「Back Exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

In the exposure system (5) directs an exposure beam from a light source (1) through the optical film (40), and uses a reflective surface (58) to reflect the exposure energy back through the optical film (40) so as to enhance or otherwise further condition the photoreaction of the photosensitive layer (20).例文帳に追加

露光システム（５）は、露光する光線を光源（１）から光学フィルム（４０）を通過して導き、次いで、感光性層（２０）の光反応を増大するか、あるいはさらに条件付けるために、露光エネルギーを反射して光学フィルム（４０）によって戻す反射表面（５８）を使用する。 - 特許庁

To provide a wear having a shape in order to solve the exposure of the back and the ankle caused when a worker who works in a sitting posture and a handicapped person sit down, coldness caused by the exposure, and feeling of pressure on the belly, the thigh and the femoral region.例文帳に追加

座姿勢をとる労働者や肢体不自由者が座った時に背中や足首の露出、それに起因する冷えや腹部、股、大腿部の圧迫感を解消するための形状を有する衣服を得る。 - 特許庁

The exposure information is easily and surely confirmed at all the positions from the upper surface side to the back surface side of a camera main body 3.例文帳に追加

また、カメラ本体３の上面側から背面側にかけてのあらゆる位置で簡単確実に露出情報を確認することができる。 - 特許庁

A positive photo-resist, for example, is coated on an Mo film 12, and back light exposure from a glass substrate 1 side is carried out under masking with a bottom gate electrode 6.例文帳に追加

Ｍｏ膜１２上に例えばポジ型のフォトレジストを塗布し、ガラス基板１側から、ボトムゲート電極６をマスクとして背面露光する。 - 特許庁

By continuing this operation, an image of the long-time exposure effect is displayed in a motion image manner as a monitor indication in imaging or playing-back.例文帳に追加

これを継続することで、撮像時や再生時のモニタ表示として、長時間露光効果の画像が動画的に表示されるようにする。 - 特許庁

To provide an excellent cleansing agent excellent in smoothness of back skin in which color change and smell change under high temperature and exposure to light are prevented.例文帳に追加

後肌の滑らかさに優れ、高温下や光照射下における色変化や変臭が防止された優れた洗浄料を提供すること。 - 特許庁

A back surface exposure process is executed and a photoresist layer 212 is patterned on this passivation layer with the use of the gate and the source/drain terminal as a mask.例文帳に追加

裏面露光プロセスを実行して、このパシベーション層上に、前記ゲート、ソース／ドレイン端子をマスクとして用いて、フォトレジスト層２１２をパターン化する。 - 特許庁

To raise symmetry of response characteristic among feed back loops in synchronization position control between an original stage and a substrate stage in a scanning exposure apparatus.例文帳に追加

走査露光装置における原板ステージと基板ステージ間の同期位置制御において、フィードバックループ間における応答特性の対称性を高める。 - 特許庁

The hinge mechanism 46 catches the scanner frame 12 so that the scanner frame 12 is not leaned to the turning back section 45 side in the exposure position.例文帳に追加

ヒンジ機構４６は、前記露出位置において前記スキャナフレーム１２が折返し部４５側へ倒れないように、当該スキャナフレーム１２を受け止める。 - 特許庁

To provide an installation structure of a back door lock cover capable of easily installing the lock cover, and improving appearance without exposure of an installation bolt or the like.例文帳に追加

ロックカバーを簡単に取付け可能で、取付ボルトなどが露呈せず見栄えの向上を実現するバックドアロックカバーの取付構造を提供する。 - 特許庁

To facilitate handling of an intaglio plate for transfer to be used for forming a color material portion or a light shielding portion of a color filter on a large glass substrate by a back face exposure method.例文帳に追加

大サイズのガラス基板にカラーフィルタの色材部や遮光部を裏面露光法によって作成する転写用凹版の取り扱いを容易にする。 - 特許庁

Using at least one of the effective light exposure and the focus position thus determined, next and subsequent lots are fed back and exposed (step S111).例文帳に追加

求められた実効的な露光量及びフォーカス位置の少なくとも一方を用いて、次ロット以降のロットに対してフィードバックをかけて露光する（ステップＳ１１１）。 - 特許庁

To provide a tape provided with disconnecting harnesses having a trim, highly excellent appearance and a good form with no exposure of sewing threads on a front side and a back side of the tape.例文帳に追加

テープの表面側および裏面側に縫着糸が一切露出することのないすっきりとした極めて外観優美で体裁良好になっている。 - 特許庁

The block 20 notifies the microcontroller 30 of a luminance level differentiating quantity detection result and an exposure error determining result from the fed-back signal.例文帳に追加

露出制御ブロック２０はフィードバックされた信号から、マイクロコントローラ３０に対して輝度レベル微分量検出結果並びに露出誤差判定結果を通知する。 - 特許庁

Thereafter, exposure light 32 is made to strike the glass substrate 11 from its back side 11b to expose the negative photoresist 31 by using the chromium/nickel laminate 27 as a mask plate.例文帳に追加

その後、ガラス基板１１の裏面１１ｂ側から露光光３２を照射して、クロム・ニッケル積層体２７をマスクとして利用してネガレジスト３１を露光する。 - 特許庁

To provide a paper that is suppressed in exposure of a magnetic material to front and back surfaces compared to a case where the magnetic material does not have unevenness on an outer peripheral surface.例文帳に追加

磁性材料の外周面に凹凸を有さない場合に比べ、磁性材料の表裏面への露出が抑制された用紙を提供する。 - 特許庁

The surrounding part excluding the edge 223 on the side of a center exposure area 235 of the rear absorbent body 22 is bonded to the back sheet 23, and the rear pocket 27 is formed between the rear absorbent body 22 and the back sheet 23.例文帳に追加

後部吸収体２２の中央露出領域２３５側のエッジ２２３を除く周囲の部位はバックシート２３に接合されており、後部吸収体２２とバックシート２３との間に後部ポケット２７が形成される。 - 特許庁

To provide an exposure equipment which controls the water flowing into the back side of a wafer substrate, elevates the precision of transfer in a surrounding area of the wafer substrate, and can reduce the contamination on the back side of the wafer substrate.例文帳に追加

ウエハ基板の裏面側への水の流入を抑制し、ウエハ基板の周辺領域における転写精度の向上を図ると共に、ウエハ基板の裏面の汚染を低減することができる露光装置を提供する。 - 特許庁

Further, a light shield piece 142 is extended from the photoreceptor protection paper 140, fixed to the back surface of the image forming cartridge 15, and disposed between an exposure device and the photoreceptor to cut off light from the semiconductor laser of the exposure device.例文帳に追加

また、感光体保護紙１４０からは遮光片１４２を延出させ、画像形成カートリッジ１５の裏面に固着させ、露光装置と感光体の間に配置して、露光装置の半導体レーザからの光を遮るようにしている。 - 特許庁

The plate making method for the flexographic printing plate is characterized in performing (5) surface processing for carrying out irradiation with ultraviolet rays of 200 to 300 nm in wavelength by 3.6 J/cm^2 after (1) back exposure, (2) main exposure, (3) development, and (4) drying.例文帳に追加

１）裏露光、２）主露光、３）現像、４）乾燥の後に、５）波長２００〜３００ｎｍの紫外線を３．６Ｊ／ｃｍ^２以上照射する表面処理を行うことを特徴とするフレキソ印刷版の製版方法。 - 特許庁

In this camera 2, a surface inclined to a back surface side is provided on the side of an accessory shoe 27 to which a finder unit 5 is attached, and an exposure information display part 33 is provided on this surface.例文帳に追加

ファインダユニット５が取り付けられるアクセサリーシュー２７の側方に、背面側に傾斜された面を設け、この面に露出情報表示部３３を設ける。 - 特許庁

To prevent peeling of an adhered layer during etch back of an electrically conductive film in the peripheral regions of a wafer, in a case in which hole patterns are formed through the exposure of the whole area of the wafer, and plugs are formed.例文帳に追加

全面露光によりホールパターンを形成し、プラグを形成する際に、ウェハ周辺領域において、導体膜のエッチバック時に密着層が剥がれるのを防止する。 - 特許庁

To provide a double-face drawing apparatus which can directly draw a pattern with an exposure light beam on a resist layer on the top and the back surfaces of a substrate, and to provide a method for drawing an image.例文帳に追加

基材の表面および裏面のレジスト層に露光ビームでパターンを直接描画できる両面描画装置およびその描画方法を提供する。 - 特許庁

The resist discharged on a data line and a gate line is cured by exposure through the back face of the glass substrate to form a bank for formation of an electrode film (ITO) for a pixel electrode.例文帳に追加

データ配線、ゲート配線に吐出されたレジストをガラス基板の裏面からの露光で硬化させ、画素電極用の電極膜（ＩＴＯ）形成のためのバンクとする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which exactly estimates attenuation caused by electrifying pre-exposure and appropriately feeds it back to a toner image forming condition such as electrification voltage.例文帳に追加

帯電前露光に起因する減衰を正確に見積もって帯電電圧等のトナー像の形成条件に適正なフィードバックを行える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a digital still video camera capable of performing appropri ate exposure control even when an object includes back light, excessive follow light and a local high luminance part.例文帳に追加

逆光、過順光、局所的な高輝度部を含む被写体の場合においても、適正な露出制御を行うことが可能なデジタルスチルビデオカメラを提供すること。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of an array substrate for displays for setting the width of an etching stopper 118 smaller than that of a gate line by back exposure, and for forming ΔL.例文帳に追加

裏面露光によってゲート線の幅よりもエッチングストッパ１１８の幅を小さくし、ΔＬを形成できる表示装置用アレイ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Light is applied from a lower part to perform back exposure, wherein a shadow generated by a light-shielding region of the mask and that generated by the gate electrode 320 become non-exposure regions of a resist layer, and patterning is performed to form the source and drain electrodes 350, 360.例文帳に追加

下方から光を照射し、マスクの遮光領域によって生じる影とゲート電極３２０によって生じる影とが、レジスト層の非露光領域となるような背面露光を行い、パターニングしてソース電極３５０およびドレイン電極３６０を形成する。 - 特許庁

Under the knee control, the knee point and compressibility are adjusted to lower the knee point more as the luminance level of a composite signal composed of the long-time exposure signal and short-time exposure signal is lower and also to put the gradient of the incident light quantity-luminance level straight line back to the original gradient.例文帳に追加

このニー制御では、長時間露光信号と短時間露光信号の合成信号の輝度レベルが高いほどニーポイントを下げるとともに入射光量−輝度レベル直線の傾きを元に戻すように、ニーポイントおよび圧縮率が調整される。 - 特許庁

The exposure part 11 exposed from one surface is formed at least one-side end of the insulators 5 and 7, and the stiffener formed of a photo-curing resin 13 is formed on the back face of, for instance, the one-side insulator 7 including the area of the exposure part 11.例文帳に追加

前記絶縁体５，７の少なくとも一方の端部に片面に露出する導体露出部１１を設け、この導体露出部１１の領域を含む例えば一方の絶縁体７の裏面に光硬化性樹脂層１３からなる補強体を設けている。 - 特許庁

A termination setting switch 39 provided to the body module M among setting switches for making communication settings is arranged on the front of the body module M; and an identifier setting switch 40 provided to the exposure panel P is arranged on the back of the exposure panel P.例文帳に追加

通信設定を行うための設定スイッチのうち、本体モジュールＭに設けられる終端設定スイッチ３９は本体モジュールＭの前面に配置され、露出パネルＰに設けられる識別子設定スイッチ４０は露出パネルＰの背面に配置される。 - 特許庁

Thus, the excreta is surely received in the center exposure area 235 of the back sheet 23, and it is made possible to easily guide the excreta to the internal space of the rear pocket 27.例文帳に追加

これにより、排泄物をバックシート２３の中央露出領域２３５にて確実に受けることができ、排泄物を後部ポケット２７の内部空間へと容易に導くことが可能となる。 - 特許庁

To provide a projection aligner of a structure wherein, when the result of the evalution of a leading wafer is fed back to perform a calibration of the main conditions of exposure, the convertion of input data using an operator is unnecessary.例文帳に追加

先行ウェハの評価結果をフィードバックして本露光条件の較正を行う際に、オペレータによる入力データの変換が不要な投影露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter by using a back exposure having a flattening layer for filling up irregularities between pixels without executing precise positioning, and a liquid crystal display device.例文帳に追加

精密な位置合わせを行なわずに、画素間の凹凸を埋める平坦化層を有する背面露光を用いたカラーフィルターの製造方法および液晶表示装置の提供。 - 特許庁

To provide a mask blank having a reduced front-surface reflectance and a reduced back-surface reflectance and adaptable to further miniaturization, in light transmission lithography using ArF exposure light.例文帳に追加

ＡｒＦ露光光を用いた光透過型リソグラフィにおいて、表面反射率および裏面反射率が低減された、さらなる微細化に対応可能なマスクブランクを提供する。 - 特許庁

This photo printer draws back a roll paper sheet 11 to a paper feeding side in a state wherein a magenta fixing lamp 13 is lit, and prints a cyan image while performing exposure by means of the lamp 13.例文帳に追加

フォトプリンタはマゼンタ定着用ランプ１３を点灯した状態で、ロール紙１１を給紙側に引き戻し、マゼンタ定着用ランプ１３で露光しながら、シアン画像を印画する。 - 特許庁

The counterpoise 220 is placed on the back panel 144 of an external case 140, is located with a certain distance from a front panel 142, and reduces radio wave exposure to the user.例文帳に追加

カウンタポイズ２２０は、外部ケース１４０の後ろパネル１４４に配置し、前パネル１４２からある距離を持って離れて位置し、ユーザに対する電波曝露を低減させるようにする。 - 特許庁

Also, they are moved back and forth between the specified positions (high temperature regions) of a scanning region at other than an exposure time according to the temperature distribution in a subscanning direction measured by the temperature detecting means in the scanning region.例文帳に追加

さらに走査領域中の温度検知手段が測定した副走査方向の温度分布から露光時以外に走査領域の特定（高温度領域）位置を往復移動する。 - 特許庁

The film unit 2 with a lens has an outer cover composed of a front cover unit 21 and a back cover 22, a main body base 23 and an exposure unit 26 are housed and a film cartridge 28 is loaded.例文帳に追加

レンズ付きフイルムユニット２は、前カバーユニット２１と後カバー２２とで外カバーが構成され、この内部に、本体基部２３、露光ユニット２６が内蔵され、フイルムパトローネ２８が装填されている。 - 特許庁

The finish of each of the photoresist patterns 10-16 is evaluated, and the result is fed back for easy determination of an optimal focus setting for the exposure of wafers bearing the same base films (2-7) and the same wiring pattern.例文帳に追加

各ホトレジストパターン１０〜１６の出来映えを評価し、この結果を下地膜（２〜７）での配線パターンが同じウエハにおける露光の際の最適フォーカス設定に反映する。 - 特許庁

On a transparent substrate 101, CF layers 102, 103, 104 and a source bus line 105 are formed and a BM layer 106 is formed with back exposure by using the CF layer 102 as a mask.例文帳に追加

透明基板１０１上にＣＦ層１０２、１０３、１０４及びソースバスライン１０５を形成し、ＣＦ層１０２をマスクとして裏面露光によりＢＭ層１０６を形成する。 - 特許庁

After completing the alignment, the top face and the back face of the belt-like work W are simultaneously exposed by irradiating with exposure light from irradiation parts 41, 42 via the masks M1, M2 and projection lenses 31, 32.例文帳に追加

位置合せ終了後、光照射部４１，４２からマスクＭ１，Ｍ２、投影レンズ３１，３２を介して、露光光が照射され、帯状ワークＷの表面と裏面が同時に露光される。 - 特許庁

A floor is created in the solid photosetting material by back exposure through the support layer containing the actinic radiation absorbing compound, a negative image is transferred directly onto the solid photosetting material by photoablating the photoablative mask layer, and the solid photosetting material is cured by front exposure.例文帳に追加

化学照射線吸収性化合物を含有する支持体層を通してバック露出して固体光硬化性物質中にフロアをつくり、光削摩性マスク層を光削摩してネガ像を直接固体光硬化性物質上に移し、次いでフロント露出して固体光硬化性物質を硬化させる。 - 特許庁

In configuring the photographic printing device equipped with a relief groove extended in a photographic paper carrying direction on an abutting surface 51S coming into contact with the base surface of the photographic paper in an exposure unit for performing exposure processing of the photographic paper whose back side has been already printed, the width of the relief groove 80 is changed in the carrying direction.例文帳に追加

バックプリント済みの印画紙を露光処理する露光ユニットにおける印画紙のベース面に接触する当接面５１Ｓに、印画紙の搬送方向に延びる逃し溝を備えた写真プリント装置を構成するに、搬送方向において逃し溝８０の幅を変化させる。 - 特許庁

To provide a camera equipped with a focal-plane shutter where a rear curtain is made to travel after a front curtain is made to travel similarly to the case of ordinary exposure so that the movement of the shutter curtain may be known from the back in a state where a back cover is opened on a condition that film is not loaded.例文帳に追加

フィルムが入っていない状態では、裏蓋を開けた状態で背面からシャッタ幕の動きがわかるように、通常の露光と同じように先幕を走行させた後に後幕を走行させるフォーカプレーンシャッタを備えたカメラを提供すること。 - 特許庁