「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

In a cartridge mounting process P2, a plurality of segment pieces manufactured in a segment piece forming process P1 are attached to a resin-made cartridge, having a protective surface for covering the sliding contact surface so as to have a predetermined space in the peripheral direction.例文帳に追加

セグメント片形成工程Ｐ１において製造された複数のセグメント片を、カートリッジ装着工程Ｐ２により、摺接面を覆う保護面を備えた樹脂製のカートリッジに周方向に所定の間隔を空けて並べて装着する。 - 特許庁

A device to melt-process radioactive waste by a high temperature melting furnace with a method maintaining a state a cooled melting furnace vessel 22 and melt 28 heated in it do not directly contact to melt and process.例文帳に追加

冷却される溶融炉容器２２と、その中で加熱される溶融物２８とが直接接触しない状態を維持しつつ溶融処理する方式の高温溶融炉によって放射性廃棄物を溶融処理する装置である。 - 特許庁

To provide a process unit that is capable of reducing the number of parts and also bringing a developing roller and a photoreceptor into contact with each other or separating them in spite of its simple structure, and an image forming apparatus with the process unit.例文帳に追加

部品点数の低減を図ることができ、簡易な構成でありながら、現像ローラと感光体とを接触・離間させることができるプロセスユニット、および、そのプロセスユニットを備える画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of appropriately bringing a pair of carrying rollers into press contact with each other at all times, even in the case one of the pair is arranged on the process cartridge side and the other is arranged on the image forming device main body side.例文帳に追加

本発明は、一対の搬送ローラの一方をプロセスカートリッジ側に、他方を画像形成装置本体側に設けた場合であっても、一対の搬送ローラを常に適切に圧接させることのできるプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

The method for treating the mantle of scallop comprises a surface peeling process (1) for peeling the surface of the mantle of raw scallop and a deodorization process (4) for bringing the mantle from which the surface is peeled into contact with an alkali metal salt and cleaning and deodorizing the mantle.例文帳に追加

ホタテの生の外套膜の表面を剥離する表面剥離工程（１）と、表面が剥離された外套膜をアルカリ金属塩に接触させるとともに洗浄して脱臭する脱臭処理工程（４）とを備えた。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with the plasm of mixed gas made of water and inert gas, such as He, Ne, Ar, and Xe.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、ならびに、その表面と、水およびＨｅ、Ｎｅ、ＡｒまたはＸｅなどの不活性ガスからなる混合ガスのプラズマとを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

The thickness measurement device provided with a plurality of non-contact distance measurement device is composed of a process for recording the coordinate of a substrate, and a process for measuring the thickness of the substrate at the coordinate on the substrate.例文帳に追加

基板までの距離を非接触測定する複数の非接触距離測定器を備えた厚み測定器において、基板上の座標を記録する工程と、基板上の座標における基板の厚みを測定する工程とを備えている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method including a channel ion implantation process for regulating a threshold voltage of a transistor in a manufacturing process of a semiconductor memory element comprising a self-aligned contact plug self-aligned by a gate electrode.例文帳に追加

ゲート電極によって自己整列されるセルフアラインコンタクトプラグを備えた半導体メモリ素子の製造工程において、トランジスタのスレショルド電圧を調節するためのチャンネルイオン注入工程を含む製造方法を提供する。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with processed gas including oxidizing gas, such as oxygen, ozone, carbon monoxide, carbon dioxide, and nitrous oxide.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、および、その表面と、酸素、オゾン、一酸化炭素、二酸化炭素および亜酸化窒素などの酸化性ガスを含む処理ガス、とを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

And, it has a process which makes the graphene sheet exfoliate into an etching solution by wet etching the surface of substrate in contact with the graphene sheet, and a process which sticks the graphene sheet which was exfoliated into the etching solution on an object.例文帳に追加

そして、グラフェンシートと接触している基板の表面を、ウエットエッチングして、グラフェンシートをエッチング溶液中に剥離させる工程と、エッチング溶液中に剥離したグラフェンシートを、対象物上に貼り付ける工程とを有する。 - 特許庁

A manufacturing method for the inert ultrapure water has a process for bringing a mixture of an ozone gas and ultrapure water irradiated with ultraviolet rays into contact with a platinum molded object and a process for subjecting the mixture to ozone removing treatment.例文帳に追加

オゾンガスと紫外線照射された超純水との混合物を白金成形体に接触させる工程及び当該混合物を脱オゾン処理する工程を有することを特徴とする不活性超純水の製造方法に係る。 - 特許庁

To provide a defoaming method of a methanol aqueous solution in a distillation process using a gas/liquid contact system, and in details, a defoaming method in the distillation process of a methanol aqueous solution containing salts, particularly metallic salts.例文帳に追加

本発明は、気液接触方式を用いる蒸留工程におけるメタノール水溶液の消泡方法、詳しくは塩類、特に金属塩を含有するメタノール水溶液の蒸留工程における消泡方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises bringing a hydrogen-containing process fluid into contact with a catalyst containing gold on a catalyst support which contains MgAl2O4 spinel type nonreducing aluminium magnesium oxide and thereby preferentially oxidizing carbon monoxide and/or CH3OH in the process fluid.例文帳に追加

MgAl_2O_4 スピネル型の非還元性酸化アルミニウムマグネシウムを含んでなる担体上に金を含んでなる触媒に水素含有プロセス流を接触させることによって、該プロセス流中の一酸化炭素及び／またはCH_3OH を優先的に酸化する方法。 - 特許庁

This method comprises a first process 1 to adsorb dioxins in dioxin-containing water 5 by bringing it into contact with fibrous activated carbon, a second process 3 to release the dioxins from the fibrous activated carbon on which the dioxins have been adsorbed, and a third process 4 to make the released dioxins harmless by bringing them into contact with a dioxin decomposition catalyst.例文帳に追加

ダイオキシン類含有水５を繊維状活性炭に接触させて前記水中のダイオキシン類を吸着させる第一工程１、ダイオキシン類が吸着した繊維状活性炭からダイオキシン類を脱離させる第二工程３および脱離したダイオキシン類をダイオキシン類分解触媒と接触させて無害化する第三工程４からなることを特徴とするダイオキシン類含有水の処理方法。 - 特許庁

The method for removing nitrogen dioxide and carbon dioxide includes a denitration process 10 of bringing the gas 1 containing nitrogen oxides and carbon dioxide into contact with a basic absorbing solution 2 containing a reducible substance to remove nitrogen dioxide from the gas 1 and a carbonic acid removing process 20 of bringing the gas 3 subjected to denitration in the denitration process into contact with the carbonic acid removing absorbing solution 4 to remove carbon dioxide from the gas 3.例文帳に追加

窒素酸化物及び二酸化炭素を含有するガス１を還元性物質を含む塩基性吸収液２に接触させて、前記ガス１中から二酸化窒素を除去する脱硝工程１０と、前記脱硝工程で脱硝処理されたガス３を脱炭酸吸収液４と接触させて、前記ガス３中から二酸化炭素を除去する脱炭酸工程２０とを含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

This electric connecting method of IC socket for installing the IC package to an IC socket having a plurality of nipping type contacts to form an electric connection comprises a process for releasing the pressing of the moving-side elastic contact piece of the contact to bring it into contact with the external terminal of the IC package by elastic restoration and pressing the fixed-side elastic piece to enhance the contact force.例文帳に追加

複数個の挟み込み形のコンタクトを有するＩＣソケットにＩＣパッケージを装着して電気的接続を形成するＩＣソケットの電気的接続方法において、前記コンタクトの移動側弾性接片の押圧を解除して弾性復帰によって前記ＩＣパッケージの外部端子に接触させると共に、固定側弾性接片を押圧して接触力を増大する工程を有する。 - 特許庁

The electrophotographic apparatus and the process cartridge include an electrophotographic photoreceptor, having a photosensitive layer on a substrate and a contact charging device for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor by a contact charging member, disposed in contact with the electrophotographic photoreceptor, where the dynamic friction coefficient μ of between the electrophotographic photoreceptor and the contact charging member is 0.04-0.25.例文帳に追加

支持体上に感光層を有する電子写真感光体と、該電子写真感光体に接触配置された接触帯電部材によって該電子写真感光体の表面を帯電するための接触帯電手段とを有し、該電子写真感光体と該接触帯電部材との動摩擦係数μが０．０４以上０．２５以下である電子写真装置およびプロセスカートリッジ。 - 特許庁

As a result, even when the lead wire 22 of the wedge base bulb 2 is bent during a manufacturing process, if the base part 21 of the wedge base bulb 2 is inserted in the bulb holding part 30 as it is, the bent lead wire 22 is corrected by action of the projecting guide parts 34 and is surely brought into contact with the contact part 41 of a contact 4.例文帳に追加

この結果、製造工程でウエッジベースバルブ２のリード線２２が曲がっている場合において、そのまま、ウエッジベースバルブ２のベース部２１をバルブ保持部３０中に挿入すると、ガイド凸部３４の作用により、曲がっているリード線２２が矯正されてコンタクト４の接触部４１に確実に接触する。 - 特許庁

When the printing process begins where the apparatus drops the squeegee 7 and the squeegee 8 from the predetermined stand-by position above the screen plate 4 down to the position to contact the screen plate 4, the squeegee 7 and the squeegee 8 are to move diagonally downward and contact the screen plate 4 in the direction opposite to the printing direction after the squeegees contact the screen plate 4.例文帳に追加

スキージ７、８をスクリーン版４の上方にある所定の待機位置からスクリーン版４に当接して印刷を開始する位置まで下降させる動作を行う印刷開始の際に、スキージ７、８をスクリーン版４当接後の印刷方向とは反対の方向に斜め下方に移動させてスクリーン版４に当接させる。 - 特許庁

To provide a contact with a structure in which barrier parts are provided in four direction around an elastic contact part to prevent intrusion of foreign materials in a movable area of the elastic contact part and flatness of a solder-jointed surface is not deteriorated when the barrier parts are formed in a bending process.例文帳に追加

弾性接触部の周囲において四方に障壁部を設けることで、弾性接触部の可動域に異物が入り込んでしまうのを抑制でき、その障壁部を折り曲げ加工で形成した際、はんだ接合面の平面度を低下させてしまうこともない構造とされたコンタクトを提供すること。 - 特許庁

Therefore, in a case where contact holes are needed to be reduced in size, or the spacing interval of adjacent contact holes is needed to be decreased in any step, the manufacturing method can overcome limitations on the lithography process and achieve stable decrease in the size of contact holes, while reducing generation of bridges for improving the reliability of the element.例文帳に追加

それにより、コンタクトホールのサイズを減少させる必要がある場合、あるいは隣り合うコンタクトホールどうしの間隔スペースを減少させる必要がある工程にあって、リソグラフィ工程の限界を克服しつつ、コンタクトホールのサイズを安定して減少させ、ブリッジの発生を抑えて素子の信頼性を高める。 - 特許庁

The first arrangement process matches the location of the body of the reactor with the location of the heating section so that the heating section and the body of the reactor are directed to each other in a non-contact state.例文帳に追加

第一配置工程は、加熱部と反応装置本体とが非接合な状態で対向するように、反応装置本体と加熱部との位置合わせを行う。 - 特許庁

In this process, a contact part 32b as a leakage suppressing part for suppressing the leakage of the skin molding material 36 from the cavity 33 is set up.例文帳に追加

この工程において、表皮成形用キャビティ３３からの表皮成形用材料３６の漏れを抑制する漏れ抑制部位として接触部分３２ｂを設定する。 - 特許庁

In the sticking process, at least one surface of the conductive contact pad is exposed and remains in an accessible state for electrical connection.例文帳に追加

さらに、接着する過程は、導電性接触パッドの少なくとも一つの表面が露出されていて電気的な接続のためにアクセス可能な状態に留まるようにする。 - 特許庁

To provide a process of cleaning a hard surface without using mechanical action, by bringing grease into contact with a liquid composition exhibiting grease removing performance advantage.例文帳に追加

グリース除去性能利益を示す液体組成物をグリースに接触させることによって、機械作用を用いずに硬質面をクリーニングする方法を提供すること。 - 特許庁

The support body 22 is arranged in the slide 14 in such a way as not to come into contact with the standard 24 when the support body is in the process of instantaneous detection over all its movement stroke.例文帳に追加

支持本体２２はスライド１４に対して、該支持本体が全移動ストロークにわたって同時的検出過程の際に基準２４と接触し得ないように配置される。 - 特許庁

To provide a device for separate measurement, in non-contact and non-destructive manner, of the surface re-connection speed of a semiconductor wafer and bulk life time, with no process on the wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハの表面再結合速度とバルクライフタイムをウェーハに何らの処理を施すことなく非接触、非破壊で分離測定できる装置を提供する。 - 特許庁

A plurality of bands 12 in surface contact with outer peripheral surfaces of a cylindrical structure 10 are arranged at predetermined intervals (band attaching process) in height direction of the cylindrical structure 10.例文帳に追加

筒状構造物１０の外周面に面接触するバンド１２を筒状構造物１０の高さ方向に所定間隔を設けて複数配置する（バンド取り付け工程）。 - 特許庁

To provide a switch device in which assembly of a contact holder, an insulator and a case including mounting of a moderation spring and a moderation piece can be performed without requiring a reversing process afterwards.例文帳に追加

コンタクトホルダとインシュレータ及びケースの、節度スプリング及び節度ピースの組込みを含む組立てが、後に反転の工程を要することなくできるようにする。 - 特許庁

To provide a technique for forming a contact hole of a proper cross section to self-alignment by raising the substrate temperature to a high temperature, without requiring a process of mask removal.例文帳に追加

マスク除去のための工程を必要とせず、基板温度を高温に上昇させてセルフアラインに良好な断面形状のコンタクトホールを形成する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an authentication method and information reader which allows a new authentication process that uses non-contact communication between an information reader and a communication terminal.例文帳に追加

情報読取装置と通信端末装置との非接触通信を用いた新規な認証処理が可能になる認証方法及び情報読取装置を提供する。 - 特許庁

In the gas supplying process, the gas 204 is supplied to the liquid reservoir 111 and the crude sulfuric acid 203 and the gas 204 are brought into the counter-current contact with each other in the liquid reservoir 111.例文帳に追加

ガス供給工程では、ガス２０４を液溜部１１１に供給して、粗硫酸２０３とガス２０４とを液溜部１１１で向流接触させる。 - 特許庁

To provide an electric actuator provided with an electrical contact member for the electric actuator that reduces damage by cracks, fissures, or the like that may occur during a pressing process or early deterioration by abrasion.例文帳に追加

プレス時のひび割れ、亀裂等による損傷や磨耗による早期劣化を低減する電動アクチュエータ用電気接点部材を備えた電動アクチュエータを提供する。 - 特許庁

To contrive less wiring of electric conductor to an external contact and less capacitance of the electric conductor of a process cartridge equipped with an electrode for detecting the quantity of developer.例文帳に追加

現像剤量を検知する電極を備えたプロセスカートリッジにおいて、外部接点までの導電体の配回しと、導電体の静電容量の低下を計る。 - 特許庁

To provide a flat display equipped with an array substrate having a reflection electrode which has a high reflection factor and excellent contact with an insulating film and whose manufacturing process is easy.例文帳に追加

反射率が高く、絶縁膜との密着性が良好で、製造工程が簡単な反射電極を有するアレイ基板を備える平面表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a contact member ensuring good conductive connection between an electronic component and a mother board even when the electronic component is shrunk, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

電子部品の微細化によっても電子部品とマザー基板間の導通接続を良好に図ることが可能な接点部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming the metallic wiring of a semiconductor memory device capable of effectively preventing irregular reflection caused by a metal contact at the time of an exposure process for a trench mask formation.例文帳に追加

トレンチマスク形成のための露光工程時に金属コンタクトによる乱反射を有効に防止できる半導体メモリ素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high quality semiconductor ingot wherein the mixing amount of foreign matter is low by suppressing the contact between a semiconductor melt and the foreign matter in an apparatus in a manufacturing process.例文帳に追加

製造過程における半導体融液と装置内異物との接触を抑制して、異物混入量が低く高品質の半導体インゴットを提供する。 - 特許庁

The bottom cover 12 is brought into a pressurized contact with the exterior cover 30 by being pressed to the abutting part 36 in a process of attaching the end lid 32 to the exterior cover 30.例文帳に追加

前記端蓋３２を前記外カバー３０に装着する過程で前記当接部３６に押されて前記下カバー１２が前記外カバー３０に圧接するようにする。 - 特許庁

A plasma treatment process is carried out in which treatment gas f_G containing a halogen-content compound such as fluorocarbon is passed through a plasma space 22 to have it in contact with the surface of the SiN layer 12.例文帳に追加

フッ化炭素等のハロゲン含有化合物を含む処理ガスｆ_Ｇをプラズマ空間２２に通し、ＳｉＮ層１２の表面に接触させるプラズマ処理工程を行なう。 - 特許庁

To facilitate the work for bending process and caulking when forming a fixed side terminal of a push button switch which is formed by caulked fixing of a contact piece with a terminal piece.例文帳に追加

接点片と端子片とをカシメ止めして形成される押釦スイッチの固定側端子の形成に際しての、曲げ加工、カシメ止めなどの作業を容易にする。 - 特許庁

A process of bringing atomized water into contact with the collected cast sand is performed by spraying water in the vertical direction on the collected cast sand in the dropping direction.例文帳に追加

回収鋳型砂に対して霧状の水を接触させる工程は、回収鋳型砂を落下方向に対して垂直な方向からの水を噴霧することによりなされる。 - 特許庁

To provide a contact member ensuring good conductive connection between an electronic component and a mother board even when the electronic component is shrunk, and to its fabrication process.例文帳に追加

電子部品の微細化によっても電子部品とマザー基板間の導通接続を良好に図ることが可能な接点部材及びその製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide an interconnected relay unit wherein a relay body is free from being in contact with an inner wall or a partition wall of a cover case in each storage space in an assembling process.例文帳に追加

組立て工程において、各収納空間内でリレー本体がカバーケースの内壁や仕切壁に接触するおそれのない連設型リレーユニットを提供する。 - 特許庁

To solve the problem that conductivity cannot be obtained when reassembled because a contact 26a is cut in the case the joint section 41 of a developing frame body and a toner frame body is cut when a process cartridge is recycled.例文帳に追加

プロセスカートリッジの再生産時に現像枠体とトナー枠体の接合部４１を切断すると接点２６ａが切断されるので再組立時に導通できない。 - 特許庁