「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

COMPOSITION FOR COMPOUND PLASTIC CONTACT ELEMENT WHICH FEATURES CONTROLLED ELECTRICAL CONDUCTION ROUTE, AND PROCESS FOR MANUFACTURING FOR IT例文帳に追加

制御された電気伝導経路を特色とする複合プラスチックコンタクトエレメントのための組成物及びそのための製造プロセス - 特許庁

A method including a process to bring the composition into contact with one or more plants or plant parts is also provided.例文帳に追加

かかる組成物を１以上の植物または植物の部分と接触させる工程を含む方法も提供される。 - 特許庁

In the process for forming the cavity 25, the SiGe layer 11 is etched while etchant is in contact with the dummy pattern DP.例文帳に追加

空洞部２５を形成する工程では、ダミーパターンＤＰにエッチング液を触れさせながらＳｉＧｅ層１１をエッチングする。 - 特許庁

Thereafter, in a main treatment process, a surface-treatment gas is plasma gasified to be made to contact with the surface of the material to be treated.例文帳に追加

その後、本処理工程として、表面改質用ガスをプラズマ化して前記被処理物の表面に接触させる。 - 特許庁

Contact holes are formed in the source electrode section and gate and drain terminal sections in the seventh PR process shown in a step S207.例文帳に追加

ステップＳ２０７に示す第７ＰＲ工程でソース電極部、ゲート及びドレイン端子部にコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

A contact hole 105 is formed in a silicon oxide film 102 by the plasma etching process, with the amorphous carbon film 103 as a mask.例文帳に追加

このアモルファスカーボン膜１０３をマスクとして、プラズマエッチングにより、シリコン酸化膜１０２にコンタクトホール１０５を形成する。 - 特許庁

To enable the composition of a semiconductor package without a high-resistance layer, such as conventional contact layer, and to simplify a process of manufacturing the semiconductor package.例文帳に追加

従来の密着層のような高抵抗の層を設けることなく半導体パッケージを構成可能とすること。 - 特許庁

This treatment method for fluorine-containing water comprises a first process for adding a calcium compound to the fluorine-containing water to perform the solid-liquid separation treatment of the fluorine-containing water, a second process for adding an iron salt to the treated water of the first process and a third process for bringing the treated water of the second process into contact with a fluorine adsorbent.例文帳に追加

フッ素含有水にカルシウム化合物を添加し、固液分離する第１工程と、第１工程処理水に鉄塩を添加し、固液分離する第２工程と、第２工程処理水をフッ素吸着体と接触させる第３工程とからなることを特徴とするフッ素含有水の処理方法。 - 特許庁

Each process unit 16 detached from the main body casing 2 can be stably placed in a vertical state by having a first contact portion 48a brought into contact with an installation surface and can be stably placed in a horizontal state by having second contact portions 48b and 39 brought into contact with the installation surface.例文帳に追加

また、本体ケーシング２から取り外された各プロセスユニット１６は、第１当接部４８ａを載置面に当接させることにより縦置きの状態で安定して載置でき、第２当接部４８ｂおよび３９を載置面に当接させることにより横置きの状態で安定して載置することができる。 - 特許庁

To provide a contact carrier in which the contact carrier and a pair of socket are possible to be latched in one process and the contact carrier contacts with each other at the same time, and in which the contact carrier and the socket are made to be locked when appropriate and complete assembly is realized.例文帳に追加

接触子担持体と、対をなすソケットとが一工程で掛止め可能であり、それと同時に接触部材同士が接触し、適切で完全な組付けが実現された際に初めて接触子担持体とソケットとがロックされるような接触子担持体を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, an insulating film having a contact hole is formed on a semiconductor substrate, a seed layer is formed in the contact hole by an electroless plating process, and a metal wire is formed in the contact hole on the seed layer.例文帳に追加

本発明の半導体素子の製造方法は、半導体基板上にコンタクトホールを有する絶縁膜を形成し、無電解メッキ工程によりコンタクトホールにシード層を形成し、シード層上のコンタクトホールに金属配線を形成する。 - 特許庁

To provide a silicone rubber sheet for hot contact bonding, hardly causing adhesion of the sheet to a pressurizing tool or a material to be contact-bonded to enable the operability of a contact-bonding process to be improved, having good durability of the sheet itself, and hardly polluting the environment.例文帳に追加

シートが加圧ツールや被圧着物に密着せず、圧着工程の作業性を改善することができると共に、シート自体の耐久性が良く周囲を汚染しにくい熱圧着用シリコーンゴムシートを提供すること。 - 特許庁

Thereby, assembly of the spring 30 and the movable contact 29 on the contact holder 21 can be made from the surface side without reversing the contact holder 21, and without requiring a reversing process afterwards.例文帳に追加

これにより、コンタクトホルダ２１に対する、スプリング３０と可動コンタクト２９の組付けが、コンタクトホルダ２１を裏返し状態にすることなく表側から行うことができ、よって、その組付けは後に反転の工程を要することなくできる。 - 特許庁

To provide a non-contact IC card for making straightening force from the inside of a non-contact IC card work, and for restoring an original flat state even when a thermal history is received and any curl is caused in the post-working or use process of the non-contact IC card.例文帳に追加

非接触ＩＣカードの後加工または使用過程において、熱履歴を受けてカールを生じても、カード内部から矯正力がはたらいて元の平面状態に復元することができる非接触ＩＣカードを提供する。 - 特許庁

The base body is washed by using the washing method including: an acid-treatment process for allowing the base body to contact liquid or gas containing acid where pKa is not more than -12, and a supercritical treatment process for allowing the acidized base body to contact supercritical fluid.例文帳に追加

基体を、ｐＫａが−１２以下の酸を含む液体または気体に接触させる酸処理工程と、この酸処理がなされた基体を、超臨界流体に接触させる超臨界処理工程とを有する洗浄方法によって洗浄する。 - 特許庁

A chamfering method of the rare earth magnet includes a process to make rotating brushes 10, 50 and the corner part or the edge part of the rare earth magnet 3 contact with each other and a process to supply a coolant on a contact part between the brushes 10, 50 and the rare earth magnet 3.例文帳に追加

希土類磁石の面取り方法は、回転するブラシ１０，５０と希土類磁石３の角部または縁部とを接触させる工程と、ブラシ１０，５０と希土類磁石３との接触部においてクーラントを供給する工程とを包含する。 - 特許庁

Preferably, this manufacturing method of the iontophoresis apparatus includes a first process of allowing the polarizable electrode to adsorb the second medical substance and a second process being executed after the first process and bringing the polarizable electrode in contact with the medical solution.例文帳に追加

好ましくは、分極性電極に第２の薬物を吸着させる第１工程と、第１工程の後に実施される第２工程であって、分極性電極に前記薬液を接触させる第２工程とを実施する。 - 特許庁

It is preferable that, prior to the solution contact process (S1), the ground base coating process of coating the desired parts with a binder or a primer for supporting deposition of the metal fine particles is disposed or a mask process of masking the desired parts is disposed.例文帳に追加

溶液接触工程(Ｓ１)に先立ち、所望箇所に金属微粒子の担持を支援するバインダーまたはプライマーを塗布する下地塗布工程を備えたり、所望箇所へのマスク工程を備えたりすることも好ましい。 - 特許庁

As a mask for forming the lamination gate of a memory cell array is used to perform an SAS etching process, another mask for the SAS etching process is unwanted and a process margin in a bit line contact region can be ensured.例文帳に追加

メモリセルアレーの積層ゲートを形成するためのマスクを用いてＳＡＳエッチング工程を行うので、別途のＳＡＳエッチング工程用のマスクを必要とせず、ビットラインコンタクト領域における工程マージンを確保することができる。 - 特許庁

The method for manufacturing a vertical resonator surface light-emitting laser includes a process for allowing a lower Bragg reflector to adhere onto a substrate, a process for allowing an active layer to adhere, a process for allowing an upper Bragg reflector to adhere, and a process for forming an electric contact for applying voltage to the active layer.例文帳に追加

垂直共振器面発光レーザを製造する方法は、基板に下側ブラッグ反射鏡を付着させる工程、活性層を付着させる工程、上側ブラッグ反射鏡を付着させる工程、及び活性層に電圧を加える電気的接点を形成する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a contact electrification system which can uniformly charge the surface of a body to be charged without generating small wrinkles on a rotating charge body, provide a process cartridge having the contact electrification system, and provide an image forming device having the contact electrification system or the process cartridge.例文帳に追加

回転帯電体の表面に極微小なしわを発生することなく、被帯電体表面を均一に帯電することができる接触帯電装置、この接触帯電装置を有したプロセスカーリッジ、及び前記接触帯電装置を有した、もしくは前記プロセスカートリッジを有した画像形成装置の提供。 - 特許庁

An emergency contact destination information storage means stores information regarding an emergency contact destination for which processes unneeded for communication processing are stopped and a stopped process information storage means stores information regarding the process to be stopped when communication with the emergency contact destination is carried out.例文帳に追加

緊急連絡先情報格納手段に通信処理を行う上で必要のない処理を停止する対象となる緊急連絡先に関する情報、また、停止対象処理情報格納手段に緊急連絡先との通信処理の実行時に実行を停止する処理に関する情報をそれぞれ格納しておく。 - 特許庁

To constitute a developing apparatus so that a toner after a developing process can be appropriately destaticized and returned into the apparatus body through a contact member even in the case the toner is deteriorated, as for the developing apparatus where the toner held by a toner carrier after the developing process is brought into contact with the contact member and destaticized, and then, the toner is returned into the apparatus body.例文帳に追加

トナー担持体に保持された現像後のトナーを接触部材に接触させて除電させ、この接触部材を通して装置本体内に戻す現像装置において、トナーが劣化した場合にも、現像後のトナーが適切に除電されて接触部材を通して装置本体内にうまく戻されるようにする。 - 特許庁

To provide a contact rubber capable of being easily produced at low cost without complicating a production process and improved in electric conductivity and durability by preventing separation of a contact member.例文帳に追加

製造工程を複雑化させることなく低コストで簡易に製造可能で、接点部の剥離を防止して電気伝導性及び耐久性を向上させた接点ゴムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a sheet-shaped non-contact data carrier and the sheet-shaped non-contact data carrier, which eliminate waste of materials as much as possible in a manufacturing process.例文帳に追加

製造過程での材料の無駄をできるだけ排することが可能なシート状非接触データキャリアの製造方法およびそのシート状非接触データキャリアを提供すること。 - 特許庁

To provide a control device for an electric power steering device, capable of carrying out a recovering process at occurrence of contact failure or other abnormality due to freezing or the like at a relay contact in a feeding circuit.例文帳に追加

給電回路のリレー接点の氷結等による接触不良や異常が発生したときに回復処理を行うことができる電動パワーステアリング装置の制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a landing plug contact forming method of a semiconductor element capable of preventing a step between a poly-silicon film and a gate hard mask nitride film in a CMP process for forming a landing plug contact.例文帳に追加

ランディングプラグコンタクト形成のためのＣＭＰ工程時、ポリシリコン膜とゲートハードマスク窒化膜との間の段差を防止できる半導体素子のランディングプラグコンタクト形成方法を提供すること。 - 特許庁

To solve the problem easy to generate bench cut of a subsequent pixel electrode and contact unstability in a contact forming process in five mask processes and four mask processes, when using an aluminum layer for source/drain wiring.例文帳に追加

ソース・ドレイン配線にアルミニウム層を用いると、５枚マスク・プロセスと４枚マスク・プロセスにおいてコンタクト形成工程では後続の絵素電極の段切れやコンタクト不安定が発生し易い。 - 特許庁

Probe contact for the probe contact area 32 is used for contacting the edge of a test probe in a semiconductor chip inspection process performed prior to the bonding.例文帳に追加

プローブ接触領域３２へのプローブ接触は、上記ボンディングに先立って行われる半導体チップ検査工程において、試験用プローブの先端を接触させるために用いられる。 - 特許庁

A contact member 22 provided on an image forming device 28 is guided by a holding member 25 so as to be movably provided with respect to a contact plate 21 provided on the process cartridge 15, and pressured by a spring 23.例文帳に追加

プロセスカートリッジ１５に設けられた接点板２１に対して画像形成装置２８に設けられた接点部材２２を保持部材２５でガイドして可動に設け、ばね２３で加圧する。 - 特許庁

In the process for mounting the semiconductor device in the wiring substrate, the second portion 22 is brought into contact with the wiring substrate 50, after bringing the electric connection area and the wiring pattern into contact.例文帳に追加

半導体装置を配線基板に搭載する工程では、電気的接続部と配線パターンとを接触させた後に、第２の部分２２を配線基板５０に接触させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device having a metal contact structure wherein a sufficient space is assured for providing a metal contact stud, for improved manufacturing process and production yield.例文帳に追加

メタルコンタクトスタッドを配設することに十分な空間を確保することができて、製造工程が改善され、製造歩留まりが高い、メタルコンタクト構造を有した半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁

In the deforming process, frictional force like an action to grip with fingers is generated between the high-friction area and contact lens, and the contact lens can be thereby removed from the eyeball.例文帳に追加

変形過程において、高摩擦エリアとコンタクトレンズとの間に指でつかむ動作に似た摩擦力を生じるため、これによって、コンタクトレンズを眼球から取り外すことができる。 - 特許庁

In the solder ball deforming process, the solder ball is deformed mechanically, so that the solder ball forms at least two contact surfaces that come in close contact with the joint surfaces of the solder joints and are perpendicular to each other.例文帳に追加

はんだボール変形工程は、接合部の接合面と密着する直交した少なくとも２つの接触面を形成するようにはんだボールを機械的に変形させる。 - 特許庁

The position of the probe shaft part when the one end or the contact part of the probe shaft part is brought into contact with the outline of the true circle is detected in a plane perpendicular to the probe shaft part (a detection process ST 110).例文帳に追加

プローブ軸部の一端または接触部が真円の輪郭に当接した際のプローブ軸部の位置をプローブ軸部に直交する面内で検出する（検出工程ＳＴ１１０）。 - 特許庁

In this pipe expanding process, the contact angle α (that is, it is equal to the cone angle θ) when the tapered surface S of the plug 1 is brought into contact with the pipe end part of the pipe material 2 made of the metal is ≤3.5°.例文帳に追加

この拡管処理において、金属製管材２の管端部にプラグ１のテーパ面Ｓが接触する際の接触角α（すなわち、テーパ角θに等しい）が３．５°以下となる。 - 特許庁

The resistor is formed using a split polysilicon process for opening a hole in a first polysilicon layer in order that an embedded contact mask 19 brings a second polysilicon layer into contact with the substrate.例文帳に追加

この抵抗は、埋込みコンタクトマスク１９が、第２のポリシリコン層を基板に接触させるために、第１のポリシリコン層内にホールを開口するスプリット・ポリシリコン・プロセスを用いて形成される。 - 特許庁

To provide an opening and closing apparatus for an original press- contact plate in which safety can be improved by making a damper function effective throughout the closing process of the original press-contact plate.例文帳に追加

原稿圧着板の閉じ過程全域にわたってダンパー機能を発揮できるようにすることにより安全性の向上を図れる原稿圧着板の開閉装置を提供する。 - 特許庁

The titled process comprises (A) a step wherein a metallocene transition metal compound is brought into contact with an activator, (B) a step wherein a product obtained in the above-mentioned process (A) is brought into contact with an α-olefin and (C) a step wherein a product obtained in the above-mentioned process (B) is added with a metallocene transition metal compound.例文帳に追加

（Ａ）メタロセン系遷移金属化合物と活性化剤とを接触させる工程 （Ｂ）上記（Ａ）で得られた接触生成物にα−オレフィンを接触させる工程 （Ｃ）上記（Ｂ）で得られた接触生成物にメタロセン系遷移金属化合物を添加する工程、を含むオレフィン重合用触媒成分の製造方法。 - 特許庁

To provide a process cartridge, realizing increase in the reliability in electrical connection between the input electrical contact of a process cartridge and an output electrical contact provided in the main assembly of an electrophotographic image forming apparatus, when mounting the process cartridge in the main assembly of the image forming apparatus, and to provide the electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加

プロセスカートリッジを電子写真画像形成装置本体に装着した際に、前記プロセスカートリッジの有する入力電気接点と、前記画像形成装置本体に設けられた出力電気接点との電気接続の信頼性を向上させたプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process cartridge realizing increase in the reliability in terms of electrical connection between the input electrical contact of a process cartridge and an output electrical contact provided in the main assembly of an electrophotographic image forming apparatus in mounting the process cartridge to the main assembly of the image forming apparatus, and to provide the electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加

プロセスカートリッジを電子写真画像形成装置本体に装着した際に、前記プロセスカートリッジの有する入力電気接点と、前記画像形成装置本体に設けられた出力電気接点との電気接続の信頼性を向上させたプロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置を提供する。 - 特許庁

At both times of removal of the process cartridge 12 from a body casing 2, when the process cartridge 12 contacts the contact portion 85, the contact portion 85 can be swayed in the same direction while a pivot 82 extending in a direction parallel to the direction of removal of the process cartridge 12 is taken as a fulcrum for swaying action.例文帳に追加

そして、プロセスカートリッジ１２の本体ケーシング２に対する装着時および離脱時の両方において、プロセスカートリッジ１２が当接部８５と接触したときには、当接部８５をプロセスカートリッジ１２の着脱方向と平行する方向に沿って延びる揺動軸８２を揺動支点として、同一方向に揺動させる。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a highly reliable semiconductor device or an integrated circuit by simplifying a process for forming a wiring layer or a contact hole through minimum dimension control of 0.1 nm or less.例文帳に追加

０．１ｎｍ以下の最小寸法制御で、配線層やコンタクト孔形成工程を簡略化し、信頼性の高い半導体装置あるいは集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method of removing the chemical substances comprises a first process for physically treating a water sample, and a second process for bringing the physically treated water sample into contact with an adsorbent.例文帳に追加

化学物質の除去方法が、該水試料に物理的処理を施す第１の工程、及び、物理的処理された水試料を吸着剤に接触させる第２の工程からなる。 - 特許庁

The method for removing the foreign materials is characterized by comprising a process of making the foreign material particles in contact with the resin particles and a process of removing the foreign material particles and resin particles.例文帳に追加

異物粒子と前記樹脂粒子とを接触させる工程、並びに、前記異物粒子及び前記樹脂粒子を除去する工程を含むことを特徴とする異物除去方法。 - 特許庁