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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > CONTACT PROCESSの意味・解説 > CONTACT PROCESSに関連した英語例文

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CONTACT PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2490



例文

The method of manufacturing the multilayer printed-wiring board includes a roughening process for roughening a surface 4a by bringing a chemical roughening liquid into contact with the surface 4a of the wiring circuit 4, an oxidation process for oxidizing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the roughening process, and a reduction process for reducing the surface 4a of the wiring circuit 4 after the oxidation process.例文帳に追加

実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法は、配線回路4の表面4aに化学粗化液を接触させて表面4aを粗化する粗化工程と、粗化工程の後に配線回路4の表面4aを酸化する酸化工程と、酸化工程の後に配線回路4の表面4aを還元する還元工程とを含む。 - 特許庁

This method of manufacturing acetylene compound includes a first process of heating and mixing a carrier and alkali metal hydroxide, a second process of heating and mixing metal alkali or alkali metal hydride and the mixture obtained in the first process, and a third process of bringing allene compound into contact with the mixture obtained in the second process.例文帳に追加

担体及びアルカリ金属水酸化物を加熱混合する第1工程、金属アルカリ又はアルカリ金属水素化物と第1工程で得られた混合物とを加熱混合する第2工程、並びに、第2工程で得られた混合物にアレン化合物を接触させる第3工程を含むことを特徴とするアセチレン化合物の製造方法。 - 特許庁

In this heat exchanging process for exchanging heat between the heat medium and the process fluid, a gas component generated by contact between the heat medium and the leaked process fluid is detected by a gas detector 5 in a gas phase part 7 in a heat medium tank 4.例文帳に追加

熱媒体とプロセス流体の熱交換を行う熱交換プロセスにおいて、熱媒体タンク4内の気相部7のガス検知器5によって、熱媒体と漏洩したプロセス流体とが接触することにより発生するガス成分を検知する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image forming apparatus capable of detecting the photoreceptor of a process cartridge and a process means which operates in contact with the photoelectric photoreceptor being disposed apart from each other in a state the process cartridge is loaded in an apparatus body.例文帳に追加

装置本体にプロセスカートリッジを装着した状態でプロセスカートリッジの電子写真感光体と電子写真感光体に接触して作用するプロセス手段とが離間していることを検知できる電子写真画像形成装置の提供。 - 特許庁

例文

This laminated body manufacturing method comprises a process of forming the functional organic substance layer above a basic body by the liquid phase process to form laminates 400, 500 and a process for bringing the functional organic substance layer into contact with a supercritical fluid 300.例文帳に追加

積層体の製造方法は、基体の上方に機能性有機物層を、液相プロセスによって成膜して、積層体400,500を形成する工程と、前記機能性有機物層と超臨界流体300とを接触させる工程と、を含む。 - 特許庁


例文

In the method for manufacturing the glass substrate for information recording medium, in a finish grinding process, the one face of the float glass is ground by 5μm or more at a finish grinding process, and the one face of the float glass is not substantially made in contact with a working jig at processes other than the finish grinding process.例文帳に追加

仕上げ研磨工程においてフロートガラスの一面を5μm以上研磨し、仕上げ研磨工程以外の工程において前記一面を加工治具と実質的に非接触にする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 特許庁

This usage of the photocatalyst is composed of a process of heating the photocatalyst, a process of bringing the gas including photocatalytically reactive substances into contact with the photocatalyst and a process of irradiating the photocatalyst with ultraviolet rays.例文帳に追加

および上記の光触媒体を加熱する工程と、光触媒体に光触媒反応性物質を含有する気体を接触させる工程と、光触媒体に紫外線を照射する工程とを有する光触媒体の使用方法。 - 特許庁

The polishing member 23, which polishes the intermediate transfer belt 10 in contact with the surface of this belt 10, is disposed in the process unit 1Y.例文帳に追加

中間転写ベルト10の表面に当接して中間転写ベルト10を研磨する研磨部材23を、プロセスユニット1Yに配設した。 - 特許庁

To provide a semiconductor element capable of reducing a manufacturing process by forming a plurality of contact holes simultaneously, and to provide a manufacturing method of the semiconductor element.例文帳に追加

複数のコンタクトホールを同時形成することで製造工程を削減できる半導体素子とその製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

The protective film filled into the contact hole is etched by a second etching process with the hard mask pattern as a mask.例文帳に追加

前記ハードマスクパターンをマスクとした第2エッチング工程によって、前記コンタクトホールの内部に充填された前記保護膜をエッチングする。 - 特許庁

例文

A complicated bending process of end bending, regular bending, and close- contact bending is eliminated for one leading section which is not accompanied by bending.例文帳に追加

曲げを伴わない一方の引出部に対応して、仮曲げ、先端曲げ、本曲げ、密着曲げからなる複雑な曲げ工程が省略される。 - 特許庁

To provide a process cartridge which is easy to assemble, maintains a stable point of contact and can suppress falling-out of a shaft.例文帳に追加

組立が容易で、安定した接点を維持するとともに、軸が抜け落ちることを抑制することができるプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

When a new process cartridge is used, initial driving is started after reliably sensing a contact state between a developing roller and a photoreceptor drum.例文帳に追加

プロセスカートリッジの新品時に、現像ローラと感光体ドラムとの当接状態を確実に検知した後に、イニシャル駆動を開始する。 - 特許庁

To provide a device and a process for cleaning electrical insulators mounted under an electrified contact rail parallel to a rail track.例文帳に追加

軌道と平行な帯電した電気接点レールの下に装着された電気絶縁碍子を洗浄する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an MOSFET device where a self-alignment contact process is appropriately performed, while maintaining the thickness of a tungsten gate to be constant.例文帳に追加

自己整列コンタクト工程を適正に行え、タングステンゲートの均一厚さの維持が可能なMOSFET素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming contact holes in a semiconductor device that can enhance process yield by preventing damage to the field oxide film.例文帳に追加

フィールド酸化膜の損傷を防止して工程収率を向上させる半導体装置のコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element that comprises a contact plug having a sufficient process margin, and a method of manufacturing a DRAM.例文帳に追加

工程上十分な余裕を有するコンタクトプラグを備える半導体素子の製造方法及びDRAMの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent a contact part from being damaged while facilitating handling of a terminal fitting in a terminal insertion process, for instance.例文帳に追加

例えば端子挿入工程における端子金具の取り扱いを容易にすると共に、接触部が損傷を受けることを未然に防ぐ。 - 特許庁

To reduce the manufacturing cost by making the thickness of a copper separating layer able to be thinner in the manufacturing process for a contact type magnetic head.例文帳に追加

接触型磁気ヘッドの製造工程中の銅分離層の厚さを薄くできるようにしてその製造コストの低減を図る。 - 特許庁

Sterilization of the oil and fat in a sterilization process is performed by a method bringing the oil and fat into contact with a heating medium and collecting the heating medium.例文帳に追加

また、殺菌工程での油脂の殺菌は、油脂に加熱媒体を接触させた後、該加熱媒体を回収する方法により行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of forming a contact plug for fixing the potential of a supporting substrate easily, and to provide its fabricating process.例文帳に追加

支持基板の電位を固定するためのコンタクトプラグを容易に形成できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the water treatment method includes a process bringing the water to be treated contacted with the water treatment agent into contact with zeolite.例文帳に追加

さらに、この水処理方法は、例えば、水処理剤に接触させた被処理水をゼオライトに接触させる工程をさらに含んでいる。 - 特許庁

On the other hand, when the substrate 10 is conveyed into the process chamber 2, a cylinder 8 is driven to bring a temperature sensor 9 into contact with the substrate 10.例文帳に追加

一方、基板10がプロセスチャンバ2内に搬送されると、シリンダ8を駆動して温度センサ9を基板10に接触させる。 - 特許庁

To provide a contact or adhered mask plating or electrochemical fabrication process or apparatus that provides enhanced quality of the plating operations.例文帳に追加

めっき工程の品質を高めた接触マスク又は接着マスクめっき或いは電気化学的加工製法又は装置を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the mask materials 14a is removed through a peeling method or the like, and a hole H3 produced through a peeling process is used as the contact hole.例文帳に追加

その後、マスク材14aを剥離等の方法により除去し、これによって生じた穴H3をコンタクトホールとして利用する。 - 特許庁

To provide a non-contact data carrier and its manufacturing method for simplifying a manufacturing process and improving mechanical strength.例文帳に追加

製造工程をより簡素化できる共に、機械的強度が改善された非接触データキャリアおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The swash plate 20 is brought into contact with a free end 272 of the capacity resetting spring 27 during decreasing process of the tilting angle from the maximum tilting position.例文帳に追加

斜板20は最大傾角位置側から傾角減少してゆく途中で容量復帰ばね27の自由端部272に接触する。 - 特許庁

To provide a refrigerator for improving efficiency of a process for checking contact between a door packing of a storage and a refrigerator body.例文帳に追加

収容庫のドアのパッキンと冷蔵庫本体との間の密着性を検査する工程を効率化できる冷蔵庫を提供すること。 - 特許庁

Then, by introducing a high resistance layer removing process using hydrogen or gas plasma containing hydrogen, contact resistance can be reduced.例文帳に追加

そして、水素もしくは水素を含有するガスプラズマを用いた高抵抗層除去工程を導入することで低コンタクト抵抗が図れる。 - 特許庁

(4) A process for making a metal ion content solution contact to the polyimide resin having this carboxyl group, and generating the metal salt of a carboxyl group.例文帳に追加

(4)このカルボキシル基を有するポリイミド樹脂に金属イオン含有溶液を接触させてカルボキシル基の金属塩を生成する工程。 - 特許庁

Also, the method for decomposing the aliphatic hydrocarbon comprises a process of bringing the new bacterial strain in contact with a specimen containing the aliphatic hydrocarbon.例文帳に追加

また、脂肪族炭化水素の分解方法は、該新菌株を、脂肪族炭化水素を含有する試料と接触させる工程を含む。 - 特許庁

A non-contact memory unit 3 is mounted in a process cartridge 8, and toner residual amount in the cartridge 8 is stored in the unit 3.例文帳に追加

プロセスカートリッジ8に非接触メモリユニット3を搭載し、この非接触メモリユニット3にプロセスカートリッジ8内のトナー残量を記憶させる。 - 特許庁

The fluid transport conduits are formed to contact with the process materials, to treat the materials and assist to make them in high density.例文帳に追加

流体搬送導管はプロセス材料に接触し、材料を処理して、高密度にすることを補助するように形成されている。 - 特許庁

(3) A process for cleaving the imido ring of the polyimide resin of the recess, and generating a carboxyl group by a contact of an alkaline solution.例文帳に追加

(3)アルカリ性水溶液を接触させることによって、凹部のポリイミド樹脂のイミド環を開裂してカルボキシル基を生成する工程。 - 特許庁

To reduce damage to a semiconductor substrate in a contact hole forming process by accurately detecting an etching end point of a silicon nitride film.例文帳に追加

窒化シリコン膜のエッチング終点を正確に検出して、コンタクトホール形成工程における半導体基板領域のダメージを低減する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is advantageous for microfabrication and can reduce the resistance of a contact electrode, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

微細化に対して有利であり、コンタクト電極の抵抗を低くすることが可能な半導体装置及びその製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a key switch capable of preventing occurrence of contact failure between contacts due to intervening of foreign matter and a production process thereof例文帳に追加

異物の介在による接点間の接触不良の発生を抑制することができるキースイッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device includes a hole forming process of forming a contact hole common to a first conductivity type region and a second conductivity type region, an implantation process of implanting an impurity in at least one of the first conductivity type region and a second conductivity type region, and a plug forming process of forming a shared contact plug by charging a conductive material in the contact hole.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、第1導電型領域と第2導電型領域とに対して共通のコンタクトホールを形成するホール形成工程と、前記第1導電型領域および前記第2導電型領域の少なくとも一方に対して不純物を注入する注入工程と、前記コンタクトホールに導電材料を充填してシェアードコンタクトプラグを形成するプラグ形成工程とを含む。 - 特許庁

To process an operation easily and smoothly by reducing an insertion force through reduction of a contact area as a grommet insertion in a square hole.例文帳に追加

角孔でもグロメット挿入時の接触面積を減らして挿入力を低減させ、作業を容易かつスムースに行えるようにする。 - 特許庁

To provide a grease composition for electric contact that has excellent broad temperature area actuation force properties and shows excellent contact stability even after it is exposed to high-temperature conditions, for example, the lead free-flow soldering process.例文帳に追加

広温度域作動力特性に優れ、かつ鉛フリーリフローはんだ付け等の高温度にさらされても、その後の接触安定性が良好な電気接点用グリース組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing NAND flash memory device by which, in a process wherein a bonding region of a selective transistor is exposed to form a contact plug, a gate and the contact plug are prevented from short-circuiting.例文帳に追加

NAND型フラッシュメモリの形成において、選択トランジスタの接合領域を露出させ、コンタクトプラグを形成する過程でゲートとコンタクトプラグが短絡することを防止する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the source contact formation method of a flash memory element which is excellent in metallic wiring and contact resistance for preventing the deterioration of element characteristics although a following heat treatment process is carried out.例文帳に追加

金属配線およびコンタクト抵抗に優れると同時に、後続の熱処理工程が行われても素子特性の低下を防止することを可能とするフラッシュメモリ素子のソースコンタクト形成方法を提供する。 - 特許庁

The process of manufacturing the organic resin coating metal plate includes the steps of heating to melt an organic resin pellet not containing the lubricant, then pushing and bringing the molten resin from a T-die 3 into contact with the metal plate 1, and contact-bonding the resin to the plate 1.例文帳に追加

滑剤を含有しない有機樹脂ペレットを加熱溶融した後、Tダイ3から溶融樹脂をフィルム状に押し出して金属板1に当接し、圧着することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a contact device, a relay using the same, and a micro relay capable of preventing deterioration of switching performance of contact points due to their sticking, without greatly changing a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程を大幅に変更することなく接点間の固着による接点の開閉性能の低下を防止することのできる接点装置及びそれを用いたリレー、並びにマイクロリレーを提供する。 - 特許庁

The contact process preferably comprises mixing and bringing into contact the extract solution with the edible oil at 15-40°C and leaving the obtained mixture to stand to separate the oil layer from the aqueous layer.例文帳に追加

また、前記接触工程は、15〜40℃の温度条件下で前記抽出液と食用油脂とを混合して接触させた後、静置して、油層と水層を分離する工程を含むことが好ましい。 - 特許庁

To provide a smart card operating system and process, for significantly enhancing flexibility in use of a smart card by simultaneously supporting contact communication and non-contact communication.例文帳に追加

接触式通信と非接触式通信とを同時にサポートすることができ、スマートカードの使用における柔軟性を大幅に高めることができるスマートカードの操作システム及び方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a plasma etching method for forming a fine contact hole having reduced aperture by limiting spreading of top diameter in etching process, and a method for forming a contact hole employing the plasma etching method.例文帳に追加

エッチングの過程におけるトップ径の拡がりを抑制し、口径が縮小された微細コンタクトホールを形成することができるプラズマエッチング方法、およびこれを用いたコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic thin-film transistor and its manufacturing process, capable of improving the device characteristics by reducing the contact resistance occurring at a contact surface between the source/drain electrode and an organic semiconductor.例文帳に追加

ソース/ドレーン電極と有機半導体との間の接触面で発生する接触抵抗を減少させることで、素子特性を向上できる有機薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the sensor solid substrate includes a process for bringing the solid substrate into contact with a mixed liquid of two or more organic solvents not containing a polymer after the solid substrate is brought into contact with the hydrophobic polymer solution.例文帳に追加

固体基板を疎水性ポリマー溶液に接触させた後に前記ポリマーを含まない2種以上の有機溶剤の混合液に接触させる工程を含む、センサー用固体基板の製造方法。 - 特許庁

例文

In the thermocouple formation process, a sacrificial layer is formed on a substrate 12, and a plurality of thermocouples 13 respectively having 1st end side contact points P1 and 2nd end side contact points P2 are formed on the sacrificial layer.例文帳に追加

熱電対支持工程では、基板12上に犠牲層を形成し、この犠牲層上に第1端側接点P1と第2端側接点P2とを有する複数の熱電対13を形成する。 - 特許庁




  
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