| 意味 | 例文 |
CONTACT PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2490件
The antifouling layer forming process includes a process in which an application surface of a sheet for transfer where a composition for forming the antifouling layer is applied is brought into press-contact with the functional layer surface and is heated.例文帳に追加
防汚層を形成する工程は、防汚層形成用組成物が塗布された転写用のシートの塗布面を機能層の表面に圧着および加熱する工程を含む。 - 特許庁
The separating part 50 separates a paper subjected to a fixing process from a heating belt 33, by having a separating face 50a capable of coming into contact with an image formed side of the paper subjected to the fixing process.例文帳に追加
分離部50は、定着処理後の用紙の画像が形成された面に接触可能な分離面50aを有し、定着処理後の用紙を加熱用ベルト33から分離する。 - 特許庁
The detection method of the hydrophobic region of the target substance includes a process for bringing the target substance capable of forming the hydrophobic region into contact with a chemiluminescent substance and a process for measuring chemiluminescence.例文帳に追加
疎水部位を形成し得る標的物質と化学発光物質とを接触させる工程、及び化学発光を測定する工程を含む、標的物質の疎水部位を検出する方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the separator 18 has a process giving hydrophilic property to at least a part of the surface of the gas passage 30 and a process giving hydrophobic property to the electrode contact surface 31.例文帳に追加
このセパレータ18は、ガス流路30の表面の少なくとも一部に親水性を付与する工程と、電極接触面31に撥水性を付与する工程と、を備えている。 - 特許庁
To provide for forming a fine pattern of a semiconductor device utilizing a double patterning process, which achieves a contact hole pattern of a fine pitch exceeding the resolution limit in a photolithography process.例文帳に追加
フォトリソグラフィ工程での解像限界を超える微細ピッチのコンタクトホールパターンを実現可能な、ダブルパターニング工程を利用する半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The transfer body unit 52 whose movement is regulated comes into contact with process cartridges 28Y, 28M, 28C and 28K, and regulates movement of the process cartridges 28Y, 28M, 28C and 28K in a take-out direction.例文帳に追加
移動を規制された転写体ユニット52は、プロセスカートリッジ28Y、28M、28C、28Kに接触しており、プロセスカートリッジ28Y、28M、28C、28Kの取り出し方向への移動を規制する。 - 特許庁
To prevent tight contact of a buffer member with the tip of a heater bar during connecting process, which avoids spoiling workability of the process and improving productivity of liquid crystal display devices.例文帳に追加
接続工程時に緩衝部材がヒータバーの先端面に密着させないことにより、接続工程の作業性を損なわせず、ひいては液晶表示装置の生産性を向上させる。 - 特許庁
To provide a method of forming a transparent electrode film capable of dispensing with a process of removing only an unnecessary insulation film that is produced when a contact hole is formed so as to simplify a manufacturing process.例文帳に追加
コンタクトホールを形成した際に生じる不要な絶縁膜のみを除去する工程を省略し、工程を簡素化することができる透明電極膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
In a method for manufacturing a glass substrate for an information-recording medium, the surface of a glass substrate is made to contact a liquid at least for 10 minutes before a scrub washing process after a polishing process.例文帳に追加
情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、研磨工程後スクラブ洗浄工程前に、ガラス基板の表面を液体と10分間以上接触させることを特徴とする。 - 特許庁
For a gas-liquid contact method, there are a method using a wet filter for which an air permeable filter is impregnated with the process liquid and a method of emitting the process liquid in an atomization form or a water film form.例文帳に追加
気液接触方法は、通気性フィルターに処理液を含浸させた湿潤フィルターを用いる方法や、処理液を噴霧状または水膜状に放出する方法がある。 - 特許庁
To provide an organic solar cell reducing a contact resistance between an organic layer and an electrode and having a high photoelectric-conversion efficiency, and a manufacturing process by an easy process for the organic solar cell.例文帳に追加
有機層と電極との接触抵抗を低減した、高光電変換効率を有する有機太陽電池と容易なプロセスによるその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
If necessary, the method may include the oxidation conversion process of bringing the used alumina into contact with steam before the chloride conversion process to convert fluoride present in parallel into an oxide.例文帳に追加
必要に応じて、前記塩化転換工程の前に、使用済アルミナを水蒸気と接触させて、共存するフッ化物を酸化物に転換する酸化転換工程を設けてもよい。 - 特許庁
The method for regenerating a resist process liquid includes steps of bringing a resist containing process liquid discharged in a resist removing step into contact with a heterogeneous photocatalyst to remove and decompose the resist.例文帳に追加
レジスト除去工程から排出されたレジスト含有処理液を不均一光触媒と接触させて、レジストを除去及び分解する工程を含むレジスト処理液の再生方法。 - 特許庁
To provide a producing method for semiconductor memory device, with which a production process can be simplified by omitting a bit line contact forming process and the performance of a DRAM can be improved.例文帳に追加
ビットラインコンタクト形成工程を省略することで製造工程を単純化させ且つ、DRAMの性能を向上させることのできる半導体メモリ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
This method for detecting Azoarcus sp.MA-23 strain comprises a process for bringing an oligonucleotide of labeled sequence number 1 (refer to the specification) into contact with a specimen and carrying out a hybridization and a process for detecting the labeled substance.例文帳に追加
標識した配列番号1のオリゴヌクレオチドを検体に接触しハイブリダイゼーションを行う行程と、前記標識物質を検出する行程とを具備する MA-23 株の検出方法。 - 特許庁
The manufacturing method for the contact pin for the electrical test, which is characterized by being made of porus metal, is desired to have metal coating process for providing a metal coating on a substrate, resist layer forming process, patterning process, porus metal filling process, resist layer removing process and porus metal removing process.例文帳に追加
多孔質金属からなることを特徴とする電気テスト用コンタクトピンであり、その製造方法としては、基板上に金属被覆膜を設ける金属被覆工程、レジスト層形成工程、パターニング工程、多孔質金属充填工程、レジスト層除去工程、多孔質金属部分離工程を有することを特徴とする電気テスト用コンタクトピンの製造方法が好ましい。 - 特許庁
To provide an image reader capable of bringing an original into close contact with an image reading area without making the manufacturing process complicated.例文帳に追加
製造プロセスが複雑にならず、画像読取領域に原稿を密着させることができる画像読取装置を提供する - 特許庁
To provide a process for refining a coke oven gas which makes the facility scale of a first gas-liquid contact column smaller than the conventional one.例文帳に追加
従来よりも第1気液接触塔の設備規模を小さくすることができるコークス炉ガスの精製方法を提供する。 - 特許庁
This image forming device is provided with a photoreceptor drum 17 in the process cartridge 18, and an electrifying roller 19 and a cleaning blade 22a are arranged in contact with the drum 17.例文帳に追加
プロセスカートリッジ18の感光ドラム17を設け、これに帯電ローラ19、クリーニングブレード22aを接触配置する。 - 特許庁
Thereby, a large area made of a jig and the pressed part can be taken in a process for press-fitting and holding the contact in the housing.例文帳に追加
これにより、コンタクトをハウジングに圧入保持させる工程において治具と被押圧部との面積を大きくとることができる。 - 特許庁
To prevent a short circuit between a contact and a gate electrode connected to a source-drain region in a gate structure formed by a gate last process.例文帳に追加
ゲートラストプロセスで形成されたゲート構造において、ソース・ドレイン領域に接続するコンタクトとゲート電極とのショートを防ぐ。 - 特許庁
To provide a highly reliable semiconductor device in which conduction between drain and substrate contact can be prevented, and to provide its fabrication process.例文帳に追加
ドレイン−基板コンタクト間導通を防止できる、高信頼性を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
Then, in a step 12, ultraviolet irradiation process to an Si wafer, which activates the modification of a contact opening part surface, is executed.例文帳に追加
次に、ステップ12でコンタクト開口部表面の改質を促すSiウェハに対する紫外線照射工程がなされる。 - 特許庁
To provide a shape wire drawing die by which a drawing resistance is reduced at the time of the shape wire drawing process in the manufacture of a contact wire.例文帳に追加
トロリ線の製造における異形伸線加工時の引抜抵抗が小さくなるような異形伸線ダイスを提供すること。 - 特許庁
The heat dissipation blocks directly come into contact with the lead frame, and the solidification process is performed at a temperature substantially lower than 300°C.例文帳に追加
散熱ブロックがリードフレームに直接接触するとともに、固化プロセスが実質的に300℃より低い温度で実施される。 - 特許庁
In the preliminary process, a pinion 12 is pulled up by a magnet switch 2 in order that the pinion 12 is brought into contact with a ring gear R.例文帳に追加
予備過程では、マグネットスイッチ2によってピニオン12を押し出し、ピニオン12がリングギヤRに当接した状態にしておく。 - 特許庁
To provide a wiring board and a multilayer wiring board capable of forming a highly reliable contact via, and to provide its producing process.例文帳に追加
信頼性の高い接続ビアを形成することができる配線板、多層配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a process for manufacturing a rotary electric machine in which a contact state of a brush and a commutator can be settled in a short time.例文帳に追加
短時間で、ブラシと整流子との接触状態を安定させることができる回転電機の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device manufacturing method in which a self aligned contact etching process is used and capable of forming a pad without a void.例文帳に追加
セルフアラインコンタクトエッチング工程を採用し、ボイドのないパッドを形成しうる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To miniaturize and thin a connector device, to simplify its assembling process, and to form it so that a contact state between contacts is surely kept.例文帳に追加
小型・薄型化と組立工程の簡易化を図るとともに、コンタクト間の接触状態が確実に保持されるようにする。 - 特許庁
To provide a method for packaging a semiconductor chip and a substrate to be bonded while bringing them surely into tight contact with each other in a soldering process.例文帳に追加
接合する半導体チップと基板をはんだ付け工程内で確実に密着させて実装しうる方法を提供する。 - 特許庁
To restrain a door in the process of closing from coming into contact with an occupant near the door in a door opening and closing control system for a vehicle.例文帳に追加
車両用ドア開閉制御システムにおいて、閉まる最中のドアがドア付近の乗員に接触することを抑制する。 - 特許庁
The retorted whole corn and the leafed vegetable, from which the liquid is strained off by a centrifugal process, are packed in a container in such a state that both are kept in contact with each other.例文帳に追加
遠心処理により液切りされたレトルトホールコーンと葉野菜とが接触した状態で容器詰めされてなる。 - 特許庁
In the process you will layout a GUI front-end that enables you to view and edit contact information of individuals included in an employeedatabase.例文帳に追加
このとき、社員のデータベースに含まれる個人の連絡先情報を表示、編集できる GUI フロントエンドのレイアウトを決定します。 - NetBeans
To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming an embedded contact hole in the semiconductor device by a simple process.例文帳に追加
半導体装置内の埋め込みコンタクトホールを簡略な工程で形成するための半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide technology for opening a window in one photolithography process even in a structure where depths of contact windows differ.例文帳に追加
コンタクト窓の深さが異なる構造であっても、一度のフォトリソグラフィ行程で窓開けを行う事ができる技術を提供する。 - 特許庁
To provide a silver-containing metal ohmic contact electrode which is compatible with an existing industry process, and capable of effectively reducing production cost.例文帳に追加
既存の業界工程と互換でき、有効に、生産コストを低減できる銀含有金属オーミック接触電極を提供する。 - 特許庁
When performing the yarn delivery process, a motor 12 is moved, and a contact area of the yarn Y is changed to a roughened surface area 20r.例文帳に追加
糸渡し工程を行うときは、モーター12を移動させて糸Yの接触領域を粗面領域20rに変更する。 - 特許庁
To provide a high-voltage transistor device with an interlayer dielectric (ILD) etch stop layer for use in a subsequent contact hole process.例文帳に追加
後続するコンタクト・ホール工程で使用される層間絶縁(ILD)エッチング停止層を有する高電圧用トランジスタ・デバイスを提供する。 - 特許庁
This thermal analysis method has a process of acquiring virtual temperature as the temperature of a contact surface section with a contacted object of the longitudinal shape object.例文帳に追加
長手形状物体の、被接触物体との接触面部の温度として仮想温度を取得する工程を有する。 - 特許庁
To provide a structure for wiring process of a coil winding which allows easy mounting on board and preventing contact with other components.例文帳に追加
実装が容易であり、他の部品との接触を防ぐことができるコイル巻線の線処理構造を提供することができる。 - 特許庁
This method for producing the sterilized dried bean curd comprises performing a contact process of bringing dried bean curd into contact with a salt-containing solution in order to prevent bonding of proteins in dried bean curd to each other caused by sterilization, and performing a sterilization process of sterilizing the dried bean curd.例文帳に追加
殺菌による湯葉中のタンパク質同士の結合を妨ために、湯葉を塩類を含む溶液に接触させる接触工程を行い、ついで前記湯葉を殺菌する殺菌工程を行うことを特徴とする殺菌された湯葉の製造方法である。 - 特許庁
To provide a yarn winding device capable of outputting an alarm signal and stopping the winding of the yarn when a rotating speed of a bobbin holder is largely changed when a contact roller is brought into contact with a package to execute a normal winding process after the completion of a contactless winding process..例文帳に追加
浮かし巻き工程を終了して、通常の巻取工程を行うべくコンタクトローラーをパッケージに接触させた際に、ボビンホルダーの回転速度に大きな変動があった場合には、アラーム信号を出力し、糸巻取の停止を行うようにする。 - 特許庁
In the process cartridge having an electrode shaft extending from the housing of the process cartridge into a development sleeve, a development bias voltage contact arrangement comprises a fixed contact, formed from a metal plate, which fits on the electrode shaft, and a spring member which fits in the internal diameter of a sleeve flange.例文帳に追加
プロセスカートリッジの筐体から現像スリーブ内部へ延びる電極軸を持つタイプのカートリッジにおいて、電極軸に嵌合する金属板でなる固定接点と、スリーブフランジ内径に嵌合するバネ部材とで、現像バイアス電圧接点装置を構成する。 - 特許庁
In a plurality of inspection processes for semiconductor devices, positions at which the contactors make contact with the bump electrodes in each inspection process are kept from overlapping with those in another inspection process as far as possible, thereby making it possible to lower and stabilize contact resistance with the bump electrodes in inspection.例文帳に追加
半導体装置の複数ある検査工程において、各検査工程でバンプ電極に接触する位置を他の検査工程とできる限り重ならないようにすることにより、検査時のバンプ電極との接触抵抗を低くし、安定化させることができる。 - 特許庁
A bit line contact hole is also opened in a process where a capacitor forming area is opened in a second inter layer insulating film 19, and a conductor buried in the contact hole is used as a contact plug when forming a storage node electrode and a plate electrode later.例文帳に追加
第2層間絶縁膜19にキャパシタ形成領域を開口する工程においてビット線コンタクトホールも開口し、その後のストレージノード電極およびプレート電極形成時に先のコンタクトホール内に埋め込まれた導体をコンタクトプラグとして用いる。 - 特許庁
While the one end or the contact part of the probe shaft part is brought into contact with the outline of a true circle through a plurality of points with the direction of the contact part fixed, the probe is moved along the circumference of the true circle (a true circle measuring process ST100).例文帳に追加
接触部の向きを固定した状態でプローブ軸部の一端または接触部を真円の輪郭に複数点で当接させながら真円の一周分にわたって前記プローブを移動させる(真円測定工程ST100)。 - 特許庁
To provide a process for producing a contact type magnetic head or the like having magnetic contact pads with which the damage to the surface of a magnetic recording medium and the pads in contact therewith and the generation of debris are substantially prevented, and an exact execution of high-density recording and reproducing is possible.例文帳に追加
磁気記録媒体の表面やこれに接触するパットを損傷せず且つデブリを発生し難くし、高密度の記録・再生が正確に行える磁気接触パットを有する接触型磁気ヘッドの製造方法等を提供する。 - 特許庁
It further includes a power feeding layer forming process of forming a metal power feeding layer on the resist and the electrode; after the power feeding layer formation process a plating formation process of performing plating formation on the power feeding layer in contact with the electrode; and after the plating formation process a power feeding layer etching process of etching the power feeding layer leaving a portion which should become the electrode.例文帳に追加
該レジストと該電極上に、金属である給電層を形成する給電層形成工程と、 該給電層形成工程後、該電極と接する該給電層上にめっき形成を行うめっき形成工程と、 該めっき形成工程後、該電極となるべき部分を残して該給電層をエッチングする給電層エッチング工程とを備える。 - 特許庁
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