「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Consequently, a short-circuit between the gate electrode portion 10 and the capacity contact plug 25 can be prevented when a contact plug 22 is formed by a CMP(Chemical Mechanical Polishing) process and then a capacity contact hole 24 is opened by etching to form the capacity contact plug 25.例文帳に追加

これにより、ＣＭＰ処理を経てコンタクトプラグ２２を形成し、さらに、エッチングにより容量コンタクトホール２４を開口して容量コンタクトプラグ２５を形成した場合に、ゲート電極部１０と容量コンタクトプラグ２５とのショートを防止することができる。 - 特許庁

To inexpensively provide a compact quantum point contact in the same level as the manufacturing process of a field effect transistor.例文帳に追加

電界効果トランジスタの製造工程と同程度で、しかも小型の量子ポイントコンタクトを安価に提供する。 - 特許庁

Thus, the dielectric film 17 is prevented from being damaged in the lithographic process when forming the contact hole.例文帳に追加

これにより、コンタクトホール形成時のリソグラフィ工程において、誘電体膜１７がダメージを受けることが防止される。 - 特許庁

In the image forming process, the contact pressure of the grinding blade is controlled to a high pressure or a low pressure in accordance with the level of the dot area ratio.例文帳に追加

画像形成工程では、黒字率の高／低に応じて、研磨ブレードの接圧を高／低に制御する。 - 特許庁

To manufacture, through a reduced number of process, an expansion θpipe in which a partition plate and the pipe body are suitably in close contact with each other.例文帳に追加

仕切り板とパイプ本体とが良好に密着した拡管θパイプを少ない工程数で作製できる。 - 特許庁

A thin damaged layer 37b on an upper face of a contact plug 37b is formed by means of accelerated ions in an etch-back process.例文帳に追加

コンタクトプラグの上部表面にエッチバック工程時加速化されたイオンにより損傷層が薄く形成される。 - 特許庁

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR FOR CONTACT ELECTRIFICATION PROCESS, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE EQUIPPED WITH THE PHOTORECEPTOR例文帳に追加

接触帯電プロセス用電子写真感光体、その製造方法およびこの感光体を備える電子写真装置 - 特許庁

CONTACT TREATMENT SUBSTANCE, CATALYST COMPONENT FOR ADDITION POLYMERIZATION, CATALYST FOR ADDITION POLYMERIZATION, AND PREPARATION PROCESS OF ADDITION POLYMER例文帳に追加

接触処理物、付加重合用触媒成分、付加重合用触媒および付加重合体の製造方法 - 特許庁

In the acid-treating process, the natural protein fiber is brought into contact with the acid to produce an acid-treated protein fiber.例文帳に追加

酸処理工程では、天然タンパク質繊維が酸に接触させられて酸処理タンパク質繊維が製造される。 - 特許庁

To provide a method for burying a contact hole in a semiconductor device which includes a dry cleaning step as a pre-process step.例文帳に追加

ドライ洗浄工程を前工程として含む半導体装置のコンタクトホール埋め込み方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the embedding of a patterns for forming a contact by overflow in an existing resist flow process.例文帳に追加

既存のレジストフロー工程でオーバーフロー（over flow）によりコンタクトホールを形成するためのパターンが埋め込まれることを防止する。 - 特許庁

Thus, the process cartridge 8 is attached to and detached from a printer 1 without contact with the LED array head 141.例文帳に追加

従ってプロセスカートリッジ８は、ＬＥＤアレイヘッド１４１と接触することなく、プリンタ１に対して着脱される。 - 特許庁

(1) A gas-sealing skirt 70 useful for protecting a suspension wall 50 from directly coming into contact with process gas.例文帳に追加

（１）サスペンション壁５０を、プロセスガスと直接接触することから保護するのに役に立つガス密閉スカート７０。 - 特許庁

The casting film 61 and a poor solvent of the solid electrolyte are made to be contacted in a contact solvent process 66b.例文帳に追加

接触溶媒工程６６ｂでは、流延膜６１と固体電解質の貧溶媒とを接触させる。 - 特許庁

In a GDL bonding process, first, a GDL is arranged so as to contact with an outer surface of a CNT catalyst layer.例文帳に追加

ＧＤＬ接合工程においては、先ず、ＣＮＴ触媒層の側面に接するようにＧＤＬを配置する。 - 特許庁

To efficiency carry out decision of quality in pressure contact process and setting of an optimum operation condition.例文帳に追加

圧接工程における良否判定と最適稼働条件の設定が効率よく行えるようにすることにある。 - 特許庁

In this process, the stopper contacting parts 24 of the bracket 10 side contact the stopper parts 14 of the electrical connection box 10 side.例文帳に追加

この時、ブラケット２０側のストッパ当接部２４が、電気接続箱１０側のストッパ部１４に当接される。 - 特許庁

To decrease steps of forming a contact hole and to simplify the manufacturing process in an electro-optical device.例文帳に追加

電気光学装置において、コンタクトホールを形成する工程を低減でき、製造プロセスの単純化を可能とする。 - 特許庁

The reaction process is preferably conducted so that the organosilane compound 1 is brought into contact with the inorganic solid 2 and heated.例文帳に追加

反応工程では，有機シラン化合物１と，無機系固体２とを接触させ加熱することが好ましい。 - 特許庁

To connect a lower-layer wire and an upper-layer wire without any process of burying a conductive material in a contact hole.例文帳に追加

コンタクトホールの中に導電性材料を埋め込む工程なしで、下層配線と上層配線とを接続する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor, allowing the manufacturing process to be reduced to lower the contact resistance between layers.例文帳に追加

製造工程を減らし、層間の接触抵抗を低められる薄膜トランジスターの製造方法を提供する。 - 特許庁

In an etch process using the hard mask pattern, a contact hole (112) through which a semiconductor substrate (100) is exposed is formed.例文帳に追加

このハードマスクパターンを用いたエッチング工程で半導体基板(100)が露出されるコンタクトホール(112)を形成する。 - 特許庁

This cleaner is further provided with an ozone water generation part and performs the gas-liquid contact using the generated ozone water as the process liquid.例文帳に追加

またオゾン水生成部を備え、生成したオゾン水を処理液として、気液接触を行うこともできる。 - 特許庁

The contact lens is formed through a pouring casting process with the mold assembly consisting of many identical molds stacked each other.例文帳に追加

また、互いに積み重ねられる多数の同一型からなる型アセンブリでコンタクトレンズを流し込み成形する方法。 - 特許庁

An water level in a washing process is set lower than a place where the seal member 8 is in contact with a door 9.例文帳に追加

洗い行程における水位を、前記シール部材８の扉９との接触個所より低く設定している。 - 特許庁

The elastic contact material absorbs dimensional fluctuations of an injected material during a formation process.例文帳に追加

前記弾性接触部材は、前記形成プロセスの間の前記注入材料の寸法変動を吸収する。 - 特許庁

In the same process as a process wherein the bit lines 6 is formed on a cell contact interlayer film 8 by etching, etching is so performed that the upper surface of the cell contact 9 which is not connected to the bit line 6 is made lower than the upper surface of the cell contact 9 connected to the bit line 6.例文帳に追加

そして、ビット線６をセルコンタクト層間膜８上にエッチングにより形成する工程と同一の工程において、ビット線６と接続しないセルコンタクト９の上面が、ビット線６と接続するセルコンタクト９の上面よりも低くなるようにエッチングする。 - 特許庁

A treatment method of a membrane electrode assembly for a solid polymer fuel cell includes a process preparing alcohol aqueous solution, a process making the membrane electrode assembly in contact with the alcohol aqueous solution, and a process cleaning the assembly which is made in contact with the alcohol aqueous solution.例文帳に追加

本発明によれば、アルコール水溶液を準備する工程と、アルコール水溶液に膜電極接合体を接触させる工程と、アルコール水溶液に接触させた接合体を洗浄する工程とを含む、固体高分子型燃料電池用膜電極接合体の処理方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method in which coronene in a product (reformate) is analyzed with high accuracy when the coronene generated and deposited by a peripheral apparatus or the like in a contact reforming process of a naphtha fraction in a petroleum refining process is cleaned by the product (reformate) obtained in the contact reforming process.例文帳に追加

石油精製工程におけるナフサ留分の接触改質工程の周辺機器等で生成し堆積するコロネンを、この接触改質工程で得られる製品（リフォーメート）で洗浄した際の、リフォーメート中のコロネンを高精度で分析する方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the wooden part-containing wooden material comprises a process (a) of making a wooden part contact with an alkali binder (a1) and thiacloprid (a2) and a process (b) of pressing the wooden part-containing wooden material treated in accordance with the process (a) at a press contact surface temperature of 126°C to 240°C under compression.例文帳に追加

ａ）木質パーツを、ａ１）アルカリ性バインダー、およびａ２）チアクロプリドと接触させる工程と、ｂ）工程ａ）に従い処理した木質パーツを含む木質パーツ床を、加圧下、１２６℃〜２４０℃のプレス接触表面温度でプレスする工程とを含む、木質パーツ含む木質材料の製造方法。 - 特許庁

This method of screening the anticancer agent includes: a process of bringing a cancer cell manifesting TACC3 protein and a candidate substance into contact with each other; a process of measuring the percentage of a mitotic cell for the cell brought into contact with the substance; and a process of measuring the manifestation or function of the TACC3 protein in the cell brought into contact with the substance.例文帳に追加

ＴＡＣＣ３タンパク質を発現する癌細胞と候補物質とを接触させる工程、および該物質と接触させた該細胞における、有糸分裂細胞の割合を測定する工程、および該物質と接触させた該細胞におけるＴＡＣＣ３タンパク質の発現または機能を測定する工程、を含む、抗癌剤のスクリーニング方法。 - 特許庁

To provide a manufacturing method, a multi-face attached antenna sheet and a multi-face non-contact IC card, allowing efficient operation inspection in a manufacturing process for a non-contact IC card.例文帳に追加

非接触ＩＣカードの製造工程における動作検査を効率的に行える製造方法と多面付けアンテナシート、多面付け非接触ＩＣカードを提供する。 - 特許庁

To surely eliminate a contact failure of an IC card in an IC card reader/writer in which a contact pin is formed on a slider engaged with the end of the IC card in its insertion process.例文帳に追加

ＩＣカードの挿入過程で先端に係合するスライダーにコンタクトピンを形成したＩＣカードリードライターのＩＣカードのコンタクトを不良を確実に解消すること。 - 特許庁

To automate the process of soldering work with flow solder by inserting a movable contact plate into a print plate so that the movable contact plate, without being soldered, is fixed by itself onto the print plate.例文帳に追加

可動接触板をプリント板にはんだ付けしない状態で、自立固定するよう挿着することにより、フローはんだによるはんだ付け作業工程を自動化する。 - 特許庁

According to this contact structure, minute contact pins can be prevented from breaking, and satisfactory productivity is obtained, because the process of manufacturing printed boards and ceramic substrates can be utilized.例文帳に追加

本コンタクトの構造によれば微細なコンタクトピンの破壊防止が可能であり、また、プリント基板やセラミック基板の製造プロセスを利用できるので生産性もよい。 - 特許庁

To reduce the permanent deformations of a roller rotating in contact with the rotatable image carrier, in the position where they are in contact with each other, in a process cartridge and image forming device.例文帳に追加

プロセスカートリッジ及び画像形成装置において、回転可能な像担持体に当接して回転する回転ローラの像担持体との当接位置での永久変形を軽減する。 - 特許庁

The temperature of the source-contact electrode 16 when the surface of the source-contact electrode 16 is exposed in an oxygen containing atmosphere, is brought at 100°C or lower after the heat treatment process.例文帳に追加

熱処理する工程の後、ソースコンタクト電極１６の表面を酸素含有雰囲気に曝露するときのソースコンタクト電極１６の温度を１００℃以下にする。 - 特許庁

The master electrode 8 is put in close contact with the substrate 9 and the etching/plating pattern is directly transferred onto the substrate 9 by using a contact etching/plating process.例文帳に追加

マスター電極（８）は基材（９）と密接して置かれ、エッチング／めっきパターンが、密接エッチング／めっきプロセスを使用して直接的に基材（９）上に転写される。 - 特許庁

Also, the resistor is formed with the same process as that of the formation of the contact electrode layer of the HBT, and the resistor is prepared by realizing a high resistor of the contact electrode layer.例文帳に追加

また、抵抗体を、ＨＢＴのコンタクト電極層の成膜と同一工程で成膜すると共に、コンタクト電極層を高抵抗化処理して抵抗体を作製する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which the contact resistance is not increased even upon occurrence of misalignment between a cell contact and an active region, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

セルコンタクトのアクティブ領域に対する位置合わせにずれが生じた場合でも、コンタクト抵抗を増大させない半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the output electrical contact positioned at the electrical connecting position and the input electrical contact for receiving voltage for enabling the process means to be operable are connected.例文帳に追加

これにより、電気接続位置に位置せしめられた出力電気接点とプロセス手段が作動するための電圧を受ける入力電気接点とを接続する。 - 特許庁

The method of manufacturing the absorbent article 1 comprises a process of applying the low-viscosity fluid by using a non-contact type application device 10 on the surface to be in contact with the skin of a user.例文帳に追加

使用者の肌に接する面に、非接触式塗布装置１０を用いて低粘度流体を塗布する工程を有する吸収性物品１の製造方法である。 - 特許庁

To provide a contact electrification type image forming member which hardly causes dielectric breakdown by a leak current even in the electrophotographic process of a contact positively chargeable system.例文帳に追加

正帯電の接触帯電方式の電子写真プロセスにおいても、リーク電流による絶縁破壊が発生し難い接触帯電式画像形成部材を提供する。 - 特許庁

When the process cartridge is attached to the electrophotographic image forming apparatus in a state in which the sealing member is not removed, the contact part of the memory member and the main body electrical contact part are separated by the handle member or the sealing member.例文帳に追加

カートリッジが画像形成装置本体に装着された状態で、シール部材を引き抜くための把手部である把手部材がメモリタグを覆い、保護する構成。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image forming apparatus increased in the reliability of electrical connection between a cartridge electrical contact and a main body electrical contact, and a cartridge and a process cartridge.例文帳に追加

カートリッジ電気接点と、本体電気接点との電気接続の信頼性を向上させた電子写真画像形成装置、カートリッジ、及び、プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁