「CONTACT PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image forming apparatus which is allowed to postpone wear of a process cartridge by adaptively controlling the time when a development roller and a photosensitive drum are in contact.例文帳に追加

現像ローラと感光体ドラムとが接触する時間を適応的に制御することで、プロセスカートリッジの摩耗を遅らせることができる画像形成装置を提供。 - 特許庁

In this preparation process of a fine gel particle, a mist of a polymer solution and a mist of a gelatinizing agent solution are brought into contact with each other to gelatinize the polymer.例文帳に追加

霧状の高分子溶液と、霧状のゲル化剤溶液とを接触させ、前記高分子をゲル化させることを特徴とする微細ゲル粒子の製造方法による。 - 特許庁

To provide a developing apparatus, accurately bringing a content member into contact with a developing roller, and reduced in size, a process cartridge, and also to provide an electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加

接点部材を現像ローラに精度良く接触させることができ、小型化が可能な現像装置、プロセスカートリッジ及び電子写真画像形成装置の提供。 - 特許庁

After covering a metallic electrode material, a lift-off using a contact pattern formed on an intermediate insulation film 22p and a first resist 20p is used to process a metallic electrode.例文帳に追加

金属電極材料を成膜した後、中間絶縁膜２２ｐ及び第１レジスト２０ｐに形成されたコンタクトパターンを用いたリフトオフにより金属電極を加工する。 - 特許庁

This agent for controlling the insect pest is characterized by being produced through a process of bringing a cyclic oligosaccharide in contact with the insecticide through a solvent.例文帳に追加

本発明の、害虫防除のための薬剤は、環状オリゴ糖および殺虫剤を、溶媒を介して接触させる工程を経て製造されることを特徴とするものである。 - 特許庁

A silicon-containing film 93 on a base film 92 is etched by bringing a process gas, which contains a fluorine-based reaction component and an oxidizing reaction component, into contact with a workpiece 90.例文帳に追加

フッ素系反応成分と酸化性反応成分を含む処理ガスを被処理物９０に接触させ、下地膜９２上のシリコン含有膜９３をエッチングする。 - 特許庁

To prevent contact between packages at stacking resin-molded assemblies and avoid generation of defective appearance of a semiconductor device, in a manufacturing process of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセスにおいて、樹脂モールドされた組立体のスタック時にパッケージ同士の接触を防止し、半導体装置の外観不良などの発生を回避する。 - 特許庁

To provide a non-contact carrying device suitable to be used in a process step, allowing high-accuracy maintenance of a levitation height even in a large-size FPD or the like.例文帳に追加

大型のＦＰＤ等であっても、その浮上高さを高精度に維持することが可能で、プロセス工程に使用して好適な非接触搬送装置を提供する。 - 特許庁

To reliably prevent a bearing shaft during assembly from making contact with an elastic member that forms a base bearing and to perform an efficient heat discharge process.例文帳に追加

組み立て時に、ベアリングシャフトが気体軸受を構成する弾性部材に接触することを確実に防止するとともに、効率的な熱の排出処理を遂行可能にする。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device capable of achieving high density and high function by ensuring a correct process margin between a contact and a gate line in a cell array structure.例文帳に追加

セルアレイ構造においてコンタクトとゲートラインの間の正確な工程マージンが確保されることで高密度及び高機能の具現が可能な半導体メモリー素子を提供する。 - 特許庁

A contact layer 5 exposed between source/drain electrode wirings 7 is oxidized by anode formation process, forming an oxidized insulating film 9 comprising many holes in film-thickness direction.例文帳に追加

ソース・ドレイン電極配線７間に露出したコンタクト層５を陽極化成処理により酸化させ、膜厚方向に多数の孔を有する酸化絶縁膜９を形成する。 - 特許庁

A photoresist 4 is formed on the interlayer insulating film 8, and is exposed in a photolithographic process over the whole surface of the area within a shadow ring, to form contact holes 9.例文帳に追加

続いて、層間絶縁膜８上にフォトレジスト４を形成し、フォトリソグラフィ工程にてシャドーリング内の領域の全面を露光し、コンタクトホール９を形成する。 - 特許庁

To provide a wiring board capable of increasing a contact area between wires through a simple process, a display panel, and manufacturing methods thereof.例文帳に追加

本発明は、簡易な工程で配線間の接触面積を増大させることが可能な配線基板、表示パネル、並びに、それらの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent staying resin residue of a light shielding film in a contact hole in the process of removing the resin of the light shielding film with a liquid developer even if it flows in one direction.例文帳に追加

遮光膜樹脂を現像液で取り除く工程において現像液が一方向に流れる場合でもコンタクトホール内に遮光膜樹脂の残渣が残らないようにする。 - 特許庁

To provide a technique for achieving a high-efficiency crystal silicon solar battery having a partial contact structure on the back side through a simpler manufacturing process at a lower cost.例文帳に追加

裏面側に部分コンタクト構造をもつ高効率の結晶シリコン太陽電池をより簡易な作製工程で、かつ、より低コストで実現する技術を提供する。 - 特許庁

The thermometer protective tube is installed in the reactor, by being inserted into a through-hole penetrating the reactor wall so as to allow its tip to come in contact with the process flow.例文帳に追加

前記温度計保護管は、それの先端がプロセス流と接触するように、反応器壁を貫通する穴に差し込まれることによって反応器に設置される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge free from an abnormal image even in a static contact state of a cleaning brush on an electrostatic latent image carrier for a long period of time.例文帳に追加

クリーニングブラシと静電潜像担持体の長期にわたる静的接触においても異常画像を発生させない画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To prevent vertical white streak, which is caused by an excessive amount of lubricant applied after the replacement of a process unit, in an image forming device having a contact type one-component developing device.例文帳に追加

接触式一成分現像器を有する画像形成装置において、プロセスユニットを交換した後の潤滑剤塗布量の多さによる縦白スジの発生を防止する。 - 特許庁

In its process, a group of contacts 31, 32, 33, 34, 35 are formed in plurality which are collected for each usage of the contact inside one engagement portion 26 for engaging with the opposite connector.例文帳に追加

その際、相手側コネクタに嵌合する一つの嵌合部２６の内側にコンタクトを各用途毎に集めてなるコンタクトグループ３１，３２，３３，３４，３５を複数形成する。 - 特許庁

The method for producing the trialkyl gallium is characterized by having a contact process for contacting a composition having gallium and magnesium with a gasified alkyl halide at a temperature of ≥60°C.例文帳に追加

ガリウムとマグネシウムとを有する組成物と、気相状態のハロゲン化アルキルとを、６０℃以上の温度下で、接触させる接触工程を有するトリアルキルガリウムの製造方法。 - 特許庁

This structure provides full overlap between a storage node contact and an active region, resolves an overlay problem in an etching process, and increases an etching line width of a storage node.例文帳に追加

格納電極コンタクトと活性領域との間のフルオーバーラップを提供し、食刻工程でのオーバーレイ問題を解消し、格納電極の食刻線幅を増加させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device comprising a capacitive element including a ferroelectric layer, and a contact part capable of ensuring stabilized electric connection, and to provide its fabricating process.例文帳に追加

強誘電体層を含む容量素子と、安定した電気的接続が確保できるコンタクト部とを含む、半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The shape of the glass material 26 is not remarkably damaged to be kept so that both upper and lower surfaces are in contact with the center of the metallic mold as in a press process.例文帳に追加

ガラス硝材２６の形状は大幅には崩れず、そのままプレス工程に入っても上下両面とも金型中心からの当りになる形状は保持できる。 - 特許庁

To provide a bottom gate-bottom contact type thin film transistor which has a large ON current through an inexpensive printing process by burying a source and drain electrodes in a gate insulating film.例文帳に追加

ゲート絶縁膜にソース・ドレイン電極を埋め込むことにより、オン電流が大きなボトムゲート・ボトムコンタクト型薄膜トランジスタを安価な印刷プロセスで提供する。 - 特許庁

In the polishing process, the upper surface BU of the vehicle body B is cleaned by applying a cleaning fluid to the upper surface BU while being polished with a polishing net 41 brought into contact with the upper surface BU.例文帳に追加

研ぎ工程では、車両ボディＢの上面ＢＵに研ぎ網４１を摺接させて研ぎを行いつつ、上面ＢＵに洗浄用流体を作用させて洗浄する。 - 特許庁

The conductor and a mating part have a bushing-type mating contact that cannot be released, in order to constitute a strong assembly and facilitate automation of an assembling process.例文帳に追加

導体と嵌合部品は、頑強な組立体を構成しかつ組み立て工程の自動化を容易にするように入れ子式の解放不能な嵌め合い接点を含む。 - 特許庁

The method for purifying sea weed extract comprises a process of making sea weed extract contact to a synthetic adsorbent material to eliminate odorous components and maintain palatability components.例文帳に追加

海藻抽出物を合成吸着剤と接触処理せしめ、臭気成分を除去し、かつ旨味成分を保持することを特徴とする海藻エキスの精製法。 - 特許庁

After a gate electrode 4a is formed, an RIE process is so carried out that a region for forming a contact hole 5 becomes a projected smooth surface in the active region 3.例文帳に追加

ゲート電極４ａを形成した後に、活性領域３のコンタクトホール５を形成する領域の表面を上に凸の滑らかな表面となるようにＲＩＥ加工する。 - 特許庁

To provide a dry press molding method and apparatus for a tile preventing the mutual direct contact of molded objects in a molded object feed out process and markedly high in molding yield.例文帳に追加

成形体の送り出し工程で成形体同士が直に当ることがなく、成形歩留りが著しく高いタイルの乾式プレス成形方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In the secondary molding process a resin to be filled is filled in a portion of the inner and outer circumferences where two half-cut molded items X and Y contact each other.例文帳に追加

次いで二次成形にて二次充填する樹脂を２つの半割り成形体Ｘ，Ｙ同士が接する内周及び外周の部位に充填して両者を接合する。 - 特許庁

In a push-in process for a cable W, the coating Wb is given a notching C by a one-plate cutter 27 and then opened by a V-shaped contact portion 23.例文帳に追加

電線Ｗの押込み過程では、被覆Ｗｂが、一枚板状の切刃２７により切れ目Ｃを入れられた後、Ｖ字形の接触部２３で切開される。 - 特許庁

To prevent occurrence of a horizontal black stripe memory image and deformation of a charging roll, which are caused by bringing the charging roll and a photoreceptor drum into contact with each other before the use of a process cartridge, at a low cost.例文帳に追加

プロセスカートリッジ使用前に帯電ローラと感光ドラムを接触しておくことによる横黒スジメモリ画像の発生、帯電ローラの変形を低コストで防止する。 - 特許庁

After repeating the above process, air enters a second rectification net 5, and here, air is disturbed, reenters the punched hole, and is brought into contact with the glass wool 4 forming the sound absorbing material, and acoustic wave is absorbed.例文帳に追加

これを繰り返し第二の整流網５に入り、ここで空気が乱れ、再び抜かれた孔に入り吸音材のグラスウール４に触れ音波が消音される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge where damage or soiling of a light guide due to contact with transfer material and furthermore soiling of an image on the transfer material can be prevented.例文帳に追加

転写材の接触によるライトガイドの傷つきや汚れ、さらに転写材上の画像の汚れを防止し得る画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating an electrode element of a type of double-sided electrode which can reduce the contact resistance of a tab terminal without requiring an expensive facility for exclusive use.例文帳に追加

両面電極型でありながら、タブ端子の接触抵抗が低く、しかも高価な専用設備を必要としない電極素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The etching selectivity of the contact layer to the active layer is high and hence in a channel etching process the thickness of the active layer can be made uniform in the substrate plane.例文帳に追加

さらに、コンタクト層と活性層のエッチング選択比が大きいため、チャネルエッチングプロセスにおいて、活性層の厚さを基板面内で均一にすることが可能となる。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory which can ensure high yield while suppressing electric resistance between a capacitor and a capacity contact plug, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

キャパシタ−容量コンタクトプラグ間の電気抵抗を小さく抑えることができ、高い歩留まりが得られる半導体記憶装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a multilayer ceramic capacitor 10 in which contact reliability of an inner electrode 24 (24a, 24b) between ceramic layers 22 and a via electrode 28 is enhanced.例文帳に追加

セラミック層２２間の内部電極層２４（２４ａ，２４ｂ）とビア電極２８との接触の信頼性を高める積層セラミックコンデンサ１０の製造方法を提供する。 - 特許庁

An inert gas is used to replace the air inside the apparatus and systems in the manufacturing process of the objective beverage so as to sever contact between the beverage and air.例文帳に追加

また更に、かかる飲料の製造工程における必要な装置又は系を不活性ガス置換し、この装置内での飲料と空気との接触を絶つようにした。 - 特許庁

The process for the regeneration of a crosslinked polyolefin comprises the contact and reaction of a crosslinked polyolefin along with a coal powder in a reaction vessel with a supercritical or subcritical water, to give a noncrosslinked polyolefin.例文帳に追加

架橋ポリオレフィンを石炭粉末とともに反応容器内で超臨界水または亜臨界水と接触、反応させて未架橋のポリオレフィンを生成する。 - 特許庁

The manufacturing method of gas-hydrate with the induction period of production shortened is characterized by containing a process in which produced hydrate gas is brought into contact with a porous material containing water.例文帳に追加

含水させた多孔質物質にハイドレート生成ガスを接触させる工程を含むことを特徴とする生成誘導時間を短縮させたガスハイドレートの製造方法。 - 特許庁

With this arrangement, it can be prevented particularly that the insulating film 6 near the opening of trench 16 is removed by the etching process when forming a contact region 13.例文帳に追加

この構造により、特に、トレンチ開口部１６近傍の絶縁膜６が、コンタクト領域１３を形成する際のエッチング工程により除去されることを防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a polyester fiber having excellent color developing properties in dyeing after postprocessing, antistatic properties, hygroscopicity, contact running friction, opacity and process passableness during yarn texturing.例文帳に追加

後加工後の染色における発色性、静電性、吸湿性、接触走行摩擦、不透明性、および糸加工時の工程通過性に優れたポリエステル繊維を提供すること。 - 特許庁

The contact etching/plating process is performed in local etching/plating cells 12, 14 in closed or open cavities between the master electrode 8 and the substrate 9.例文帳に追加

密接エッチング／めっきプロセスは、マスター電極（８）と基材（９）の間の閉じた又は開いたキャビティ中の局所的なエッチング／めっきセル（１２，１４）中で実施される。 - 特許庁

This method for producing the 4-halo-3-hydroxybutyramide comprises a process of drying 4-halo-3-hydroxybutyronitrile, under reduced pressure and bringing the same into contact with nitrilehydratase.例文帳に追加

４−ハロ−３−ヒドロキシブチロニトリルを減圧乾燥した後、前記ニトリル化合物をニトリルヒドラターゼと接触させることを含む、４−ハロ−３−ヒドロキシブチルアミドの製造方法。 - 特許庁