「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an oil agent for spinning without generating tar or scum in any type of false twist processes such as a hot plate contact-heating type and a non-contact type heating by using a radiation heat type high temperature heater, and capable of performing the false twist process stably for a long period.例文帳に追加

熱板接触加熱方式及び輻射熱式高温ヒーターによる非接触加熱方式の何れのタイプの仮撚加工においても、タールやスカムが発生せず、長期安定的に仮撚加工が可能な紡糸油剤を提供する。 - 特許庁

In a process of forming a contact hole, the silicon oxide film 10 falls in a slit shape during etching on the silicon oxide film 12, so a silicon nitride film 15c is buried in the part and then the contact hole is formed by etching a silicon nitride film 11 on the silicon substrate 11.例文帳に追加

コンタクトホール形成の工程では、シリコン酸化膜１２をエッチングする際に、シリコン酸化膜１０がスリット状に落ち込むので、その部分にシリコン窒化膜１５ｃを埋め込み、その後、シリコン基板１上のシリコン窒化膜１１をエッチングして形成する。 - 特許庁

To provide a wiring structure of a semiconductor device and a method of forming the same which prevent a first contact pad from being damaged by a cleaning fluid in the formation of a second contact plug to be connected to the lower electrode of a capacitor in a downstream process.例文帳に追加

後工程における、キャパシタの下部電極と接続されるべき第２コンタクトプラグの形成の際の洗浄液による第１コンタクトパッドの損傷を防止できる、半導体装置の配線構造物及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

The liquid sampling method includes a process (a) for bringing the leading end of a fiber bundle formed by bundling fibers into contact with a liquid to be sampled to take the liquid to be sampled in the fiber bundle and a process (b) for sampling the liquid to be sampled taken in the fiber bundle.例文帳に追加

本発明の液採取方法は、（ａ）繊維を束ねてなる繊維毛の先端を被採取液に接触させ、該繊維毛に該被採取液を取り込むこと、 （ｂ）前記繊維毛内に取りこまれた前記被採取液を採取すること、を含む。 - 特許庁

This method for food processing/preservation has a processing process in which a food containing seasoning is retained in a container in a state in contact with a dehydration sheet and a preservation process in which the food is kept in cold storage or frozen while maintaining the retention state as it is.例文帳に追加

調味料が加えられた食品を脱水シートに接触させた状態で容器内に保持する加工工程と、その保持状態を維持したままで冷蔵または冷凍保存する保存工程とを有する食品の加工・保存方法である。 - 特許庁

It is preferable to further include a heat treatment process for carrying out heat treatment of a formed chemical conversion coating film, and a film increase treatment process bringing the chemical conversion coating film after the heat treatment into contact with the mixed solution of sodium aluminate, sodium hydroxide and sodium oxalate to provide a thick film.例文帳に追加

好ましくは、更に、生成した化成皮膜を熱処理する、熱処理工程と、熱処理後の化成皮膜を、アルミン酸ナトリウムと、水酸化ナトリウムと、しゅう酸ナトリウムとの混合溶液に晒して、厚膜化する、増膜処理工程と、を有する。 - 特許庁

As a result, it is possible to impart local characteristics to the component 11 during the process at a proper position, and it is possible to allow a non-contact measuring device and a surface finishing device to pass through the place aparting a constant distance from the surface of the component 11 during the process.例文帳に追加

その結果、局部的な特長を妥当な位置でプロセス途中の部品に加工することが出来、非接触形測定装置並びに表面仕上げ装置は、プロセス途中の部品の表面からより一定の距離のところを通ることが出来る。 - 特許庁

(1) The method for producing 4-halo-3-hydroxybutylamide includes (a) a process in which the solution containing 4-halo-3-hydroxybutyronitrile and hypochlorous acid and/or its salt come into contact with, and, subsequently, (b) a process in which the nitrile is amidated by nitrile hydratase.例文帳に追加

（１）（イ）４−ハロ−３−ヒドロキシブチロニトリルを含む溶液と次亜塩素酸及び／又はその塩を接触させる工程、及び（ロ）次いで前記ニトリルをニトリルヒドラターゼによりアミド化する工程、を含む４−ハロ−３−ヒドロキシブチルアミドの製造方法。 - 特許庁

To provide a laminated chip package having a structure that facilitates an inspection process for contact resistance and enables the inspection process to be efficiently carried out, to provide a semiconductor substrate for manufacturing the laminated chip package, and to provide a method of manufacturing the laminated chip package.例文帳に追加

接触抵抗の検査工程を簡略化し、検査工程を効率的に行える構造を備えた積層チップパッケージおよびその積層チップパッケージを製造するための半導体基板並びに積層チップパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a metal interconnection of a semiconductor device which can solve the problems caused by a defective contact between upper and lower metal interconnections, due to insufficient process margin in a process of forming the upper metal interconnection of the high integration semiconductor device.例文帳に追加

高集積半導体素子の上部金属配線形成工程において工程マージンの不足による下部金属配線との接触不良からの問題点を解決することができる半導体素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

A mount part 1031 is provided at an inlet of a rail 103 provided on a casing, and the mount part 1031 includes a guide wall 10311 brought into contact with a process cartridge 15 according to its insertion to guide the process cartridge to the rail.例文帳に追加

筐体に設けられているレール１０３の入口に載置部１０３１を設け、さらに、その載置部１０３１にプロセスカートリッジ１５の挿入に伴いプロセスカートリッジに接触してプロセスカートリッジをレールへと案内する案内壁１０３１１を設ける。 - 特許庁

In the image forming device provided with a single layer positive electrification type organic photoreceptor and an electrifying member to perform an electrifying process required for an electrophotographic process at a photoreceptor thereof, the electrifying member is a non-contact type electrifying member.例文帳に追加

上記の単層正帯電型有機感光体と、この感光体に電子写真プロセスのために必要な帯電プロセスを実施する帯電部材を備えた画像形成装置において、帯電部材が非接触式帯電部材である画像形成装置とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the superconductive thin-film material includes a gas-phase process for forming a superconductive layer 3 by a gas-phase method, and a liquid-phase process for forming a superconductive layer 4 by a liquid-phase method so that the superconductive layer 4 is in contact with the superconductive layer 3.例文帳に追加

超電導薄膜材料の製造方法は、気相法により超電導層３を形成する気相工程と、超電導層３に接するように、液相法により超電導層４を形成する液相工程とを備えている。 - 特許庁

Therefore, even if a warping portion 5a is made at the terminal portion of the barrier rib 5 in a process of backing to form the barrier rib 5, in a process of pasting the front panel and the rear panel, the warping portion 5a does not contact with the front panel.例文帳に追加

従って、焼成による隔壁５の形成工程において、隔壁５の端部に反り上がり部５ａが発生したとしても、前面パネルと背面パネルとの貼り合わせ工程において、反り上がり部５ａは前面パネルに接触しない。 - 特許庁

The method for electroless plating has a process step of bringing a substrate W into contact with the inside of an electroless plating solution 50 and forming the plating film on the surface of the substrate W and a process step of rubbing the surface of the plating film formed on the surface of the substrate W with a scrubbing member 56.例文帳に追加

基板Ｗを無電解めっき液５０中に接触させて該基板Ｗの表面にめっき膜を形成する工程と、基板Ｗの表面に形成されるめっき膜の表面をスクラブ部材５６で擦る工程とを有する。 - 特許庁

Voltage having a polarity reverse to an electrifying polarity is applied to the peripheral surface of the photoreceptor drum 1 through the contact member (fixed brush) 8 after the transfer process and also before an electrifying process, so that the occurrence of an optical memory is suppressed without causing remarkable dark decay.例文帳に追加

転写行程後かつ帯電行程前、接触部材（固定ブラシ）８を通じて、感光ドラム１周面に帯電極性とは反対の電圧を印加することにより、顕著な暗減衰を生じさせることなく光メモリの発生を抑制する。 - 特許庁

After a blanket radiation process has selectively melted the amorphous silicon layer, a cooling condition is selected in such a way that a single- crystal silicon film is formed during a solidification process due to its contact with a single-crystal silicon substrate acting as a seed layer.例文帳に追加

ブランケット放射プロセスがアモルファス・シリコン層を選択的に溶融した後、シード層として働く単結晶シリコン基板への接触によって固化プロセス中に単結晶シリコン被膜が形成されるように冷却条件が選択される。 - 特許庁

Accordingly, since the operator can directly detect it during soldering process in this method, he can adjust it without interrupting the process so that it may be always in proper contact condition, so he can sharply suppress the occurrence of inferior goods, too, without dropping the productivity.例文帳に追加

従って、はんだ処理工程中に直接検出できるのであり、常に適正な接触状態になるように工程を中断することなく調整することができるので稼働率を低下させないで、不良品の発生も大幅に抑制できる。 - 特許庁

The method has an adsorption process of bringing a gas containing hydrofluoroethers into contact with activated charcoal to make the hydrofluoroethers adsorbed by the charcoal and a desorption process of making the hydrofluoroethers desorbed from the charcoal.例文帳に追加

ハイドロフルオロエーテルを含有するガスを活性炭と接触させて、前記活性炭に前記ハイドロフルオロエーテルを吸着させる吸着工程と、前記ハイドロフルオロエーテルを前記活性炭から脱着させる脱着工程とを具備する、ハイドロフルオロエーテルの回収方法。 - 特許庁

In the method for eluting phosphorus in sludge and an apparatus therefor, phosphorus in sludge is eluted into an alkali solution by a pretreatment process for damaging microorganisms in sludge and a process for bringing sludge after pretreatment into contact with the alkali solution.例文帳に追加

汚泥中の微生物に損傷を与える前処理工程、および前処理後の汚泥をアルカリ溶液に接触させる工程によって、汚泥中のリンをアルカリ溶液中に溶出させる汚泥中リンの溶出方法および溶出装置。 - 特許庁

The method comprises the chloride conversion process of bringing the used alumina into contact with chlorine gas to convert an oxide into a chloride for selectively vaporizing aluminum chloride and the aluminum chloride recovering process of condensing and collecting the aluminum chloride.例文帳に追加

使用済アルミナを塩素ガスと接触させることにより酸化物を塩化物に転換し、塩化アルミニウムを選択的に気化させる塩化転換工程と；前記塩化アルミニウムを凝縮させて捕集する塩化アルミニウム回収工程とからなる。 - 特許庁

The method for forming the metal back layer has a process for pressuring and bonding the metallic film of the transfer film, which is disposed so as to contact with a phosphor layer through a bonding layer, and a process for heat treatment of a face plate wherein the metallic film is formed.例文帳に追加

メタルバック層の形成方法は、前記転写フィルムを金属膜が蛍光体層に接着剤層を介して接するように配置して押圧・接着する工程と、金属膜が形成されたフェースプレートを加熱処理する工程とを備えている。 - 特許庁

To control a manufacturing process of a semiconductor device based on a dimension determined by a processed-object dimension measurement process for measuring side dimensions of a pattern formed on a wafer in a non-contact and non-destructive manner at a high speed by using ellipsometry.例文帳に追加

エリプソメトリを使い、ウェハ上に形成されたパターンの横方向への寸法を、非接触かつ非破壊に、しかも高速に求める加工物寸法測定工程を含み、求められた寸法にもとづいて半導体装置の製造プロセスを制御する。 - 特許庁

This device has a high-voltage power supply unit 109 arranged close to the image forming process unit components 103-108 surrounding the photosensitive drum 105, and electrically connects the high-voltage power supply unit 109 to the image forming process unit components via contact points.例文帳に追加

高圧電源ユニット１０９を感光ドラム１０５の周囲の画像形成プロセスユニット構成部品１０３〜１０８と近接配置し、高圧電源ユニット１０９と画像形成プロセスユニット構成部品とを接点部を介して電気的に接続する。 - 特許庁

The method is constituted so that it may include a process of putting the equipment surface in the semiconductor material processing chamber into contact with an atmosphere including a proton donor, and causing it to react with the porogen deposited on the equipment surface, and a process of putting the equipment surface into contact with an atmosphere including a fluorine donor, and causing it to react with a thin film deposited on the equipment surface.例文帳に追加

半導体材料処理室の装置表面をプロトン供与体含有雰囲気と接触させてその装置表面に堆積せしめられたポロゲンと反応させることと、装置表面をフッ素供与体含有雰囲気と接触させてその装置表面に堆積せしめられた薄膜と反応させることとを含んでなるように構成する。 - 特許庁

This method/system is provided with a reduction-dissolving process S2 for bringing a surface of a radioactive chemical having a radioactive oxide skin on its surface into contact with a reducing decontaminant solution dissolved with a mono-carboxylic acid and a dicarboxylic acid, and an oxidation-dissolving process S6 for bringing the surface of the radioactive chemical into contact with an oxidizing decontaminant solution dissolved with an oxidant.例文帳に追加

表面に放射性の酸化皮膜を有する放射化部品の表面をモノカルボン酸とジカルボン酸が溶解した還元性の除染液に接触させる還元溶解工程Ｓ２と、前記放射化部品の表面を酸化剤が溶解した酸化性の除染液に接触させる酸化溶解工程Ｓ６とを備えている構成とする。 - 特許庁

In the method for producing a beer-flavored unfermented malt beverage includes the process for reducing the unpleasant wort flavor by making the wort and adsorbent come in contact with each other, the contact between the wort and the adsorbent is performed in the process for filtering the wort, and the beer-flavored unfermented malt beverage is produced by the method.例文帳に追加

麦汁と吸着剤とを接触させることによって不快な麦汁フレーバーを低減させる工程を含んでなる未発酵のビール風味麦芽飲料の製造方法であって、麦汁と吸着剤との接触が麦汁の濾過工程において行われる製造方法と、その方法により製造された未発酵のビール風味麦芽飲料。 - 特許庁

This is a decomposing method for halogenated aliphatic hydrocarbon compounds with a process of making functional water and halogenated aliphatic hydrocarbon compounds contact under light irradiation, and a decomposing method having a process of making functional water containing decomposed products of halogenated aliphatic hydrocarbon compounds, contact with a photocatalyst and an apparatus used for it.例文帳に追加

機能水とハロゲン化脂肪族炭化水素化合物とを光照射下にて接触させる工程を有するハロゲン化脂肪族炭化水素化合物の分解方法であって、ハロゲン化脂肪族炭化水素化合物の分解生成物を含む機能水を光照射下にて光触媒と接触させる工程を有する分解方法およびそれに用いる装置。 - 特許庁

The calculation step 3 comprises processes which repeat the process calculating contact condition at least between a bead bottom surface and the rim from the tire model expanded and deformed by the internal pressure condition, and a process renewing the internal pressure operation area so that the internal pressure acting on a non-contacting area with a rim of a bead bottom surface till the contact condition becomes constant.例文帳に追加

計算ステップＳ３は、内圧条件により膨張変形したタイヤモデルから、少なくともビード底面とリムとの間の接触状態を計算する処理と、ビード底面のリムとの非接触域に内圧が作用するように前記内圧作用領域を更新する処理とを前記接触状態が一定になるまで繰り返す工程を含む。 - 特許庁

In the electrostatic charge image developing toner including at least a colorant and a binder resin, a peak of thermally stimulated current value in at least the range of 60-100°C in a temperature up process is 0.001-1 pA, wherein the peak is measured by a contact process in which the toner is charged and measurement is performed while keeping the toner in contact with an electrode.例文帳に追加

少なくとも着色剤とバインダー樹脂を含む静電荷像現像用トナーにおいて、トナーを帯電させ、電極と接触させた状態で測定する接触法で測定した昇温過程における熱刺激電流値の少なくとも６０〜１００℃におけるピーク値が、０．００１〜１ｐＡであることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁

This manufacturing method of the monocyte extractant includes a process for obtaining a monocyte fraction by hemolyzing an erythrocyte in blood by bringing blood into contact with an erythrocyte dissolving solution to subject the hemolyzed blood to centrifugal operation and a process for obtaining the monocyte extractant by bringing the monocyte fraction into contact with a membrane solubilizing surfactant.例文帳に追加

前記製造方法は、血液と赤血球溶解用溶液とを接触させることにより、血液中の赤血球を溶血させた後、遠心操作を行うことにより単核球分画を得る工程と、前記単核球分画と、膜可溶化用界面活性剤とを接触させることにより、単核球抽出液を得る工程とを含む。 - 特許庁

This hydrophobic substance removing method has a process to adsorb hydrophobic substances contained in a body to be treated by bringing the body to be treated into contact with a hydrophobic substance adsorptive agent and a process to bring a hydrophobic substance decomposing fluid capable of decomposing the hydrophobic substances into contact with the hydrophobic substances adsorbed by the hydrophobic substance adsorptive agent.例文帳に追加

被処理体を疎水性物質吸着剤に接触させて前記被処理体中に含有される疎水性物質を吸着する工程と、前記疎水性物質吸着剤に吸着した疎水性物質に、前記疎水性物質を分解できる疎水性物質分解流体を接触させる工程とを有する疎水性物質の除去方法。 - 特許庁

In the hydrogen generation material generating hydrogen by contact with water and generating water by contact with hydrogen, a hydrogen storage metal storing-releasing hydrogen by oxidation-reduction is used as a matrix, and at least one of substances selected from metals and metal oxides is added to the surface of the hydrogen storage metal by an ALD (Atomic Layer Deposition) process or an LPD (Liquid Phase Deposition) process.例文帳に追加

水の接触により水素を発生し、水素の接触により水を発生する水素発生材において、酸化還元によって水素を吸蔵・放出できる水素吸蔵金属を母材とし、前記水素吸蔵金属の表面に、金属又は金属酸化物の少なくとも一方の物質がＡＬＤ法又はＬＰＤ法を用いて添加されている。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a process for forming the holder having the pocket 3 storing double rows of rollers 2 and a process for arranging all of the double rows of rollers in the pocket as rollers 2a with crowning to reduce differential slide, although contact face pressure rises above contact face pressure applied on each roller when all of the double rows of rollers are straight rollers.例文帳に追加

複列ころ２を収納するポケット３を有する保持器を形成する工程と、接触面圧が、複列ころをすべてストレートころとした場合に各ころに加わる接触面圧よりも大きくなるが、しかし差動すべりが軽減するように、複列のころすべてをクラウニング付ころ２ａとして、ポケットに配置する工程とを含む。 - 特許庁

The method for extracting a palatable raw material comprises a water-extraction process of making the palatable raw material such as coffee or tea come in contact with extraction water to obtain water extract liquid; and a steam extraction process of making the palatable raw material come in contact with saturated steam to obtain steam extract so that the extract liquid where the water extract liquid and the steam extract are mixed together.例文帳に追加

嗜好性原料の抽出方法は、コーヒーや茶などの嗜好性原料に抽出水を接触させて水抽出液を得る水抽出工程と、同嗜好性原料に飽和水蒸気を接触させて蒸気抽出物を得る蒸気抽出工程とを備え、前記水抽出液及び蒸気抽出物を混合した抽出液を得る。 - 特許庁

In a process for patternwise exposing a negative resist for an ink jet process of the pattern forming method, a pattern is formed by irradiation with an energy beam in an environmental atmosphere in which the contact angle between a negative resist surface which becomes developer-insoluble by an energy beam and ink becomes larger than the contact angle between an unirradiated developer-soluble surface part and the ink.例文帳に追加

インクジェット法のための、ネガ型レジストのパターン露光法において、エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This method for forming the antenna of a non-contact IC card as a method for forming an antenna for the non-contact IC card comprises a process for laminating a metallic foil 3 for an antenna on a base material film 2 and a process for machining and removing the metallic foil where an antenna coil 4 is not formed by an end mill 31.例文帳に追加

本発明の非接触ＩＣカードのアンテナ形成方法は、非接触ＩＣカード用のアンテナの形成方法であって、基材フィルム２にアンテナ用金属箔３を積層する工程と、当該金属箔のアンテナコイル４を形成しない部分の金属箔をエンドミル３１により切削除去する工程とにより、アンテナを形成することを特徴とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device comprises: (a) a process of forming the contact hole (6) at an upper part inside an insulation layer 3 containing a silicon oxide by dry etching using a first etching gas containing an Xe gas, (b) and a process of deepening the contact hole 7 more inside the insulation layer 3 by dry etching using a second etching gas not containing the Xe gas.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）Ｘｅガスを含む第１エッチングガスを用いたドライエッチングにより、酸化シリコンを含む絶縁層３内の上部にコンタクトホール（６）を形成する工程と、（ｂ）Ｘｅガスを含まない第２エッチングガスを用いたドライエッチングにより、絶縁層３内でコンタクトホール７をより深くする工程とを具備する。 - 特許庁

The pretreatment method to plating comprises: a surface modifying process where a first high pressure fluid in which a substance having an amide group is dissolved is brought into contact with a polymer substrate; and a catalyst applying process where a second high pressure fluid in which an organometallic complex containing a catalyst for plating is dissolved is brought into contact with the polymer substrate.例文帳に追加

アミド基を有する物質が溶解している第１の高圧流体をポリマー基体に接触させることと（表面改質工程）、メッキ用触媒を含有する有機金属錯体が溶解している第２の高圧流体をポリマー基体に接触させることと（触媒付与工程）を含むメッキ前処理方法により上記課題を解決する。 - 特許庁

In this method, the process of bringing a liquid into contact with the cation exchange resin and measuring the polystyrene sulfonic acid quantity contained in this liquid and the process of centrifugally separating the liquid after the contact with the cation exchange resin, filtering the liquid after centrifugal separation with a membrane filter, and measuring the polystyrene sulfonic acid quantity contained in the filtrate, are executed.例文帳に追加

陽イオン交換樹脂に液体を接触させ、次いでこの液体中に含まれるポリスチレンスルホン酸量を測定する工程と、陽イオン交換樹脂に接触させた後の液体を遠心分離し、次いで遠心分離後の液体をメンブレンフィルタで濾過した後、濾液中に含まれるポリスチレンスルホン酸量を測定する工程とを実施する。 - 特許庁

The polyelectrolyte membrane is manufactured by the manufacturing method including a process in which a polymer film containing a polymer compound having an aromatic unit is brought into contact with a proton conductive functional group-introducing agent, and a process in which the polymer film with which the proton conductive functional group-introducing agent has been brought into contact is heated at 60°C or more and 150°C or less.例文帳に追加

芳香族単位を有する高分子化合物を含む高分子フィルムを、プロトン伝導性官能基導入剤に接触させる工程、上記プロトン伝導性官能基導入剤を接触させた高分子フィルムを６０℃以上、１５０℃以下に加熱する工程を含む製造方法により高分子電解質膜を製造する。 - 特許庁

This method comprises a dry type absorption process wherein sulfur compounds in a produced gas A are absorbed and removed in a absorption column 1 and a washing process wherein the produced gas A1 from the absorption process is introduced in washing columns 32a and 32b and brought into contact with washing liquids C1 and C2 by gas-liquid contact so that at least chlorine compounds and nitrogen compounds are absorbed and removed.例文帳に追加

生成ガスＡ中に含まれる硫黄化合物を吸収剤２が装填された吸収塔１において吸収除去する乾式の吸収工程と、この吸収工程後の生成ガスＡ１を洗浄塔３２ａ，３２ｂに導入し洗浄液Ｃ１，Ｃ２に気液接触させて、生成ガスＡ１中に含まれる少なくとも塩素化合物及び窒素化合物を吸収除去する洗浄工程とよりなる構成とする。 - 特許庁

The method of removing carbon monoxide contained in the hydrogen enriched gas includes: a 1st process for bringing carbon monoxide into contact with oxygen in the presence a carbon monoxide selectively oxidizing catalyst to reduce carbon monoxide; and a 2nd process for further bringing carbon monoxide remaining in the hydrogen enriched gas after the 1st process into contact with oxygen in the presence of the carbon monoxide selectively oxidizing catalyst cooled to a prescribed temperature to reduce carbon monoxide.例文帳に追加

水素富化ガス中に混在する一酸化炭素を選択酸化除去する方法は、一酸化炭素選択酸化触媒の存在下、一酸化炭素を酸素と接触させて低減する第１工程と、前記第１工程後の水素富化ガス中に残存する一酸化炭素をさらに所定の温度に冷却した一酸化炭素選択酸化触媒の存在下、酸素と接触させて低減する第２工程とを含む。 - 特許庁

In the method, the cutting process can be easily performed by using a knife 1 where the cut blade 7 of the intermediate area 10 of a blade body 2 is backwardly escaped, or a cutter having contact parts at its front and back ends and provided with a cut blade at such a position as to upwardly escape from the contact part.例文帳に追加

刃身２の中間領域１０の切り刃７が棟３側に回避後退した庖丁１、または前後端に当接部を有し該当接部から上方に後退回避した位置に切り刃を設けた刃物を用いると簡単に加工できる。 - 特許庁

To solve a throughput degrading problem when a resist is formed on an almost entire substrate if the resist is intended to be coated and formed on a film other than places where contact holes are formed when forming the contact holes in the manufacturing process of a conventional semiconductor device.例文帳に追加

従来の半導体装置の作製工程においてコンタクトホールを開孔する際、コンタクトホールが形成される箇所以外の膜上にレジストを塗布形成しようとすると、ほぼ基板全面にレジストを形成する事になるため、スループットが大幅に低下する。 - 特許庁