２に露光された露光領域をパンチ部３０まで戻すことができるので、露光領域とパンチ孔との距離を近接させることができる。 - 特許庁

To reduce the multiple exposure of the photoresist caused by the return light due to the back reflection of an original glass disk.例文帳に追加

ガラス原盤の裏面反射による戻り光によるフォトレジストの多重露光を減少する。 - 特許庁

By the LED head, the exposure of one line is performed by a time of 1/2 or shorter of a period of the back and forth operation.例文帳に追加

ＬＥＤヘッドは、往復動作の周期の１／２以下の時間で１ラインの露光を行う。 - 特許庁

The changing over of the back contrast is carried out by variation of electrified potential, developing bias voltage and exposure amount.例文帳に追加

バックコントラストの切り替えは、帯電電位、現像バイアス電圧、露光量の変化で行なう。 - 特許庁

To form fine patterns which reduces the exposure to resist by back ward scattering of an electron beam.例文帳に追加

電子ビームの後方散乱によるレジストへの露光を小さくして微細なパターンを形成する。 - 特許庁

SUBSTRATE FRONT AND BACK SURFACE MARK POSITION MEASURING METHOD, SUBSTRATE FRONT AND BACK SURFACE MARK POSITION MEASURING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF RETICLE FOR ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE例文帳に追加

基板表裏面マーク位置測定方法、基板表裏面マーク位置測定装置及び電子線投影露光用レチクルの製造方法 - 特許庁

By constituting a moving path of the substrate under exposure on the back side as a mirror image of a moving path under exposure on the front side, all positioning errors specific in the moving direction are reversed compared with front side exposure under back side exposure, so that a net overlay error between a front side device and a back side device becomes zero or close to zero.例文帳に追加

この裏側の露出中の基板の移動経路を表側の露出中の移動経路の鏡像であるようにすることによって、移動方向に特有のあらゆる位置決め誤差が裏側露出で表側露出に比べて反転され、それで表側デバイスと裏側デバイスの間の正味オーバレイ誤差がゼロまたはゼロに近くなる。 - 特許庁

To provide an automatic exposure control camera capable of always photographing an object with proper exposure irrespective of the states of follow light, back light, and over follow light.例文帳に追加

順光、逆光、過順光の状態にかかわらず被写体を常に適正な明るさで撮影することが可能な自動露光調節カメラを提供する。 - 特許庁

To realize exposure while suppressing influences of external disturbing light such as back face reflection of a reticle in the process of fine projection exposure using a transmissive reticle.例文帳に追加

透過型レチクルを用いた微細な投影露光を行う工程において、レチクルの裏面反射等の外乱光の影響を抑えた露光を実現する。 - 特許庁

The optimization alignment operation conditions of the exposure device B are fed back for the second wafer, so that an exposure processing time of the second wafer is shortened.例文帳に追加

露光装置Ｂの最適化アライメト作業条件は２枚目のウエハにフィードバックされるので２枚目のウエハの露光処理時間の短縮が図れる。 - 特許庁

Exposure arithmetic operation is performed by using the information on the sensitivity of the imaging device from the electronic still back side when it is performed by an exposure arithmetic operation means.例文帳に追加

また、露出演算手段が露出演算する場合、電子スチルバック側からの撮像素子の感度に関する情報を用いて露出演算を行う。 - 特許庁

The folded-back part 222 is folded back around the bridge part 223 as a fulcrum with a shield case 23 interposed, and fixed to an exposure part 231 on the shield case 23.例文帳に追加

折り返し部２２２は橋部２２３を支点としてシールドケース２３を挟んで折り返され、シールドケース２３上の露出部２３１に固定される。 - 特許庁

The exposure apparatus is characterized by having an exposure section for exposing the surface of a substrate, a conveying means for conveying the substrate to the exposure section, and an inspection means for inspecting the anomalies in the back side of the substrate.例文帳に追加

基板の表面に露光を行う露光部と、前記露光部に前記基板を搬送する搬送手段と、前記基板の裏面の異常を検査する検査手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To prevent exposure of ventilation gas due to a reverse flow generated when a worker stands with his/her back against a push unit.例文帳に追加

作業者がプッシュユニットを背にした場合に発生する換気ガスの逆流による曝露を防止する。 - 特許庁

A reflecting layer having a rough structure is formed on a substrate by subjecting a negative type resist to back exposure.例文帳に追加

ネガ型レジストを裏面露光することで基板上に凹凸構造を有する反射層を形成する。 - 特許庁

To provide a digital camera capable of performing proper exposure correction at the time of photographing a back-lighted scene.例文帳に追加

逆光シーンの撮影時に、適切な露出補正を行うことが可能なデジタルカメラを提供する。 - 特許庁

The bank structure 106b is obtained by performing patterning to the 2nd photoresist layer 106a by a back exposure system.例文帳に追加

背面露光方式により、第２フォトレジスト層１０６ａをパターニングしてバンク構造１０６ｂにする。 - 特許庁

A bag state slot 35 is formed in a back edge part of a front film cover 5 covering the exposure opening 12.例文帳に追加

露光開口１２を塞ぐ前フイルムカバー５の後端部分に袋状のスロット３５を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure controller which obtains an appropriate correction value at the time of back light and over-direct light and appropriately controls exposure by means of controlling the exposure in accordance with the correction value.例文帳に追加

本発明は、逆光や過順光時にも適正な補正値を求め、それに応じて露出制御することにより適正な露出制御を行なうことができる露出制御装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Wiring patterns are exposed with an exposure mask to the photosensitive resin films of back and front surfaces of an insulating substrate by using parallel light, and subsequently a side pattern is exposed with a different exposure mask to the photosensitive resin film of the side surface of the above insulating substrate by using parallel light.例文帳に追加

そのために、基板の厚みが厚い場合には側面パターンの中央部分の幅が狭くなって途中で切断されてしまうという問題があった。 - 特許庁

In the method, a mask 1 which is divided into a plurality of sections having dimensions smaller than the spread dimension of back-scattered electrons at the making of an exposure pattern forming exposure and different reflectivity is prepared.例文帳に追加

露光パターン形成露光の際の後方散乱電子の拡がり寸法より小さい寸法の反射率の異なる複数の区域に分割したマスク１を準備する。 - 特許庁

On the other hand, a golf ball is only stood in the shape of an exposure as a simple configuration in the front part of the back supporting member.例文帳に追加

一方、背面支持部材の前部には、ゴルフボールを露出状に立設するのみの簡単構成である。 - 特許庁

The line 10 feeds back a main line video signal to the exposure control block 20.例文帳に追加

アナログ・ディジタル映像信号処理本線部１０は、本線映像信号を露出制御ブロック２０にフィードバックする。 - 特許庁

The non-photosensitive layer formed on the surface by performing exposure from the back side may be removed by using a negative-type photoresist.例文帳に追加

ネガ型フォトレジストを用い、背面側から露光して表面に形成した非感光層を除去しても良い。 - 特許庁

To provide a camera film back which is equipped with a light shielding member for automatically opening a film exposure window by attaching the film back to a camera main body and automatically closing the film exposure window according to disignating operation to detach the film back, so that the insertion and extraction of a light shielding plate is unnecessitated.例文帳に追加

フイルムバックをカメラ本体に取付けることによってフイルム露光窓を自動的に開放し、また、フイルムバックの取外し指示操作にしたがってフイルム露光窓を自動的に閉成する遮光部材を備え、遮光板の挿入と抜出しを必要としないカメラのフイルムバックを提供すること。 - 特許庁

In an exposure means, an over field scanner method where exposure is carried out by a rotating polygonal mirror reflecting with a narrower surface than width of incident light is adapted and an electrostatic latent image is formed by back area exposure to a light part of the image.例文帳に追加

露光手段は、入射光束幅に対して狭い面で反射する回転多面鏡により露光するオーバーフィルドスキャナ方式によるものであり、かつ、画像明部に露光するバックエリア露光により静電潜像を形成する。 - 特許庁

BACK RADIATION TYPE IMAGING EQUIPMENT, APPARATUS FOR MEASURING ABERRATION, APPARATUS FOR MEASURING POSITION, PROJECTION EXPOSURE UNIT, METHOD FOR MANUFACTURING BACK RADIATION TYPE IMAGING EQUIPMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

背面照射型撮像装置、収差計測装置、位置計測装置、投影露光装置、背面照射型撮像装置の製造方法、およびデバイス製造方法 - 特許庁

At a time point t1 which goes back only an exposure time T from the time point t4, a voltage V0 is applied to the FD (Fig. (c)).例文帳に追加

時点ｔ４から露光時間Ｔだけ遡った時点ｔ１において、ＦＤに電圧Ｖ０を印加する（図(c) ）。 - 特許庁

Exposure to a 1st hydration solution causes the lens to swell to a size larger than its functional size and exposure to a 2nd ophthalmic solution causes the lens to shrink back to the functional size.例文帳に追加

第一の水和溶液への曝露により眼科用レンズがその機能的サイズより大きいサイズに膨潤し、第二の眼科用溶液への曝露でそのレンズが機能的サイズにまで縮小する。 - 特許庁

To provide an exposure controller for a camera capable of enhancing a back light correcting effect in the case of portrait photographing at a telepho to end.例文帳に追加

ＴＥＬＥ端でポートレート撮影をする際に、逆光補正の効果を高めるカメラの露光量制御装置を提供する。 - 特許庁

To optimally adjust exposure and correct dark gradation for both a main subject portion and a back ground portion.例文帳に追加

主要被写体部分および背景部分の両方に関して、最適な露出調節および暗部階調の補正を行うこと。 - 特許庁

The exposure amount of the vent hole can be adjusted by a sleeve which is located at the vent hole to be slid back and forth on a conveyor tube.例文帳に追加

通気孔の露出量は、通気孔の位置でコンベヤ・チューブ上を前後に摺動するスリーブによって調整できる。 - 特許庁

This cartridge 6 is provided with a shutter 61 which switches exposure and closure of a disk 60 which is stored in a shell 9 in back and forth movable way.例文帳に追加

カートリッジ6は、シェル9内に収納されたディスク60の露出と閉塞を切り換えるシャッタ61を前後移動可能に有する。 - 特許庁

To eliminate the effects of deviation and interference fringes due to contact exposure and to improve automatic alignment passage rate by registering and recognizing two images in an alignment and an exposure state, and putting the exposure state back to the alignment state and making corrections, if deviation is detected in the exposure state.例文帳に追加

本発明は、アライメント状態と露光状態での２つの画像を登録ならびに認識を行い、露光状態でズレが検出されたときに再度アライメント状態に戻して補正することにより、密着露光におけるズレや干渉縞の影響をなくし、オートアライメント通過率の向上をはかることを課題とする。 - 特許庁

Exposure to light is performed from the surface side of a resin printing plate 5' by using a negative film N1 (W2), and then, exposure to light is performed from the back surface side of the resin printing plate 5' by using a negative film N2 (W3), and thereafter, development is performed (W4).例文帳に追加

樹脂版５’の表側からネガフィルムＮ１を用いて露光を行い（Ｗ２）、その後、樹脂版５’の裏側からネガフィルムＮ２を用いて露光を行い（Ｗ３）、その後、現像を行なう（Ｗ４）。 - 特許庁

In an exposure step 30, the surface of the glass substrate is exposed by a small mask continuous exposure system while adjusting positions of exposure heads 33, 34 by reading the alignment mark through the back face side of the glass substrate while carrying the glass substrate coated with the resist.例文帳に追加

露光工程３０はレジストを塗布されたガラス基板を搬送しつつガラス基板の裏面側からアライメントマークを読み取ることにより、露光ヘッド３３、３４の位置を調整しながらガラス基板の表面を小型マスク連続露光方式により露光する。 - 特許庁

Packings 10 are provided between the edges in the front side of the LCD 2 and edges of the exposure holes in the back side of the facing 8.例文帳に追加

パッキン１０が、ＬＣＤ２の正面側の縁部と見返し８の背面側において露出穴の縁部との間に設けられている。 - 特許庁

To provide a method for producing direct-imaged flexographic printing elements such that both the front and back exposure times are economically efficient.例文帳に追加

フロント露出時間とバック露出時間が共に経済効率を満たしている直接像フレキソ印刷要素の製造法を提供する。 - 特許庁

Exposure equipment 10 patterns the liquid-repellent film applied to the substrate on the back side thereof depending on the gate electrode 13.例文帳に追加

露光装置１０は、基板の裏面側に配置され基板上に塗布された撥液膜をゲート電極１３に応じたパターンに形成する。 - 特許庁

To provide a back exposure type image forming device whose power consumption is low, which is made compact and excellent in portability and which realizes high-speed recording.例文帳に追加

低消費電力、コンパクトで携帯性に優れ、高速記録が可能な背面露光方式の画像形成装置を提供する。 - 特許庁