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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > FIRST PROCESSに関連した英語例文

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FIRST PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5621



例文

The layered product formed in the lamination process is provided with first and second varistor green parts and a heat radiation green part.例文帳に追加

積層工程で形成するグリーン積層体は、第1及び第2のバリスタグリーン部と放熱グリーン部とを備える。 - 特許庁

The blood component collecting apparatus 1 first performs the accelerating circulation of plasma components in a thrombocyte collection process.例文帳に追加

血液成分採取装置1では、血小板採取工程にて、まず、血漿成分の加速循環を行う。 - 特許庁

The pipe line includes first stages 25, 28, 32, 35 that process commands of a computer program 107 and second stages 25, 28, 32, 35.例文帳に追加

パイプラインは、コンピュータプログラム(107)の命令を処理する第1のステージ(25、28、32、35)および第2のステージ(25、28、32、35)を含む。 - 特許庁

The storage system makes and provides a snapshot to the backup server according to the process of the first specified marker.例文帳に追加

またストレージシステムは、第1の指定されたマーカのプロセスに従ってスナップショットを作成し、バックアップサーバに提供する。 - 特許庁

例文

The process includes a first step of transmitting a request for providing an offer of rule sets from the server to the client.例文帳に追加

プロセスは、規則セットの提供を受け入れる要求をサーバからクライアントに伝送する第1の段階を含む。 - 特許庁


例文

PROCESS COMPRISING TWO STEPS OF HYDRODESULFURIZATION OF GASOLINE AND INTERMEDIATE REMOVAL OF H2S GENERATED DURING FIRST STEP例文帳に追加

ガソリンの水素化脱硫の2工程と、第1工程中に生じたH2Sの中間除去とを含む方法 - 特許庁

First, a film forming process is performed and the semiconductor thin film 2, consisting of polycrystalline silicon, is formed on the insulating substrate 1.例文帳に追加

まず、成膜工程を行い、多結晶シリコンからなる半導体薄膜2を絶縁基板1上に形成する。 - 特許庁

In a first process, metal Zr or Hf is heated and evaporated in a chamber in which the base plate 1 is set.例文帳に追加

先ず第1過程で、基板1をセットしたチャンバ内で、金属Zr又はHfを加熱して蒸発させる。 - 特許庁

Even after the process of flattening the surface of the first nitride gallium layer 6, the alignment mark can be recognized.例文帳に追加

第1の窒化ガリウム層6の表面を平坦化した後の工程でも、アライメントマークを認識することができる。 - 特許庁

例文

First, the multilayer wiring board is prepared, and then the semiconductor chips are die-bonded on the multilayer wiring board (process S1).例文帳に追加

まず、多層配線基板を用意した後、半導体チップを多層配線基板上にダイボンディングする(工程S1)。 - 特許庁

例文

A rough idea of the general process of a ceremony is for a Shinto priest first to exorcise the surviving members of the family, those present and the site of evil spirits. 例文帳に追加

式の一般的な大まかな流れは、まず神官が遺族と参列者および会場を祓い清める。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

At each step in the application process, we will first explain what need to be done.例文帳に追加

我々は,アプリケーション過程のそれぞれのステップにおいて,何をしなければならないかを最初に説明するであろう。 - 英語論文検索例文集

When making fukamushi-cha, steaming, the first process in making sencha from raw tea leaves, is performed for longer at between one and three minutes. 例文帳に追加

生茶葉から煎茶を造る最初の工程である「蒸し」の時間を、1分から3分程度と長く取るもの。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

As the Hakata product went on the market first, the dipping process product developed in Hakata became more popular than the reprocessed type developed in Shimonoseki. 例文帳に追加

このために下関のまぶし製法よりも博多で盛んであった漬け込み製法が主流となった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In this prize money process, the management computer 21 first calculates the total amount of prize money of a prize winning member.例文帳に追加

この当せん金処理では、まず、管理コンピュータ21は、当せん会員の当せん金合計額を算出する。 - 特許庁

The first process is repeatedly executed by changing the position for dropping the liquid material to form an inclined part.例文帳に追加

そして、液体材料を滴下させる位置を変えて、第1の工程を繰り返し行い、傾斜部を形成する。 - 特許庁

The process cartridge includes a first ventilation opening on one side surface of a drum frame body and a second ventilation opening on the other side.例文帳に追加

ドラム枠体の一方の側面に設けられた第1の通気口と、他方側に第2 の通気口を有する。 - 特許庁

In the first process, an electric wire group 4 in which a plurality of electric wires 19 are lined is formed in one or a plurality of rows.例文帳に追加

第1工程は、電線19を複数並べてなる電線群4を1又は複数列形成する。 - 特許庁

First, by industry, a Spiral Pattern Development process was observed overall for textiles and miscellaneous goods.例文帳に追加

まず産業別には、らせん形態発展の過程を全体的に観察することができたのは繊維と雑貨であった。 - 経済産業省

A first vertical hole 30 is excavated through a first excavation process where the first vertical hole 30 is excavated down to a lower side of a boundary surface 28 between a contaminated layer 20 and an impermeable layer 22 by penetrating a ground surface layer 18 as well as the contaminated layer 20.例文帳に追加

第1掘削工程により、地盤表層18と汚染層20を貫通して、汚染層20と不透水層22との境界面28の下方まで第1縦穴30が掘削される。 - 特許庁

In a manufacture process, the circular tube blank is extruded forward first to mold the first intermediate blank, and then the first intermediate blank is cut along a center axis and divided into two to obtain the second intermediate blank.例文帳に追加

製造工程は、まず、円管ブランクを前方押出しし、第1中間ブランクを成形し、次に、第1中間ブランクを、中心軸に沿って切断して2分割し、第2中間ブランクを得る。 - 特許庁

The control device reduces, by a first speed reduction rate in a first speed reduction process, the relative speed from the second speed Vw3 to a third speed Vw2 which is greater than the first speed Vw1.例文帳に追加

その際、制御装置は、第1の減速過程において、第2の速度Vw3から第1の速度Vw1よりも速い第3の速度Vw2まで所定の第1の減速度で減速する。 - 特許庁

In the first shot peening process, a first shot is projected to the spring element wire at a first projection speed, so that compressive residual stress occurs up to a deep position from a surface by high kinetic energy.例文帳に追加

第1のショットピーニング工程では、第1のショットが第1の投射速度でばね素線に投射され、高い運動エネルギーによって表面から深い位置まで圧縮残留応力が生じる。 - 特許庁

A first subfield of the first group of subfields selects light-emitting cells using a selective write process, and the remaining subfields of the first group of subfields select non-light-emitting cells from the light-emitting cells using a selective erasure system.例文帳に追加

そして第1サブフィールドグループのうちの最初のサブフィールドは選択的記入方式で発光セルを選択し、残りサブフィールドは選択的消去方式で発光セルで非発光セルを選択する。 - 特許庁

The method includes doping a silicon layer with a first type of dopant and performing a first implant process to implant dopant of a second type opposite the first type in the silicon layer.例文帳に追加

本方法は、第1の種類のドーパントでシリコン層をドープすること、および第1の注入工程を実施して第1の種類とは反対の第2の種類のドーパントをシリコン層内に注入することを含む。 - 特許庁

First, patterning process is performed to form plural two-dimensionally disposed micro lens surfaces on the surface of a first optical resin layer 2 having a first refractive index and disposed on a transparent substrate 1.例文帳に追加

先ずパタニング工程を行ない、透明な基板1の上に配された第一の屈折率を有する第一光学樹脂層2の表面に、二次元的に配された複数のマイクロレンズ面を形成する。 - 特許庁

In a first member forming process 18, the first member 17 is formed so that a difference between the orientation S1 of the innermost layer and the orientation S2 of the outermost layer of the first member 17 becomes not less than 0 but below 0.2.例文帳に追加

第1部材形成工程18では、第1部材17の最内層の配向度S1と最外層の配向度S2との差が0以上0.2未満となるように第1部材17を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a white synthetic zeolite from a colored foundry waste sand comprises a first process of manufacturing a sodium silicate solution from a foundry waste sand by way of a filtration process, a second process of manufacturing a sodium aluminate solution from an aluminum source, and a third process of synthesizing a synthetic zeolite from both the sodium silicate solution made in the above first process and the sodium aluminate solution made in the above second process.例文帳に追加

鋳物廃砂からケイ酸ソーダ溶液を途中にろ過行程を入れて製造する第1工程と、アルミニウム源からのアルミン酸ソーダ溶液を製造する第2工程と、前記第1工程によって製造されたケイ酸ソーダ溶液と前記第2工程によって製造されたアルミン酸ソーダ溶液とから合成ゼオライトを合成する第3工程とによって有色の鋳物廃砂から白色の合成ゼオライトを製造する。 - 特許庁

A Riber process responds to the navigation to the first primary menu item in the visual field of the first primary menu item for displaying a plurality of first secondary menu items related to the first primary ones, and continuously displays the rest of the plurality of first primary menu items.例文帳に追加

リベールプロセスは、第1の一次メニューアイテムの視覚フィールド内で、その第1の一次メニューアイテムへのナビゲーションに応答して、その第1の一次メニューアイテムに関連した第1の複数の二次メニューアイテムを表示する一方、第1の複数の一次メニューアイテムの残りを表示し続ける。 - 特許庁

The manufacturing method of the foamed wallpaper comprises a first process (1) for extruding at least two resin layers containing a foaming agent-containing resin layer in a molten state to form a laminate, a second process (2) for cooling the laminate obtained in the first process and a third process (3) for laminating a paper base material to the cooled laminate.例文帳に追加

発泡壁紙を製造する方法であって、(1)発泡剤含有樹脂層を含む2層以上の樹脂層を溶融押し出しすることにより積層体を形成する第1工程、(2)第1工程で得られた積層体を冷却する第2工程及び(3)冷却された積層体に紙質基材を積層する第3工程 を含む、発泡壁紙の製造方法。 - 特許庁

This electronic component mounting method comprises a first process of mounting a semiconductor element with a projecting connection electrode on the surface of a circuit board in a flip chip mounting manner by the use of a thermosetting adhesive agent and a second process of mounting an electronic component on the other surface of the circuit board through a reflow soldering method, and the first process is carried out before the second process.例文帳に追加

回路基板の一表面に、突起状の接続電極を有する半導体素子等を熱硬化性接着剤によりフリップチップ実装する第1の工程と、工程基板他表面にはんだリフロー法により電子部品を実装する第2の工程からなり、第1の工程を第2の工程より前に行うことを特徴とするものである。 - 特許庁

A manufacturing method for forming an insulating gate-type field effect transistor on silicon carbide includes a first oxidation process and a second oxidation process by an oxidation temperature higher than an oxidation temperature in the first oxidation process in a gate oxidized film manufacturing process by thermal oxidation.例文帳に追加

炭化珪素上に絶縁ゲート型電界効果トランジスタを形成する製造方法であって、熱酸化によるゲート酸化膜製造工程において、第一酸化工程と上記第一酸化工程における酸化温度よりも高い酸化温度による第二酸化工程を少なくとも含むことを特徴とする、絶縁ゲート型半導体装置のゲート酸化膜の製造方法である。 - 特許庁

This method for continuously producing the propylenic block copolymer in a gas phase is characterized by comprising a first process and a second process in the presence of a specific solid catalyst component in a horizontal reactor having a stirrer rotated on a horizontal shaft in the inner portion, wherein an electron-imparting compound is added to the first process or the second process.例文帳に追加

特定の固体触媒成分を用いて、内部に水平軸回りに回転する撹拌機を有する横型反応器による第一工程及び第二工程からなり、第一工程又は第二工程中に電子供与体化合物を添加することを特徴とするプロピレン系ブロック共重合体の気相連続製造方法による。 - 特許庁

This powder is characteristically manufactured by executing a first coating layer formation process and a second coating layer formation process of drying soft magnetic powder and a solution of a thermosetting silicone resin while bringing them into contact with each other, and setting the drying temperature of the second coating layer formation process lower than that of the first coating layer formation process.例文帳に追加

本発明の磁心用粉末は、軟磁性粉末と加熱硬化型のシリコーン樹脂の溶液とを接触させて乾燥させる第1被覆層形成工程と第2被覆層形成工程を行い、第2被覆層形成工程の乾燥温度を第1被覆層形成工程の乾燥温度よりも低くして製造したことを特徴とする。 - 特許庁

The heat treatment step consists of a first process for carburizing treatment or carburizing and quenching treatment, a second process for depositing fine globular carbides in a carburized layer with quenching treatment, and a third process for high concentration carburizing and quenching treatment to make the carbon concentration in a surface portion higher than the carbon concentration in the surface portion obtained in the first process.例文帳に追加

熱処理工程は、浸炭処理または浸炭焼入れ処理を施す第1工程と、焼入れ処理を施して浸炭層に微細球状炭化物を析出させる第2工程と、表面部の炭素濃度が上記第1工程で得られた表面部の炭素濃度よりも高濃度になるように高濃度浸炭焼入れ処理を施す第3工程とよりなる。 - 特許庁

A process for vibrating ink flow rate near the nozzle by applying a driving waveform to a driving element has a first positive-direction vibration process for contracting a pressure chamber and discharging the front end of a liquid droplet from the nozzle and a second positive-direction vibration process for adjusting the speed of the rear end of the liquid droplet discharged in the first positive-direction vibration process.例文帳に追加

駆動素子に駆動波形を印加することでノズル近傍のインク流速を振動させる工程は、圧力室を収縮させてノズルから液滴の先端部を吐出させる第1の正方向振動工程と、第1正方向振動工程により吐出した液滴の後端部の速度を調整するための第2正方向振動工程とを有する。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 comprises a first process liquid supply unit 6 which supplies a first process liquid onto the surface of a substrate W having a metal layer formed of a transition metal, and a second process liquid supply unit 7 which supplies a second process liquid, containing molecules having the adsorption characteristics for a transition metal, onto the surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置1は、遷移金属により形成された金属層を有する基板Wの表面に第1の処理液を供給する第1の処理液供給装置6と、基板Wの表面に遷移金属に対して吸着特性を有する分子を含む第2の処理液を供給する第2の処理液供給装置7とを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device comprises a process for forming a first SiO_2 film on a silicon substrate 1, a process for forming a high-permittivity insulating film containing a transition metal on the first SiO_2 film, a process for forming a second SiO_2 film on the high-permittivity insulating film, and a process for forming a gate electrode on the second SiO_2 film.例文帳に追加

シリコン基板1の上に第1のSiO_2膜を形成する工程と、この第1のSiO_2膜の上に、遷移金属を含む高誘電率絶縁膜を形成する工程と、この高誘電率絶縁膜の上に第2のSiO_2膜を形成する工程と、この第2のSiO_2膜の上にゲート電極を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The deposition process of the highly oriented diamond film comprises a highly oriented diamond film synthesizing process including at least two stage (001) plane selective deposition conditions, and the film deposition speed in a first stage diamond film 4 synthesizing process is ≤1/10 of the film deposition speed in the second stage diamond film 5 synthesizing process, performed after the first stage.例文帳に追加

この高配向性ダイヤモンド膜の形成工程は、少なくとも2段階の(001)面選択成長条件による高配向性ダイヤモンド膜合成工程を有し、第1段階のダイヤモンド膜4の合成工程の成膜速度が、それ以降に行われる第2段階のダイヤモンド膜5の合成工程の成膜速度の10分の1以下である。 - 特許庁

The paper carrying part includes a first route 91 for guiding paper as a processing target of a first printing process to the printing part 89 during duplex printing processing and a second route 92 for guiding paper as a processing target of a second printing process after the first printing process is applied to the printing part 89 during duplex printing processing.例文帳に追加

前記用紙搬送部は、両面印刷処理時において1回目の印刷処理の処理対象となる用紙を前記印刷部へ案内する第1経路91と、両面印刷処理時において1回目の印刷処理が施された後且つ2回目の印刷処理の処理対象となる用紙を前記印刷部へ案内する第2経路92とを含む。 - 特許庁

A power supply process of supplying A.C. power across the first electrode and the second electrode is provided, and the power supply process includes (A) a process of setting smaller the electric energy in the second state where the second electrode operates as the anode than that in the first state where the first electrode operates as the anode.例文帳に追加

第1電極と前記第2電極との間に交流電力を供給する電力供給工程を備え、前記電力供給工程は、(A)前記第1電極が陽極として動作する第1状態での電力量と比べて、前記第2電極が陽極として動作する第2状態での電力量を小さくする工程を含む。 - 特許庁

An image process circuits 7-5 performs a subtraction process between the first signal and second signal output with the first frame and a subtraction process between the first signal and second signal output with the second frame, and makes correction for reducing a noise component due to the dark current variance of the charge holding unit using at least one of results of those subtraction processes.例文帳に追加

画像処理回路7-5は、第1のフレームで出力された第1の信号と第2の信号との減算処理を行い、第2のフレームで出力された第1の信号と第2の信号との減算処理を行い、これらの減算処理の結果の少なくとも一方を用いて、電荷保持部の暗電流バラツキに起因するノイズ成分を低減する補正を行う。 - 特許庁

When the normal symbol variation process started in the special game state continues and there is no unconsumed first special start storage data in connection with the consumption of the first special start storage data in the probability variable game state, a special symbol generation process in accordance with the consumed first special start storage data is executed according to extended process time.例文帳に追加

特別遊技状態で開始した普通図柄変動行程が継続し、かつ当該確変遊技状態で第一特別始動記憶データの消化に伴って未消化の第一特別始動記憶データが無くなると、当該消化した第一特別始動記憶データによる特別図柄生成行程を延長行程時間に従って実行するようにしたものである。 - 特許庁

The method includes: a process for generating first index information part based on a first standard including management information of the animation data; a process for generating animation data index part constituted of animation data and the first index information part; a process for generating an animation format file constituted of one or a plurality of animation data index parts.例文帳に追加

動画像データの管理情報を含む第1の規格に準拠した第1インデックス情報部を生成する工程と、動画像データと第1インデックス情報部から構成される動画像データインデックス部を生成する工程と、1つ又は複数の動画像データインデックス部から構成される動画像フォーマットファイルを生成する工程を備える。 - 特許庁

The method comprises a first heat treatment process of heating while flowing raw material substances of a mixture of a lithium compound and a cobalt compound at a specified temperature for a specified time; and a second heat treatment process of heating the heat treated matter given at the above first heat treatment process for a specified time and at a temperature higher than that of the first heat treatment.例文帳に追加

第1の熱処理工程が、原料物質であるリチウム化合物とコバルト化合物との混合物を流動させながら所定温度で所定時間加熱するものであり、第2の熱処理工程が、前記第1の熱処理工程で得られた熱処理物を第1の熱処理温度よりも高い温度で所定時間加熱するものである。 - 特許庁

This method for producing lenses by pressing optical materials between a first mold and a second mold comprises an electricity removing process for removing static electricity from the optical materials, a placing process for placing the optical materials from which static electricity is removed between the first and the second molds and a pressing process for pressing the placed optical materials between the first and the second molds.例文帳に追加

光学素材を第1の型と第2の型との間で押圧することによりレンズを製造するレンズの製造方法において、光学素材を除電する除電工程と、除電された光学素材を第1の型と第2の型との間に載置する載置工程と、載置された光学素材を第1の型と第2の型との間で押圧する押圧工程と、を含む。 - 特許庁

This manufacturing method includes a process arranging a first carbon film 15a between a pair of conductive films 14 arranged on a substrate 11, a process removing a part of the first carbon film 15a, and a process arranging a second carbon film 15b on the first carbon film 15a while applying voltage on an opposite electrode opposing the substrate 11.例文帳に追加

基板11上に配置された一対の導電性膜14間に、第1のカーボン膜15aを配置する工程と、第1のカーボン膜15aの一部を除去する工程と、基板11に対向して設けられた対向電極に電圧を印加しながら、第1のカーボン膜15a上に、第2のカーボン膜15bを配置する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

This method is a hydrogenation-treating method for the gas oil and comprises a first desulfurization process of the gas oil performed in a first contacting zone containing a desulfurization catalyst, a removal process for removing at least a part of hydrogen sulfide generated at the completion of the first process and one or plural desulfurization processes performed in one or plural contacting zones containing the desulfurization catalyst.例文帳に追加

・脱硫触媒を含む第1接触帯域で行われるガスオイルの第1脱硫工程と、・第1工程の終了時に生成された硫化水素の少なくとも一部の除去と、・脱硫触媒を含む1つまたは複数の接触帯域で行われる1つまたは複数の脱硫工程とを含むガスオイルの水素化処理方法である。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for a freezing process that meets the requirement that (1) the line width of a first resist pattern does not fluctuate and (2) the line edge roughness (LER) of the first resist pattern does not deteriorate, by a freezing process in a freezing process that is applied to the first resist pattern in a double patterning method, and a pattern forming method using it.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理によって、(1)第一のレジストパターンの線幅が変動しない、(2)第一のレジストパターンのラインエッジラフネス(LER)が悪化しない、という要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

例文

This compound powder is obtained by once or more repeating a compounding treatment process which has (1) the first process for the adsorption or application of an ester oil-based agent and the second powder to the surface of the first powder and (2) the second process for a coating treatment using an N-acylated lysine as one repeating unit, on the first powder.例文帳に追加

第一の粉体に対し、 エステル油系剤と第二の粉体とを第一の粉体の表面に吸着又は被覆させる第1の工程と、 N−アシル化リジンによる被覆処理を施す第2の工程とを一つの繰り返し単位としてなる複合化処理工程を1回又は2回以上繰り返すことにより得られる複合化粉体。 - 特許庁




  
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