| 意味 | 例文 |
CONTACT PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2490件
The model introduction process captures data on a workpiece shape (a three-dimensional model) before finishing, the data acquisition process acquires measurement data by bringing the tool in contact with the workpiece W before finishing, and the calculation process calculates actual position data on a comparison point S from the measurement data.例文帳に追加
モデル取込工程で仕上げ前のワーク形状(三次元モデル)のデータを取り込み、データ取得工程で仕上げ前のワークWに工具を接触させて計測データを取得し、算出工程で計測データから比較対象点Sの実位置データを算出する。 - 特許庁
This surface hydrophobing method comprises a process for making the surface hydrophobing composition made of reactive silicon analogue (A) and organic solvent (B) contact with the surface of a layer, a process for exciting the above reactive silicon analogue (A), and a process for heating the above layer.例文帳に追加
本発明の表面疎水化方法は、(A)反応性シラン化合物および(B)有機溶媒を含む表面疎水化用組成物を層の表面に接触させる工程と、前記(A)反応性シラン化合物を活性化する工程と、前記層を加熱する工程と、を含む。 - 特許庁
From solution which contains a phosphate component in the sludge and is obtained by an acid contact process of contacting the sludge discharged from the phosphate chemical conversion process with an acid such as a phosphoric acid, ferric ion is separated using a dialyzer 10 in a separation process.例文帳に追加
リン酸塩化成処理工程から排出されたスラッジにリン酸等の酸を接触させる酸接触工程により得られた、スラッジ中のリン酸塩成分を含む溶液を、分別工程において透析装置10を用いて第二鉄イオンを分別した。 - 特許庁
A manufacturing method for the diffuse reflecting plate includes a process of pressing the laminated body for transfer so that the bonded surface of the thin film layer comes into contact with an applied substrate, a process of peeling the temporary base, and a process of forming a reflecting film on the uneven surface of the thin film layer.例文帳に追加
さらに、この転写用積層体を適用基板に薄膜層の接着面が接するように押し当てる工程、前記仮支持体を剥がす工程及び薄膜層の凹凸表面に反射膜を形成する工程を含む拡散反射板の製造方法。 - 特許庁
This recovering method of phosphoric acid includes a process to bring a phosphoric acid waste liquid discharged from a production process of polybenzazole using polyphosphoric acid as a polymn. solvent into contact with ozone and a process to concentrate the phosphoric acid waste liquid till the phosphoric acid concn. becomes ≥70 wt.%.例文帳に追加
ポリリン酸を重合溶媒とするポリベンザゾール製造工程から排出されるリン酸廃液をオゾンと接触させる工程、およびリン酸廃液をリン酸濃度が70重量%以上となるまで濃縮する工程を含むリン酸の回収方法である。 - 特許庁
This method of manufacturing a semiconductor device includes: a process of forming a silicon cermet film 5; a process of forming a protective film 4 for protecting the silicon cermet film 5; and an opening process of forming contact holes 6 by plasma-etching the protective film 4.例文帳に追加
本発明にかかる半導体装置の製造方法は、シリコンサーメット膜5を形成する工程と、シリコンサーメット膜5を保護する保護膜4を形成する工程と、保護膜4をプラズマエッチングすることでコンタクトホール6を形成する開口工程と、を備える。 - 特許庁
To drastically prolong the life of a cleanerless system and to efficiently prolong the life of process cartridge without adverse influence, in a process cartridge and an image forming device coping with a contact electrifying system, a cleanerless system, and an image forming device of a process cartridge attachable/detachable system.例文帳に追加
接触帯電方式、クリーナーレスシステム、プロセスカートリッジ着脱方式の画像形成装置に対応したプロセスカートリッジおよび該画像形成装置について、クリーナーレスシステムの寿命を大幅に伸ばし、プロセスカートリッジの寿命を弊害無く効率的に延ばす。 - 特許庁
This method for purifying crude methylacetylene comprises a process of bringing the crude methylacetylene containing propadiene in contact with an alcohol compound and a phosphine compound in the presence of a catalyst and carbon monoxide, and a process of isolating the methylacetylene from the reaction products of the above process.例文帳に追加
触媒及び一酸化炭素の存在下、プロパジエンを含有する粗メチルアセチレンをアルコール化合物およびホスフィン化合物と接触させる工程および当該工程の反応生成物からメチルアセチレンを単離する工程を含む粗メチルアセチレンの精製方法。 - 特許庁
The activity measuring method of protein kinase has a reaction process for bringing protein kinase, a substrate and a known amount of ATP into contact with each other, a separation process for separating ATP and ADP and a measuring process for performing electrochemical measurement in a state that separated ATP is collected on the surface of an electrode.例文帳に追加
プロテインキナーゼと基質と既知量のATPとを接触させる反応工程と、ATPとADPとを分離する分離工程と、分離したATPを電極の表面に集めた状態で電気化学測定を行う測定工程とを有する。 - 特許庁
To highly efficiently mix and bring two liquids into contact with each other by intermingling super fine bubbles using a simple process.例文帳に追加
簡易な方法で、超微細気泡を混在させて二液を高効率で混合接触させることができる二液混合装置を提供すること。 - 特許庁
To allow physical distribution at a state that a process cartridge before starting use is attached in an image forming apparatus using a contact type memory tag.例文帳に追加
接触式メモリータグを使用した画像形成装置において、使用開始前プロセスカートリッジを装着した状態での物流を可能にする。 - 特許庁
To provide a non-contact IC card produced by a simple process, having uniform thickness and capable of loading reinforcing plates in the thickness direction of an IC chip.例文帳に追加
工程が簡単で、厚みバラツキがなく、ICチップの厚み方向に補強板を搭載することができる非接触ICカードを提供する。 - 特許庁
To raise breakdown voltage of an insulating film formed on the side surface of a gate electrode in a semiconductor device where a contact hole is formed by a self-alignment process.例文帳に追加
自己整合的にコンタクトホールを形成する半導体装置において、ゲート電極の側面に形成する絶縁膜の耐圧を大きくする。 - 特許庁
An etching detection layer 3 for detecting an end point of etching in the opening process is formed to contact the protective film 4.例文帳に追加
そして、開口工程におけるエッチングの終点を検出するためのエッチング検出層3が保護膜4と接するように形成されている。 - 特許庁
In the process of making the yeast suspension come in contact with the supercritical carbon dioxide, the pressure of the processed liquid is 10-100 MPa, and the temperature of the processed liquid is 40-110°C.例文帳に追加
酵母懸濁液に超臨界状態の二酸化炭素を接触させる工程において、被処理液の圧力は10〜100MPa、温度は40〜110℃とする。 - 特許庁
To reduce the rise of contact resistance without complicating a manufacturing process, for example, with respect to a semiconductor device like a liquid crystal device.例文帳に追加
例えば、液晶装置等の半導体装置について、製造プロセスを煩雑化させることなく、且つコンタクト抵抗の上昇を低減する。 - 特許庁
In a method for detecting a dry etching endpoint, spectral analysis of plasma-emitted light is used in a dry etching process of a contact hole or the like.例文帳に追加
ドライエッチング終点検出方法であって、コンタクトホール等のドライエッチング工程において、プラズマ発光のスペクトル分析を利用するものである。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and a method for manufacturing a semiconductor device which reduces the number of times of mask process, when a contact hole is formed.例文帳に追加
コンタクトホールを形成する際のマスク工程の回数を低減する、半導体装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
Openings to connect metal gridlines with the active diffusion junctions may be formed using a self-aligned contact opening etching process.例文帳に追加
金属格子線を活性拡散接合部に接続するための開口は、自己整合コンタクト開口エッチングプロセスを使用して形成することができる。 - 特許庁
The method for producing GlcNAc nucleotide or GalNAc nucleotide comprises at least a process for bringing protein (A) or protein (B) into contact with GalNAc nucleotide or GlcNAc nucleotide.例文帳に追加
下記(A)又は(B)のタンパク質を、GalNAcヌクレオチド又はGlcNAcヌクレオチドに接触させる工程を少なくとも含む、GlcNAcヌクレオチド又はGalNAcヌクレオチドの生産方法。 - 特許庁
To obtain a vehicular airbag device for further reducing probability that an airbag supported by a roof of a vehicle comes into contact with an occupant in a deployment process.例文帳に追加
車両のルーフに支持されたエアバッグが展開過程で乗員に接触する可能性をより小さくする車両用エアバッグ装置を得る。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a filter which decreases manufacturing process steps and in which the outer peripheral part of the filter comes into surface-to-surface contact with a pipe.例文帳に追加
製造工程を減らすとともに、フィルタの外周部が管に対して面接触となるフィルタの製造方法、及びフィルタを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a gas sensor having a sheet manufacturing process for manufacturing a substrate sheet not deforming an electrode at the time of contact bonding.例文帳に追加
圧着時において電極を変形させない基体シートを作製するシート作製工程を備えたガスセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁
The image forming apparatus is provided with the guide part for guiding the first biased part and the second biased part in sliding frictional contact with them when mounting the process cartridge.例文帳に追加
一方、画像形成装置には、プロセスカートリッジの装着時に、第一被付勢部と第二被付勢部と摺擦してガイドするガイド部を設ける。 - 特許庁
To provide an electrooptical device provided with a TFT whose manufacturing process can be simplified and which has a structure wherein contact holes can be made minute.例文帳に追加
製造プロセスの簡略化が図れ、コンタクトホールの微細化が可能な構造を有するTFTを備えた電気光学装置を提供する - 特許庁
In the second particle-forming process, the first particle is brought into contact with the second monomer including a vinyl monomer in an emulsified state.例文帳に追加
第2粒子形成工程では、第1粒子に対して、ビニル系単量体を含む第2単量体を乳化状態で接触させる。 - 特許庁
In the second quenching process, the alloy 5 is brought into contact with the inner wall of a cooling drum 6 functioning as the cooling medium while rotating.例文帳に追加
第2急冷工程では、冷却媒体として機能する冷却用ドラム6を回転させながらドラムの内壁に合金5を接触させる。 - 特許庁
A 3rd patterning process is performed to form a thin-film transistor 1, a scanning line 2, a data line 4, a terminal contact 4, and a pixel electrode 5.例文帳に追加
第3パターン化プロセスが実行されて薄膜トランジスタ1、走査線2、データ線3、ターミナルコンタクト4及び画素電極5が形成される。 - 特許庁
In the temperature reducing process after growing a contact layer 509 of p-type GaAs, supply of the material gas, which contains AsH3, is stopped, and only the carrier gas is supplied.例文帳に追加
p型GaAsコンタクト層509成膜後の降温過程においては、AsH_3を含む原料ガスの供給を停止し、キャリアガスのみを供給する。 - 特許庁
The first glass layer 31 to the forth glass layer 34 do not melt during a manufacturing process, and are not fixed to respective contact faces.例文帳に追加
第1ガラス層31〜第4ガラス層34は、製造過程において溶融されることがなく、それぞれの接触面に対し固着していない。 - 特許庁
To efficiently suppress defects in image quality due to failed contact and to enhance a degree of freedom to diversity of destinations, parameters of process components.例文帳に追加
接点不良による画質欠陥を有効に抑制でき、しかも、仕向け先、プロセス部品のパラメータの多様性に対する自由度を向上させる。 - 特許庁
Such a low melting-point layer 12 is formed simply during a process for forming the contact probe 1 by laminating the conductive layers 11.例文帳に追加
このような低融点層12は、導電層11を積層してコンタクトプローブ1を形成する工程中に簡単に形成することができる。 - 特許庁
To shorten a cycle time in a bonding process, to prevent a back electrode layer from being damaged, and to prevent the short circuit of a contact line due to dust, etc.例文帳に追加
接着工程でのタクトタイムの短縮、裏面電極層の傷つき防止、ゴミや埃等によるコンタクトラインの短絡防止等を可能とする。 - 特許庁
During execution of a purging process, the wiper 23 is stored in the purge cap 17 in a deflected state in contact with an ink ejection surface 4a.例文帳に追加
パージ処理実行中は、このワイパ23は、撓んだ状態でインク吐出面4aに当接して、パージキャップ17内に収納されている。 - 特許庁
To provide an image forming device capable of mitigating an impact when an electrophotographic process comes into contact with a photoreceptor with a simple constitution.例文帳に追加
簡単な構成で、電子写真プロセスが感光体に当接する際の衝撃を緩和することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To obtain a non-contact IC card capable of using a paper base, too, and simplifying a manufacturing process and to obtain its manufacturing method.例文帳に追加
紙基材も使用することができ、製造工程を単純化することのできる非接触ICカードおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In an electric inspection process S30, a probe is brought into contact with the main area part 21 and probe area part 44 to perform open circuit/shorted circuit inspection.例文帳に追加
電気検査工程S30では、主領域部21と探針領域部44にプローブを接触させてオープン・ショート検査が行われる。 - 特許庁
Its manufacturing method has a process in which alkali-containing glass cullet is brought into contact with gaseous hydrogen chloride to remove alkalinity therefrom.例文帳に追加
その製造方法は、アルカリ含有ガラスカレットと塩化水素ガスとを反応させ、該アルカリ含有ガラスカレットからアルカリ分を除去することを含む。 - 特許庁
The method for decomposing a vinyl alcohol-based polymer comprises a process for bringing a fungus of the genus Gloeophyllum or a culture of the fungus into contact with a vinyl alcohol-based polymer.例文帳に追加
キカイガラタケ属菌(Gloeophyllum.sp)又は該菌の培養物をビニルアルコール系ポリマーに接触させる工程を含む、該ビニルアルコール系ポリマーの分解方法。 - 特許庁
The toner thin layer after the recovering process is made to contribute to development in a developing nip formed by the contact between a photoreceptor 11Y and the toner carrier 134Y.例文帳に追加
そして、回収処理後のトナー薄層を感光体11Yとトナー担持体134との当接による現像ニップで現像に寄与させる。 - 特許庁
A method for detecting containing a process making a sample suspected of containing a target bacterium contact to at least one kind of a nucleotide fragment is disclosed.例文帳に追加
標的細菌を含んでいる疑いのあるサンプルを少なくとも1種類のヌクレオチド断片と接触させる工程を含む検出方法。 - 特許庁
In an assembling process of the discharge lamp 1, even if the body face comes into contact with the lamp member, the edge of the groove part never damages the lamp member.例文帳に追加
放電ランプ1の組立工程において、胴体面がランプ部材に接触しても、溝部の縁がランプ部材を損傷することはない。 - 特許庁
This method for ablating body tissue includes: a process of supplying ablation energy to an electrode; a process of transmitting heat from the electrode; a process of sensing the temperature at the electrode; a process of sensing the power transmitted from the electrode; and a process of predicting the maximum tissue temperature state generated in the contact surface between the tissue electrodes.例文帳に追加
生体組織を切除するための方法であって、切除エネルギーを電極に供給する工程と、該電極からの熱を伝導する工程と、該電極における温度を感知する工程と、該電極により送られる電力を感知する工程と、感知した温度と電力から、組織電極間の接触面下で発生している最高組織温度状態を予測する工程と、を包含する方法。 - 特許庁
The stack gas desulfurization process by a wet lime method for treating a waste gas containing sulfur oxides and nitrogen oxides includes a solid/liquid separation process for taking out a part of the absorbent slurry and solid/liquid separating, a mixing process for adjusting the pH of the filtrate from the solid/liquid separation process and adding an oxidizing agent and a process for allowing the liquid mixture to contact with activated carbon.例文帳に追加
酸化硫黄および酸化窒素を含む排ガスを処理する湿式石灰法による排煙脱硫方法において、該吸収液スラリーの一部を抜出して固液分離する固液分離工程と、該固液分離工程からのろ液をpH調整して、酸化剤を添加する混合工程と、該混合液を活性炭と接触させる工程とを含む排煙脱硫方法。 - 特許庁
Two-stage self-aligned contact etching process of different conditions for etching processes is performed, and a contact hole bottom is etched completely, by making the loss of the upper section of the insulating membrane spacer minimized.例文帳に追加
本発明は食刻工程の条件が異なる2つの段階の自己整合的なコンタクト食刻工程を行ない、絶縁膜スペーサ上部の損失を最少化させてコンタクトホール底部を完全に食刻した。 - 特許庁
To ensure a stable operation of non-contact memory by protecting the non-contact memory loaded to a process cartridge from electromagnetic wave until immediately before use and by easily and safely carrying out release of protection in the case of using the memory.例文帳に追加
プロセスカートリッジに搭載された非接触メモリーを使用直前まで電磁波から保護するとともに、使用に際して保護の解除を容易かつ安全に行ない、非接触メモリーの安定した動作を保証する。 - 特許庁
To form a contact hole (9) in a silicon oxide film (8), exposure is carried out in a photoresist process by using a photomask having a pattern conforming with the contact hole (9) nearly in a square shape after a photoresist film is formed by coating.例文帳に追加
酸化シリコン膜(8)にコンタクトホール(9)を形成する為にホトレジスト工程において、ホトレジスト膜を塗布した後、概略正方形のコンタクトホール(9)形状に合致したパターンを有するホトマスクを用いて露光する。 - 特許庁
To obtain a process cartridge, etc., which can easily execute the detaching and attaching operation of the contact charging means of a photoreceptor without requiring a dedicated electrical parts and suppress the permanent deformation, etc., of the contact charging means.例文帳に追加
感光体の接触帯電手段の離接動作を専用の電気部品を必要とすることなく容易に実施でき、接触帯電手段の永久変形等を抑制可能としたプロセスカートリッジ等である。 - 特許庁
To form micro contact holes at high accuracy even on a substrate having a level difference without increasing parasitic capacity in Schottky contact hole forming process.例文帳に追加
ショットキーコンタクト孔の形成工程で、寄生容量を増加させることなく、また段差を有する基板上であっても、微小コンタクト孔を高精度で形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming device and process cartridge which prevent an increase in an amount of toner consumed in the later half of a durability period, in a contact development system in which a photoreceptor drum and a developing roller can be brought into contact with and separated from each other.例文帳に追加
感光ドラムと現像ローラとが接離可能な接触現像系において、耐久後半におけるトナー消費量の増大を防止し得る画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁
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