「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(13ページ目) - Weblio英語例文検索

A treated liquid flowing out from the ozone contact process is introduced into the following accelerated oxidation process, and the injection amount of ozone and the injection amount of hydrogen peroxide in the accelerated oxidation process are controlled according to the concentration of dissolved ozone in the ozone contact process.例文帳に追加

オゾンガスと被処理水を接触・混合せしめるオゾン接触工程を配し、そのオゾン接触工程の次にオゾンガスおよび過酸化水素を混合・注入する促進酸化処理工程を配する工程とし、オゾン接触工程から流出する処理液を次の促進酸化処理工程に導入すると共に、該オゾン接触工程における溶存オゾン濃度値に応じて、該促進酸化処理工程でのオゾン注入量、および過酸化水素注入量を制御する。 - 特許庁

In the precision minute space forming method including a process for placing a film on a substrate having a precision minute recess, in the film placing process, the film is placed while the pressure per unit contact area of a contact part where the substrate and the film are brought into contact is controlled to be constant to form the precision minute space having the regular shape and the regular volume.例文帳に追加

精密微細凹部を有する基材上に、フィルムを布設する工程を有する精密微細空間の形成方法において、フィルムを布設する工程が、基材と前記フィルムとが接触する接触部の単位接触面積あたりの圧力を一定に制御しながら布設する工程であることによって、一定の形状および体積を有する精密微細空間を形成する。 - 特許庁

To measure a contacting time of a contact for a rush current and a contacting time of a contact for a stationary current in operation confirmation in a manufacturing process by making the contact for a rush current and the contact for a stationary current electrically independent of each other and to reduce defective products by adjusting the time difference therebetween, in a rush-current-resistant electromagnetic relay.例文帳に追加

耐突入電流電磁リレーにおいて、突入電流用の接点と定常電流用の接点とを電気的に独立させることにより、製造工程での動作確認時に突入電流用の接点接触時刻と定常電流用の接点接触時刻を計測可能として、その時間差を調整し不良品を低減可能とする。 - 特許庁

This method for preparing the alkali cellulose is provided by comprising a contact-filtration process of performing a vacuum filtration while bringing pulp in contact with an alkali metal hydroxide solution on a moving filtering plane and collecting a contact product remaining on the filtering plane, and a draining step of draining the obtained contact product, and the method for preparing cellulose ether by using the alkali cellulose is provided.例文帳に追加

移動する濾過面上でパルプとアルカリ金属水酸化物溶液を接触させながら真空濾過を行い、濾過面上に残った接触物を取り出す接触濾過工程と、得られた接触物を脱液する脱液工程とを含むアルカリセルロースの製造方法、及びこのアルカリセルロースを用いるセルロースエーテルの製造方法を提供する。 - 特許庁

Thereby attachment of water, etc., can be prevented even if the connection of the contact 76 of a heater 52 with a lead wire 78 is made by soldering whereto no waterproofing process, etc., is applied particularly.例文帳に追加

これにより、ヒータ５２の接点７６とリード線７８との接続を、特に防水等を施さない半田で行っても、水等の付着を防止できる。 - 特許庁

To avoid the damage within an element region in formation of a contact, and also to process a cell region and a control system circuit region around a cell into gates at the same time.例文帳に追加

コンタクトの形成における素子領域内のダメージを回避するとともに、セル領域とセル周辺制御系回路領域とを同時にゲート加工できる。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device has a process for mounting an electrode terminal in a case of the semiconductor device so as to contact with the rear surface of a wire-bonding surface of the electrode terminal with its case.例文帳に追加

電極端子のワイヤボンディング面の裏面が半導体装置のケースと接するように、該電極端子を該ケースに装着する工程を備える。 - 特許庁

To detect abnormality in shading data under an appropriate condition by detecting stain sticking to a contact glass or reference member during a shading correction process.例文帳に追加

シェーディング補正処理の際に、コンタクトガラスや基準部材に付着した汚れを検出し、適切な条件においてシェーディングデータの異常を検知すること。 - 特許庁

As temperature rises due to energization to the relay to eliminate freezing, a process of putting on/off the contacts to recover contact failure is carried out.例文帳に追加

リレーへの通電により温度が上昇して氷結が解除されると、接点をＯＮ／ＯＦＦさせて接触不良を回復させる処理を実行する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of master carrier which removes depositions to a master carrier without re-attachment by means of a dry process and non-contact and allows magnetic transfer of high transfer quality.例文帳に追加

マスター担体への付着物をドライプロセスおよび非接触で再付着することなく除去して転写品質の高い磁気転写が行えるようにする。 - 特許庁

To provide a process of manufacturing semiconductor device that can form minute contact holes with a narrow pitch, relax the requirement (high NA) for exposure equipment and minimize a chip area.例文帳に追加

微小なコンタクトホールを狭いピッチで形成することができ、且つ露光装置に対する要求（高ＮＡ）の緩和及びチップ面積の縮小をはかる。 - 特許庁

The server 1 instructs the non-contact chip 7 to update its embedded memory using the results, which reflect the process executed by the server 1.例文帳に追加

サーバ１により実行された処理の結果をメモリに記憶されている情報に反映させることがサーバ１から非接触ICチップ７に対して指示される。 - 特許庁

The method is employed for removing the phenolic compound from the aqueous system including a process in which the aqueous system having the phenolic compound, tyrosinase and a bead-like chitosane are simultaneously brought into contact.例文帳に追加

フェノール化合物を含む水系と、チロシナーゼと、ビーズ状キトサンを同時に接触させる工程を含む、水系からフェノール化合物を除去する方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor device with a contact plug which is formed through a self-alignment process and can suppress decrease of a width, and a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

自己整合的に形成され、幅の減少を抑制可能なコンタクトプラグを有する半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Density and performance of a semiconductor device are enhanced by conquering problems resulting from dimensional reduction of the contact without altering the process and the number of mask layers.例文帳に追加

本発明は工程とマスク層数を変更せず、コンタクトの寸法縮小後にもたらされる問題を克服し、半導体装置の密度と性能を増進する。 - 特許庁

To provide a sealing agent applying device by which the contamination caused by the contact of UV curing resin with a liquid crystal can be prevented, in a liquid crystal panel manufacturing process.例文帳に追加

液晶パネル製造過程において、ＵＶ硬化性樹脂と液晶との接触によるコンタミネーションを防止することができるシール剤塗布装置の提供。 - 特許庁

To provide a cleaning device that includes blades that come into contact with an image carrier and has resistance to chatter vibration, burr generation, and wear loss, a process cartridge, and an image forming apparatus.例文帳に追加

像担持体に当接するブレードにビビリ振動や捲れや磨耗欠損が生じにくい、クリーニング装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a moving type connector movable in all directions, always keeping a contact in the central part of a moving range, and eliminating a soldering process.例文帳に追加

全方向への移動ができ、かつ、常にコンタクトが移動範囲の中心部分にあるようにし、さらに、半田付け工程をなくしたものを提供すること。 - 特許庁

The exhaust gas containing HF and SOx is brought into contact with solid Ca(OH)_2 after removing SOx in advance in a SOx removing process.例文帳に追加

ＨＦ及びＳＯｘを含む排ガスを、ＳＯｘ除去工程にて予めＳＯｘを除去してから、固体のＣａ(ＯＨ)_2と接触させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, an SRAM, and the manufacturing method of the semiconductor device wherein the process of disposing its contact in its narrow active region can be easily performed.例文帳に追加

狭い活性領域にコンタクト部を配設する工程を、容易に行うことができる半導体装置および半導体装置等を提供する。 - 特許庁

Next, an etching resistant film 5 is brought into tight contact therewith so as to cover the superposition markers X4 and is subjected to wet process etching, by which hemispherical recessed parts 6 are formed.例文帳に追加

次に、重ね合せマーカＸ４を覆うように耐エッチングフィルム５を密着させ、湿式エッチングを行って半球状の凹部６を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device capable of reducing an area of a contact part with less number of steps in an interlayer connection process, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

少ない層間接続プロセス工程数で、コンタクト部分の面積を小さくすることのできる半導体装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

A surface contact sensor 29 and the printed circuit board 33 are supported by opposite surfaces of a common base 31, thereby facilitating the assembly process.例文帳に追加

表面接触センサ２９とプリント回路基板３３を、共通基台３１の反対側の面で支持することにより、組み立て工程を容易化する。 - 特許庁

In addition, the desulfurization method includes a process which makes a fuel containing a sulfur content contact with the adsorbent and to remove the sulfur content from the fuel.例文帳に追加

また、本発明の脱硫方法は、吸着剤と、硫黄分を含有する燃料とを接触させて、燃料から硫黄分を除去する工程を備える。 - 特許庁

The folding mechanism 11 is configured to perform the folding process by bringing a folding member 112 into contact with the target crease position of the sheet and pushing the sheet in between a pair of folding rollers 113.例文帳に追加

折り機構１１はシートの目標折り目位置に折り部材１１２を当てがいつつ一対の折りローラ１１３間へ押し込むことで折り処理する。 - 特許庁

To provide a sealed contact device, enabling simplification of its manufacturing process and reduction of its manufacturing cost, and having full bonding strength and air tightness.例文帳に追加

製造工程を簡易化できるとともに製造コストを低減でき、しかも、十分な接合強度や気密性を有する封止接点装置を提供すること。 - 特許庁

The foreign substance removing apparatus is provided with a foreign substance scraping belt having a scraping surface being in contact with the surface of the drum part of the process roll along the longitudinal direction of the roll drum.例文帳に追加

プロセスロールの胴部表面に、ロール胴長方向に沿ってその掻き取り面を接触させた異物掻き取りベルトを具備してなる異物除去装置。 - 特許庁

Since the separation process is carried out in nitrogen atmosphere, static electricity due to contact/separation of the film-forming auxiliary member and the substrate is eliminated and separation is made easily.例文帳に追加

分離工程を窒素雰囲気で行うことにより、成膜補助部材と基板との接触・剥離による静電気を除電し、容易に分離する。 - 特許庁

To provide a jacketed active magnetic bearing applied to a rotary machine having a rotor in contact with a process gas and placed in a leaktight enclosure.例文帳に追加

プロセスガスと接触し、かつ耐漏洩性の密閉体内に位置されたロータ（１２０）を有する回転マシンに与えられるジャケット付き駆動磁気ベアリング - 特許庁

To provide a method of precisely measuring the Si concentration of a steel product in no contact manner by improving a conventional eddy current process with insufficient measuring precision.例文帳に追加

従来測定精度が不十分であった渦電流法を改良することにより、非接触で鋼材のSi濃度を正確に測定する方法を提供する。 - 特許庁

A process gas containing HF as a reactive component is blown off from a blow-off port 21 into contact with a treated object 90 to etch a silicon film 93.例文帳に追加

反応成分としてＨＦを含む処理ガスを吹出し口２１から吹き出して被処理物９０に接触させ、シリコン膜９３をエッチングする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device hardly causing a short circuit between a gate electrode and a contact plug while securing a process margin of photolithography.例文帳に追加

フォトリソグラフィーのプロセスマージンを確保すると共に、ゲート電極とコンタクトプラグとの短絡が生じにくい半導体装置の製造方法を実現できるようにする。 - 特許庁

Thereafter, the mask materials 71a and 71b are removed through a peeling method or the like, and holes 32a and 32b produced through a peeling process are used as the contact holes.例文帳に追加

その後、マスク材７１ａ，７１ｂを剥離等の方法により除去し、これによって生じた穴３２ａ，３２ｂをコンタクトホールとして利用する。 - 特許庁

The first inner component and the second inner component are abutted to make first welding parts and the second welding parts into contact with each other in an abutment process.例文帳に追加

突き合わせ工程では、第１溶接部と第２溶接部とが接触するように第１内部部品と第２内部部品とが突き合わせられる。 - 特許庁

To significantly enlarge an effective contact area and to simultaneously secure both of inexpensive joining technique by simplifying a process and reliability in actual use.例文帳に追加

有効な接触面積を大幅に拡大でき、かつ工程の簡素化による低コスト接合技術と実使用時の信頼性を共に確保できるようにする。 - 特許庁

A bending inner wall where only a comprossive stress is applied in a bending process is composed of plural plane walls forming contact angles more than 10° each other.例文帳に追加

曲げ加工時に圧縮応力のみが加えられる曲げ内側壁を、互いに１０°以上の接続角度をなす複数の平面壁から構成する。 - 特許庁

The stabilization of the quality of the coaxial cable after caulking is schemed by the process that the terminal transfer means (200) holds the electric contact part and transfers it to the terminal caulking means (150).例文帳に追加

手段（２００）が端子の電気接触部を保持して手段（１５０）へ搬送することで端子加締め後の同軸ケーブルの品質の安定化を図る。 - 特許庁

To analyze and evaluate the quality of water during an ultrapure water manufacturing process in an ultrapure water device located outside a clean room by bringing the water into contact with a semiconductor substrate.例文帳に追加

クリーンルーム外にある超純水装置内の純水製造工程中の水質を、半導体基板と接触させて分析、評価できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which contacts are surely separated with high insulation resistance even when using a self-align contact process.例文帳に追加

セルフアラインコンタクトプロセスを用いても、高い絶縁耐性でコンタクト間の分離を確実に行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve productivity by facilitating attachment to a housing as well as to shorten a manufacturing process for a connector side signal contact.例文帳に追加

コネクタ側信号用コンタクトの製造工程を短縮するとともにハウジングへの取り付けを容易にして生産性の向上を図れるコネクタを提供する。 - 特許庁

Wiring material 9a is buried in the contact hole 11 and groove 12, unnecessary wiring material 9a is removed by a CMP(chemical- mechanical polishing) process to obtain a desired wiring 8.例文帳に追加

配線材料９ａをコンタクトホール１１と溝１２に埋め込み、不要な配線材料９ａをＣＭＰにて削り取り、所望の配線９を得る。 - 特許庁

Since the contact face 66 is structured of a folded edge, its surface is not affected by a punching process, being of a smooth face without concaves nor convexes.例文帳に追加

この接面６６は折り返し縁によって構成されるから、その表面は打ち抜き加工の影響を受けず凹凸のない滑らかな面となる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a non-contact type IC module of low cost by rationalizing a temporary pressure-bonding process of an adhesive film.例文帳に追加

本発明の目的は、接着剤フィルムの仮圧着工程の合理化を図り、低コストな非接触式ＩＣモジュールの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The first layer and the second layer are then bonded in a bonding process, thereby forming a bonding layer, where the metal studs contact the second layer.例文帳に追加

次いで、接着プロセスにおいて、第１の層および第２の層を接着し、これによって、金属スタッドが第２の層に接触する接着層を形成する。 - 特許庁

To provide a cleaning device for an image forming device which keeps the contact state of a cleaning member within a preferable range regardless of the change of the process speed.例文帳に追加

クリーニング部材の接触状態をプロセス速度が変わっても好ましい範囲に保つことができる画像形成装置のクリーニング装置を提供する。 - 特許庁