「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

In the first process, a first and second substrates 11, 12 are superposed in a clean atmosphere, with diffusion joining performed by a heat treatment for one hour at 400°C.例文帳に追加

第一の工程では、第一の基板１１及び第二の基板１２を清浄雰囲気中で重ね合わせ、４００℃で１時間熱処理することにより拡散接合を行った。 - 特許庁

In the first laser scribe process, laser beams are emitted from each laser optical system, and a first mark 21 corresponding to each laser optical system is provided in a transparent conductive film 2 on a substrate 1.例文帳に追加

第一レーザスクライブ工程では、各レーザ光学系からレーザ光を照射し、基板１の透明導電膜２に各レーザ光学系に対応する第一マーク２１を設ける。 - 特許庁

A recording paper is fed by a paper feed roller 25 from a paper feed tray 20 to a first conveying passage 22, and an image is recorded thereon in a conveying process of the first conveying passage 22.例文帳に追加

記録用紙は、給紙ローラ２５によって給紙トレイ２０から第１搬送路２２へ供給され、第１搬送路２２を搬送される過程で画像が記録される。 - 特許庁

As grasp of the climatic characteristic and a greening method of the town making planning place 1, first of all, a surrounding building, a natural environment and a site condition of the planning place 1 are investigated (a first process).例文帳に追加

まちづくり計画地１の気候特性把握と緑化方法として、まず、計画地１の周辺建物、自然環境、立地条件等を調査する（第１工程）。 - 特許庁

A raw material is gripped by the first main spindle 110 of the composite working machine, and while pushing the center by the second main spindle 120, working of a first process is applied to a part opposed to a work WB.例文帳に追加

複合加工機の第１主軸１１０で素材を把持し、第２主軸１２０で芯押しをしつつ、ワークＷＢに対向する部分に第１工程の加工を施す。 - 特許庁

A sample movement process is performed on a current sample in the first prediction pattern to change a current position of the current sample in the first prediction pattern.例文帳に追加

サンプルの移動処理が、最初の予測パターン内の対象のサンプルに対して実行され、最初の予測パターン内にある対象のサンプルの現在の位置を変化させる。 - 特許庁

A part of the second conductive material covering the first conductive material is treated with ultrasonic-bonding process so that the first conductive material and the second conductive material are joined.例文帳に追加

そして、第一の導電材を覆っている部分の第二の導電材に対して、超音波接合処理を施し、第一の導電材と第二の導電材とを接合させる。 - 特許庁

In the first process, by the first inverting machine 20, the peeling sheet 7 is carried in a direction A, the tackiness agent 12 for slip prevention is atomized and a tacky layer 12A is formed.例文帳に追加

第１工程では、第１反転機２０により、剥離シート７をＡ方向に搬送し、ズレ防止用粘着剤１２を噴霧して粘着層１２Ａを形成する。 - 特許庁

A flat layer is formed by damascence process or by polishing an insulating film stacked after a first metal layer is formed by CMP between the first metal layers.例文帳に追加

第１金属層間を、ダマシン法、もしくは、第１金属層を形成した後に積層する絶縁膜をＣＭＰにより研磨することで平坦な層を形成する。 - 特許庁

Deposition is performed by an atomic layer deposition (ALD) process utilizing a first reactant provided during a first pulse period and a second reactant provided during a second pulse period.例文帳に追加

第１パルス期間に供給される第１反応物と、第２パルス期間に供給される第２反応物とを利用する原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスにより成膜する。 - 特許庁

Then in the first process, the wafer W is accelerated to rotate at a first rotation number and the resist liquid R is fed to the center part of the rotating wafer W.例文帳に追加

続いて第１の工程において、ウェハＷを第１の回転数まで加速回転させ、回転中のウェハＷの中心部へレジスト液Ｒを供給する。 - 特許庁

In the initializing process, writing light with the first intensity is emitted and voltages with a voltage value that is the first intensity are applied to the electrodes 15 and 22.例文帳に追加

そして、初期化処理において、該第１の強度の書込光の照射と、電極１５及び電極２２への第１の強度の電圧値の電圧を印加する。 - 特許庁

The process includes steps for depositing a material on a substrate with a first pressure during a first period and then for depositing the material on the substrate with a second pressure during a second period.例文帳に追加

プロセスは、第１の期間、第１の圧力で基板上に材料を堆積し、次いで、第２の期間、第２の圧力で基板上に材料を堆積するステップを含む。 - 特許庁

In a first process, the substrate 10 is held so that a portion 12 of a film-formed face 10a may be covered, and a first thin film 20 is formed on the film-formed face 10a.例文帳に追加

第一工程では、被成膜面１０ａの一部１２を覆うように基板１０を保持しこの被成膜面１０ａ上に第一薄膜２０を成膜する。 - 特許庁

The magnetoresistive structure including a magnetoresistive element having the first antiferromagnetic layer AFM1 is formed, then subjected to a first annealing process under a strong magnetic field at high temperature.例文帳に追加

第１の反強磁性層ＡＦＭ１を有する磁気抵抗素子を含む磁気抵抗構造を形成したのち、強磁界下で高温で第１のアニール工程を行う。 - 特許庁

A shroud row is formed of a first shroud 3 and a second shroud 4 which is coupled to and joined with the first shroud 3 by torsional deformation in a revolution number increase process.例文帳に追加

シュラウド列は、第１シュラウド（３）と、回転数上昇過程で捻れ変形により第１シュラウド（３）に連成して接合する第２シュラウド（４）とから形成されている。 - 特許庁

Whether or not prescribed first game conditions relating to a sequence of game characters in a game are satisfied is determined in a first game condition determination process at S1.例文帳に追加

Ｓ１の第１ゲーム条件判断処理において、ゲームキャラクタのゲームにおける順序に関する所定の第１ゲーム条件を満たしているか否かが判断される。 - 特許庁

Subsequently, a first attaching process is performed, that is, first parts 42a, 42b of the upper substrate 46 are attached to at least one dummy sealing material 50 in the lower substrate 48.例文帳に追加

続いて第一貼り合わせ工程を行い、上基板４６の第一部分４２ａ、４２ｂを下基板４８における少なくとも一つのダミーシール材５０と貼り合わせる。 - 特許庁

In the manufacturing process of a TFT substrate, an exposure magnification for a first layer is determined, and a pattern for the first layer is transferred by exposure based on the determined exposure magnification.例文帳に追加

ＴＦＴ基板の製造工程において、１層目の露光倍率を設定し、設定した露光倍率に基づいて露光処理による１層目の転写を行う。 - 特許庁

The first state transition probability and prescribed first reward are used to obtain a state value function V^π(s) on the basis of dynamic programming in a Markov decision process.例文帳に追加

第一状態遷移確率及び所定の第一報酬を用いて、マルコフ決定過程における動的計画法に基づき、状態価値関数Ｖ^π（ｓ）を求める。 - 特許庁

The reactive layer adjacent to the first mask patterns is reacted using a chemical attachment process, thereby forming sacrificial layers along outer walls of the first mask patterns.例文帳に追加

化学的付着工程により前記第１マスクパターンに隣接した前記反応膜を反応させて前記第１マスクパターンの外壁に沿って前記犠牲膜を形成する。 - 特許庁

The application means is located and provided for linking the first port and the second port and executes an application process by moving the substrate between the first port and the second port.例文帳に追加

塗布手段は第１ポートと第２ポートの間を連結するように配置されて設けられ、第１ポートと第２ポートの間で基板を移送させ、塗布工程を実行する。 - 特許庁

When the picture display process of the first performance picture is finished, the display of the second performance picture is finished and the first performance picture is displayed to the liquid crystal display.例文帳に追加

第１演出画像の画像表示処理が終了すると第２演出画像の表示が終了し、第１演出画像が液晶ディスプレイから表示される。 - 特許庁

To provide an authentication print function to both a first printer and a second printer which can process a print job which cannot be processed by the first printer.例文帳に追加

第一の印刷装置、及び、第一の印刷装置が処理できない印刷ジョブを処理可能な第二の印刷装置の双方に対して、認証印刷機能を提供する。 - 特許庁

In the insertion process, a second lock 19 of the second sub-connector 10B passes a first lock receiver 63 without interfering with the first lock receiver 63 of the frame 60.例文帳に追加

その挿入過程では、第２サブコネクタ１０Ｂの第２ロック部１９がフレーム６０の第１ロック受け部６３と非干渉に同第１ロック受け部６３を通過する。 - 特許庁

The first urethane substrate 10 and second urethan substrate 20 are jointed correspondingly in a longitudinal direction by the adhesive strength of the first urethane material in a curing process.例文帳に追加

第１ウレタン基材１０および第２ウレタン基材２０は、硬化過程における第１のウレタン材料の接着力により長手方向へ対応的に接合される。 - 特許庁

The first temperature is the temperature of melting the ultra high molecular weight polyethylene 30 and winding it over the roll 20 in the first process (a) and is a higher temperature than that of the second temperature.例文帳に追加

第１の温度は、超高分子量ポリエチレン３０が溶融して第１の工程（ａ）のロール２０に巻きつく温度であって、第２の温度より高温である。 - 特許庁

In the process for forming the first photoresist layer 38b, an ejection liquid chamber 40 and an auxiliary liquid chamber 42 are finally formed between the first photoresist layer 38b and a liquid injection opening 20.例文帳に追加

第１フォトレジスト層３８ｂの形成工程は、最終的に液体注入口２０との間で吐出液体チャンバ４０および補助液体チャンバ４２を形成する。 - 特許庁

A manufacturing method of this membrane-electrode assembly for a fuel cell includes a first process (step S100) of preparing an electrolyte membrane formed of a first polymer electrolyte.例文帳に追加

燃料電池用膜−電極接合体の製造方法は、第１の高分子電解質から成る電解質膜を用意する第１の工程（ステップＳ１００）を備える。 - 特許庁

The method also has a process for exposing the entire surface of the first surface 13 of the gallium-nitride substrate 11 to fluorine-based gas plasma, and performing fluorine termination to the first surface 13.例文帳に追加

また、この方法は、窒化ガリウム基板１１の第１の面１３の全面をフッ素系ガスのプラズマに晒して、第１の面１３にフッ素終端を施す工程を有する。 - 特許庁

To simply manufacture a hollow film formed molded product 10 wherein a film is internally formed using first and second molded bodies 3 and 4 injection-molded in a first injection process.例文帳に追加

第一の射出工程で射出成型される第一、第二の成型体３、４を用いて内部が成膜された中空状の成膜成型品１０を簡単に製造する。 - 特許庁

Then, the first gate insulating film 10 is subjected to a second thermal treatment process in which it is thermally treated in the inactive gas or under vacuum at a temperature higher than the first thermal treatment temperature.例文帳に追加

次いで、第１ゲート絶縁膜１０を、不活性ガス又は真空中で、第１熱処理温度よりも高温で熱処理する第２熱処理工程を行なう。 - 特許庁

To provide a game machine capable of improving playability by changing a process since a first specific configuration is displayed until a first profitable condition is generated.例文帳に追加

第１特定態様が表示されてから第１利益状態が発生する迄の過程に変化を持たせ、遊技性を向上することができる遊技機を提供する。 - 特許庁

Then, in a bending process S112, a first node ring 12 and a second node ring 13 are formed from the first node ring preparation body 12a and the second node ring preparation body 13a.例文帳に追加

そして、曲げ工程Ｓ１１２で、第１の節輪準備体１２ａ、第２の節輪準備体１３ａから第１の節輪１２、第２の節輪１３が形成される。 - 特許庁

First a rotor hold jig 50, holding a rotor 16 via pins 62a, 62b, is fixedly positioned to a housing 34 of a stator 12 by clamp mechanisms 60a, 60b (first process).例文帳に追加

まず、ピン６２ａ、６２ｂを介してロータ１６を保持したロータ保持治具５０を、クランプ機構６０ａ、６０ｂによりステータ１２のハウジング３４に位置決め固定する（第１工程）。 - 特許庁

The processing system 102 directs the interface 101, 103 to transfer a third signal that indicates the first performance and specification information for the first one of the fluid process systems.例文帳に追加

処理システム１０２は、流体処理システムのうちの第１のシステムの第１性能・仕様情報を示す第３信号を転送するようにインターフェース１０１、１０３に指示する。 - 特許庁

To provide a processing plan with the manufacturing time shortened by reducing the dead time generated under a process planning method based on the first-come-first-served policy in handling parts.例文帳に追加

着工可能な部品の中から着工するという着工ルールの工程計画方法で発生する無駄時間を詰めて、製造期間の短い工程計画を得ること。 - 特許庁

In a radio transmission device 100 which transmits a first signal and a second signal which are different from each other, an FFT unit 103 subjects first data to an FFT process.例文帳に追加

互いに異なる第一の信号および第二の信号を送信する無線送信装置１００において、ＦＦＴ部１０３は、第１データに対してＦＦＴ処理を施す。 - 特許庁

A plurality of cycles of a first atomic layer deposition (ALD) process is sequentially conducted to deposit a layer of a first material on the substrate in the deposition chamber.例文帳に追加

第１の原子層堆積（ＡＬＤ）プロセスの複数のサイクルを連続して実行し、前記堆積チャンバ内の前記基板上に、第１の物質の膜を堆積する。 - 特許庁

A second encoding unit 34 performs the block encoding process on a first check symbol sequence in the generated first code sequence to generate a second code sequence.例文帳に追加

第２符号化部３４は、生成した第１符号系列中の第１検査記号系列にブロック符号化を実行することによって、第２符号系列を生成する。 - 特許庁

The holding members are movable, while holding the process cartridge B, between the first position for attaching/detaching the process cartridge and a second position for positioning the process cartridge to the main body of the electrophotographic image forming apparatus.例文帳に追加

保持部材は、プロセスカートリッジＢを保持して、プロセスカートリッジを着脱するための第１の位置と、前記プロセスカートリッジを前記電子写真画像形成装置本体に位置決めするための第２の位置との間で移動可能である。 - 特許庁

The secondary kneading step comprises a secondary kneading process to knead the first kneaded rubber G1, while controlling the temperature level to a secondary kneading temperature of 120 to 200°C, and a cooling process to cool the rubber after the secondary kneading process at lower temperatures than 120°C.例文帳に追加

二次混練ステップは、第１の混練ゴムＧ１を、１２０〜２００℃の二次混練温度に温度制御しながら混練りする二次混練り工程と、この二次混練り工程後のゴムを１２０℃よりも低温度に冷却する冷却工程とを有する。 - 特許庁

This leather processing method comprises the first process (S02) where tanned leather is wrinkled, the second process (S03) where the leather is given moisture and the third process (S04) where the leather is partially heated from the back face side whereby grains and surface unevenness are formed on the surface of the leather.例文帳に追加

この皮革素材の加工方法は、なめされた皮革を揉む第１の工程（Ｓ０２）と、皮革に水分を与える第２の工程（Ｓ０３）と、皮革をその裏面側から部分的に加熱する第３の工程（Ｓ０４）とを含む。 - 特許庁

An oxide film forming process for forming a trench part LOCOS oxide film 6 is formed on a trench part 5 formed in a semiconductor substrate 1 is constituted of a first wet oxidation process of (f) and a second wet oxidation process of (g).例文帳に追加

半導体基板１に形成された溝部５に溝部ＬＯＣＯＳ酸化膜６を形成するための酸化膜形成工程は、図１（ｆ）の第１のウエット酸化工程、図１（ｇ）の第２のウエット酸化工程によって構成される。 - 特許庁

Then a coefficient k_2 of a charging process of a second stage is operated on the basis of the proportion of a ratio of pressure increase (inclination a_1) in the charging process of the preparatory stage and the ratio of pressure increase (inclination a_2) of the charging process of the first stage.例文帳に追加

次に、予備段階の充填工程の圧力上昇率（傾きａ_１）と第１段階の充填工程の圧力上昇率（傾きａ_２）との比から第２段階の充填工程の係数ｋ_２を演算する。 - 特許庁