「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method for forming a pattern, a process of preliminarily forming an alignment marker is included in the process of forming a first thick film, and then the alignment marker is referred to, in the process of exposing a second thick film.例文帳に追加

第１厚膜形成工程において、あらかじめアライメントマーカーを形成する工程を有し、第２厚膜の露光工程において、前記アライメントマーカーを参照することを特徴とするパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To shorten the term of joint treatment work by carrying out surface preparation for plates butted in the first process, filling putty into a V-cut in the second process, and pasting a nonwoven fabric sheet plate with many holes in the third process.例文帳に追加

目地処理用のファイバーテープがメッシュ状で、また厚いので、下付けパテを塗布した後更に上付けパテを２，３回塗布しなければパテの表面が周囲と段差無くなじんだ状態とならず、工期が長時間かかる。 - 特許庁

The head abnormality detecting method used for the ink-jet head 11 to jet out liquid drops through nozzles 21 by driving supports 28 as piezoelectric elements includes a first process, a second process and a third process.例文帳に追加

圧電素子である支柱２８の駆動によりノズル２１から液滴を吐出するインクジェットヘッド１１に用いられるヘッド異常検出方法は、第１の工程、第２の工程、および第３の工程を具備する。 - 特許庁

The mask process means cancels the mask process for a second region where the second subject is imaged out of the first region while maintaining the mask process for the region other than the second region and produces an output video.例文帳に追加

マスク処理手段は、第１の領域のうち、第２の被写体が写っている第２の領域でのマスク処理を解除し、該第２の領域以外の領域でのマスク処理を維持した出力映像を生成する。 - 特許庁

When performing message transmission from a transmission thread 724 of a process B at a node B to a process A at a node A, first of all, the transmission thread 724 transmits a message to a socket descriptor 704 of default in the process A.例文帳に追加

ノードＢのプロセスＢの送信スレッド７２４から、ノードＡのプロセスＡに対してメッセージ送信を行う場合には、送信スレッド７２４は、まず、プロセスＡのデフォルトのソケット記述子７０４に対してメッセージを送信する。 - 特許庁

A first data structure query is performed to obtain an alarm state for a process plant alarm based on a process plant operating state and configuring handling of the process plant alarm based on the obtained alarm state.例文帳に追加

プロセス工場作動状態に基づきプロセス工場アラームのアラーム状態を取得するために第1のデータ構造クエリーを実行し、取得されたアラーム状態に基づいてプロセス工場アラームへの対処を構成する。 - 特許庁

A process stored on a disk controller of the interface chip receives an encryption key from the process stored on the first partition of the SATA storage device, and the process stored on the disk controller uses the encryption key to decrypt the other partitions.例文帳に追加

インターフェースチップのディスクコントローラに格納されたプロセスは、ＳＡＴＡ記憶装置の第１のパーティションに格納されたプロセスから暗号化キーを受信し、暗号化キーを使用して、他のパーティションを暗号化解除する。 - 特許庁

A process where a the film-like board 2A is joined to a strip-like support member 8 may be provided before the first process or the second process.例文帳に追加

また、フィルム状基板２Ａに補強部２５を形成する工程あるいは半導体チップ３をボンディングする工程の以前に、短冊状とされた支持部材８にフィルム状基板２Ａを接合する工程を含んでいてもよい。 - 特許庁

Thus, the first and the second controller determine optimum process parameters for a semiconductor wafer based on the inputted wafer information, and a lithography process is executed under the optimum conditions based on the process parameters.例文帳に追加

これにより、第１及び第２コントローラが入力されるウェーハ情報に従って半導体ウェーハに最適な工程パラメータを決定し、その工程パラメータに従ってリソグラフィー工程が最適な条件で遂行できる。 - 特許庁

The first code synchronous process and a second code synchronous process of the spread code are performed separately, and the synchronous process of the second code is effected employing a plurality of partial bit strings which can specify the bit position of the second code.例文帳に追加

拡散コードを第１コードの同期処理と、第２コードの同期処理を分離処理し、第２コードの同期処理は第２コードのビット位置が特定できる複数の部分ビット列を用いて行なうことを特徴とする。 - 特許庁

The padding welding process includes a temper bead multi-layered padding welding process to the first member 1, and thickness of a padding layer based the temper bead multi-layered padding welding process is thinner at a lower layer section rather than that of an upper layer section.例文帳に追加

肉盛溶接工程は、第１の部材１へのテンパービード多層肉盛溶接工程を含み、当該テンパービード多層肉盛溶接工程による肉盛積層の厚さが、上層部よりも下層部で薄い。 - 特許庁

In a wastewater treatment method, wastewater containing ammonia and hydrogen peroxide is successively passed through a process (first process) for diffusing ammonia from the wastewater and a process (second process) for decomposing hydrogen peroxide in wastewater.例文帳に追加

本発明は、アンモニアおよび過酸化水素を含有する排水を処理するに際して、該排水からアンモニアを放散させる工程（第一工程）を経た後、次いで液中の過酸化水素を分解する工程（第二工程）と経ることを特徴とする排水の処理方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method of the optical waveguide member, the optical waveguide member is manufactured, in order, through the first process of forming the underclad, the second process of mediating the end face wall 7, the third process of forming the optical waveguides 2, and the fourth process of forming an overclad.例文帳に追加

光導波路部材の製造方法は、アンダークラッドを成形する第一工程と、端面壁７を介在させる第二工程と、光導波路２を成形する第三工程と、オーバークラッドを成形する第四工程と、を順に経て製造することを特徴とする。 - 特許庁

The method has a first filtering process of filtering a binder solution prepared by dissolving an organic binder in an organic solvent and a second filtering process wherein the binder solution passed through the first filtering process is then mixed in a mixed solution of ceramic powder and the organic solvent and filtered.例文帳に追加

有機バインダを有機溶媒中に溶解させたバインダ溶液をフィルタを用いてろ過し（第１のろ過工程）、その後、第１のろ過工程を経たバインダ溶液をセラミック粉末と有機溶媒とを混合させた溶液に混合させ、フィルタを用いてろ過する（第２のろ過工程）。 - 特許庁

The method for manufacturing the dielectric material comprises a first process for heating amorphous fine-particle powder in air at the temperature of ≥230°C and <530°C to obtain an intermediate product; and a second process of heating the intermediate product obtained in the first process under reduced pressure at 700-1,000°C.例文帳に追加

下記の無定形微粒子粉末を空気中２３０℃以上５３０℃未満で加熱して中間生成物を得る第１の工程と、第１の工程で得られた中間生成物を、減圧下７００℃以上１０００℃以下で加熱する第２の工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The coating method includes a first process for coating the surface of a concrete structure 10 with an adhesive 100 superior in heat resistance, and a second process for spraying a heat-melted modified sulfur onto the surface of the concrete structure and solidifying the sulfur before the adhesive 100 applied in the first process hardens.例文帳に追加

コンクリート構造物１０の表面に、耐熱性に優れた接着剤１００を塗布する第１工程と、該第１工程で塗布した接着剤１００が硬化する前に、その表面に加熱溶融した改質硫黄を吹き付けて固化させる第２工程と、を有する。 - 特許庁

The production method for the silicon carbide sintered compact 50 includes the first process of slurrying a silicon carbide powder 10 having ≥0.5 and ≤1.5 μm average particle diameter with a dispersant 30; and the second process of obtaining the sintered compact 50 by sintering the slurry 40 prepared by the first process.例文帳に追加

炭化ケイ素焼結体５０の製造方法は、平均粒径が０．５μｍ以上１．５μｍ以下である炭化ケイ素粉１０及び分散剤３０をスラリー化する第１工程と、第１工程によって得られたスラリー４０を焼結し、焼結体５０を得る第２工程とからなっている。 - 特許庁

This method for producing a coated bioactive granule comprises successively repeating twice or more a first process for coating the surface of a particle containing a bioactive substance with a coating material and a second process for removing a volatile substance from the particle containing the bioactive substance coated with the coating material by the first process.例文帳に追加

生物活性物質を含有する粒子の表面に被膜材料を被覆する第１工程と、該第１工程によって被膜材料を被覆された生物活性物質を含有する粒子から揮発性物質を除去する第２工程とを順次２回以上繰り返す。 - 特許庁

To efficiently regenerate a NOx storage catalyst by regulating exhaust gas so that it includes more NOx in the first process than in the second process while includes a reducing agent in the second process and carrying out a switch between the first and the second processes according to a NOx signal.例文帳に追加

貯蔵触媒をそれぞれ完全に充填しかつ完全に放出し同時に好ましくないＨＣエミッションおよびＣＯエミッションを低減することによりＮＯｘ触媒能力を最適に利用するという理想に近いＮＯｘセンサによる貯蔵触媒の再生制御を提供する。 - 特許庁

In the first cooling process, the ring is cooled to a first cooling temperature of the M_S point or lower, and in the restraining process, the ring is restrained with a restraining member 30 and in the second cooling process, the ring is cooled while restraining, to a second cooling temperature of lower than the restraining starting temperature.例文帳に追加

第１冷却工程では、軸受軌道輪１０が、Ｍ_Ｓ点以下の第１冷却温度まで冷却され、拘束工程では、拘束部材３０により拘束され、第２冷却工程では、拘束開始温度よりも低い第２冷却温度まで、拘束されつつ冷却される。 - 特許庁

The method for manufacturing includes a first ultraviolet irradiation process of irradiating the liquid crystal layer with ultraviolet rays in a wavelength region not including an infrared region and a second ultraviolet irradiation process of irradiating the liquid crystal layer with ultraviolet rays in a wavelength region wider than that in the first ultraviolet irradiation process.例文帳に追加

赤外線領域を含まない波長領域の紫外線を照射する第１紫外線照射工程と、第１紫外線照射工程で照射される紫外線より波長領域の広い紫外線を照射する第２紫外線照射工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

Provided is the method for producing the dialcohol represented by formula (1), characterized by having a first process of reacting a Grignard reagent with acetylene gas in an organic solvent at ≥30°C to obtain an ethynyl magnesium halide, and a second process of reacting the ethynyl magnesium halide obtained in the first process with methacrolein.例文帳に追加

有機溶媒中、グリニア試薬とアセチレンガスを３０℃以上で反応させてエチニルマグネシウムハライドを得る第１工程、及び 第１工程で得られたエチニルマグネシウムハライドにメタクロレインを反応させる第２工程を有することを特徴とする式（１）で示されるジアルコールの製造方法。 - 特許庁

In the tenter 64, a first drying process of drying with dry wind from a fan duct while both side ends of the film are held with a pin and expanded in a width direction, and a second drying process of drying the film 62 while giving a tension in a width direction after the first drying process are practiced.例文帳に追加

テンタ６４では、フィルムの両側端部をピンで保持して幅方向に拡げながら、送風ダクトからの乾燥風で乾燥する第１乾燥工程と、この第１乾燥工程の後に、フィルム６２を幅方向に張力付与しながら乾燥する第２乾燥工程とを実施する。 - 特許庁

The melting point of a portion which is in contact with the first metal layer in the second metal layer 14 is higher than a heating temperature in the alloying process and the portion is composed of metal which does not react with the first metal layer under an environment under which the second metal layer forming process and the alloying process are carried out.例文帳に追加

第２金属層１４において第１金属層と接触する部分は、合金化工程での加熱温度より融点が高く、かつ第２金属層形成工程と合金化工程とを実施する環境下で第１金属層と反応しない金属からなる。 - 特許庁

Then, when the second material arrangement process S5 is performed, the second material arrangement process S5 is performed while the specific amount of liquid constituent remains in the first liquid material L1 (W1) arranged on the substrate 11 by the first material arrangement process S1.例文帳に追加

そして、第２材料配置工程Ｓ５を行うに際し、第１材料配置工程Ｓ１により基板１１上に配置されている第１の液体材料Ｌ１（Ｗ１）に含まれる液体成分を所定量残存させた状態で第２材料配置工程Ｓ５を行う。 - 特許庁

The method of manufacturing semiconductor wafer includes a first injection process for forming a silicon crystal by a floating zone method and injecting N type impurity of prescribed concentration, and a second injection process for performing neutron irradiation and injecting phosphorus in a prescribed concentration onto the silicon crystal after the first injection process.例文帳に追加

フローティングゾーン法によりシリコン結晶を形成し、所定濃度のＮ型不純物を注入する第１の注入工程と、第１の注入工程の後、シリコン結晶に中性子照射を行い、所定濃度のリンを注入する第２の注入工程を備える。 - 特許庁

The inspection method comprises a first process B for performing many kinds of qualitative analyses for specifying the type of agricultural chemical residing in the object to be inspected; and a second process C for performing the qualitative analysis of the amount of residue in the agricultural chemical only for the specified type of agricultural chemical after the first process B.例文帳に追加

検査対象物に残留する農薬の種類を特定する多種類の定性分析を行って、残留する農薬の種類を特定する第１工程Ｂと、その後、その特定された種類の農薬のみについて農薬残留量を定量分析する第２工程Ｃとを、有する。 - 特許庁

When an underfill resin 6b for a second process is heated and cured, the thermal expansion of the same is made larger than the thermal expansion of a first process underfill resin 6a, while contraction upon reducing the temperature and returning to a normal condition, after curing is effected so as to be larger than the contraction of the underfill resin for the first process.例文帳に追加

第２の工程のアンダーフィル樹脂６ｂを加熱硬化するときに、第１の工程のアンダーフィル樹脂６ａの熱膨張より大きく熱膨張させ、硬化後の常温状態に戻る降温復帰時の収縮を第１の工程のアンダーフィル樹脂の収縮より大きくする。 - 特許庁

Microlenses on imaging device are formed by a first process of forming microlenses on light-receiving sections selected in the shape of a checkered pattern from a plurality of light-receiving sections, and a second process of forming microlenses on the light-receiving sections which have not been selected in the first process.例文帳に追加

固体撮像素子上のマイクロレンズを、複数の受光部の中から市松状に選択された受光部上にマイクロレンズを形成する第一工程、前記第一工程において選択されなかった受光部上にマイクロレンズを形成する第二工程により形成する。 - 特許庁

The method of forming the fine line comprises: a first process of forming a fine line 4 having such a shape that the cross-section shape has a recessed part on the central part by discharging the droplets onto a substrate; and a second process of forming a fine line 5 by discharging the droplets into the recessed part of the fine line formed on the first process.例文帳に追加

基板上に液滴を吐出することにより断面形状が中央部に凹部を有する形状の微細ライン４を形成する第１工程と、第１工程で形成した微細ラインの凹部に液滴を吐出して微細ライン５を形成する第２工程とを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the decorative molded article consists of a first process for laminating a decorative sheet on a base material through a first adhesive, a second process for laminating a transparent film on the decorative sheet through a second adhesive and a third process for laminating a transparent protective layer on the transparent film.例文帳に追加

基材上に第１接着剤を介して装飾シートを積層する第１工程、装飾シート上に第２接着剤を介して透明フィルムを積層する第２工程及び透明フィルム上に透明な保護層を積層する第３工程を具備する化粧成形品の製造法 - 特許庁

The method comprises a process of piling a first quantity of a flexible elastic material on at least part of the member 10, a process of setting a filler material on the first quantity of the flexible elastic material, and a process of piling a second quantity of the flexible elastic material on the filler material.例文帳に追加

部材１０の少なくとも一部に第１量の可撓性弾性材料を堆積させる工程と、第１量の可撓性弾性材料上にフィラー材料を設置する工程と、フィラー材料上へ第２量の可撓性弾性材料を堆積させる工程を含む。 - 特許庁

To provide a coating and developing device which calculates a first time period (PCD time period), etc. from completion of the coating process of a resist by a coating unit to start of a heating process by a first heating unit in a subsequent process, without processing a substrate actually, and can predict variations of a circuit line width, etc.例文帳に追加

実際に塗布、現像装置にて基板を処理することなく、塗布ユニットでのレジストの塗布処理が終了してから次工程の第１の加熱ユニットにて加熱処理が開始されるまでの第１の時間（ＰＣＤ時間）時間等を演算して、回路線幅等のバラツキを予測すること。 - 特許庁

The method of treating the hydrogen storage alloy powder for the alkaline storage battery comprises a first process stirring the hydrogen storage alloy powder in aqueous solution of potassium hydroxide, and a second process stirring the hydrogen storage alloy powder treated at the first process in aqueous solution of sodium hydroxide.例文帳に追加

アルカリ蓄電池用の水素吸蔵合金粉末の処理方法であって、水素吸蔵合金粉末を水酸化カリウム水溶液中で攪拌する第１の工程と、第１の工程を経た水素吸蔵合金粉末を水酸化ナトリウム水溶液中で攪拌する第２の工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The method is composed of a first process for plasma-etching a member to be etched 17, which is arranged in the reaction chamber 11, by using SiCl_4 or BCl_3 and a second process for introducing a plasma of gas, comprising oxygen into the reaction chamber 11, after the first process.例文帳に追加

反応室１１内に配置された被エッチング部材１７に対し、ＳｉＣｌ_４ またはＢＣｌ_３ を用いてプラズマエッチング処理する第１工程と、この第１工程の後、反応室１１内に、少なくとも酸素を含むガスのプラズマを導入する第２工程とからなっている。 - 特許庁

The process for automatically deleting includes: (i) performing a process for deleting the predetermined data if there is no access to the predetermined data for over a first predetermined period of time; or (ii) canceling the process for deleting the predetermined data if there has been access within the first predetermined period of time.例文帳に追加

ここで、自動消去処理とは、(i)所定のデータに対して、第一の所定時間を超えてアクセスが無い場合には、所定のデータの消去処理を実施し、(ii)第一の所定時間以内にアクセスがある場合には、所定のデータの消去処理は実施しない処理である。 - 特許庁

A semiconductor manufacturing method comprises at least a first process of holding a substrate W of a wafer-like semiconductor, in a warped state, on which a resin layer R1 is disposed on one surface Wa in such a manner that the whole region of the surface Wa is spherically swollen and a second process of curing the resin layer R1 after performing the first process.例文帳に追加

一面Ｗａに樹脂層Ｒ１が配された、ウエハ状の半導体からなる基板Ｗを、一面Ｗａの全域が球面状に膨出するように、反らせて保持する第一工程と、前記第一工程の後に、樹脂層Ｒ１を硬化させる第二工程と、を少なくとも有する。 - 特許庁

The GaN layer 12 is formed in a first film forming process in which GaN is epitaxial-grown at 300°C or lower, and a second film forming process in which the GaN is epitaxial-grown at 550°C or higher upon the GaN formed in the first film forming process.例文帳に追加

ＧａＮ層１２は、３００℃以下の温度でＧａＮをエピタキシャル成長させる第１の成膜工程と、上記第１の成膜工程により成膜されたＧａＮ上に、５５０℃以上の温度でＧａＮをエピタキシャル成長させる第２の成膜工程とにより成膜される。 - 特許庁

The method of manufacturing the build-up substrate includes: a surface processing process S1 as a process of forming a wiring pattern of a first layer; a catalyst pattern forming process S2 of forming a catalyst pattern with an ink jet; a baking process S3 for the catalyst pattern; and an electroless copper plating process S4 of forming the wiring pattern.例文帳に追加

ビルドアップ基板の製造工程は、１層目の配線パターンを形成する工程として、表面処理工程Ｓ１と、インクジェットで触媒パターンを形成する触媒パターン形成工程Ｓ２と、触媒パターンの焼成工程Ｓ３と、配線パターンを形成する無電解銅めっき工程Ｓ４とを備えている。 - 特許庁

The loach product is obtained by the method for producing a loach product comprising a first process of grinding loaches to be formed into paste, a second process of heating the paste and stirring the heated paste in a high-temperature atmosphere, and a third process of stirring the paste in a low-temperature atmosphere lower than that of the second process after treated in the second process.例文帳に追加

泥鰌を、すり身化してすり身を得る第１工程と、前記すり身を加熱して高温度雰囲気下で攪拌する第２工程と、第２工程の処理後、第２工程の高温度雰囲気よりも低い低温度雰囲気下で攪拌する第３工程とを含む製造方法により、泥鰌製品を得る。 - 特許庁

A multiple-exposure lithographic process in which a developed resist pattern derived from a first exposure is present within a second resist layer that is exposed in a second exposure of the multiple-exposure lithographic process.例文帳に追加

第１の露光から得られる現像レジストパターンがマルチ露光リソグラフィ工程の第２の露光で露光される第２のレジスト層内に存在するマルチ露光リソグラフィ工程。 - 特許庁

In the filler forming process of a lamination process, the conductive spacer 82 of the first element is made to be abutted on or adjacently opposed to the carbon paste layer of the second element from the bottom.例文帳に追加

積層工程の充填材形成工程では、１枚目の素子の導電性スペーサ８２を下から２枚目の素子のカーボンペースト層に当接又は近接対向させる。 - 特許庁

To provide an improved method for adapting a first printing process based on color values [C1, M1, Y1, K1] to a second printing process based on color values [C2, M2, Y2, K2].例文帳に追加

色値［Ｃ１，Ｍ１，Ｙ１，Ｋ１］による第１の印刷プロセスを色値［Ｃ２，Ｍ２，Ｙ２，Ｋ２］による第２の印刷プロセスに印刷プロセス適合するための改善された方法を提供することである。 - 特許庁

The method has a first process of polishing the surface to be coated and a second process of forming a repair coating film containing information nucleic acids with a solvent to form a repair coating film.例文帳に追加

被塗装面を研ぐ工程と塗膜を形成する工程とを行い、該塗装工程では溶媒を用いて情報化核酸を含有して補修塗膜を形成する。 - 特許庁

A second thermal process is carried out at a temperature lower than the first thermal process for a short period to cause the source/drain diffusion layer 131 to be activated.例文帳に追加

そして第１の熱処理工程よりも低い温度或いは短い時間で第２の熱処理工程を行い浅いソース−ドレイン拡散層１３１を活性化させる。 - 特許庁