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FIRST PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5621件
A first process includes a step of exposing a first resist film 4 to transfer a pattern corresponding to a main aperture 5 and an auxiliary aperture 6 and developing to form a first resist pattern 4a.例文帳に追加
第1工程が、第1のレジスト膜4に、主開口部5及び補助開口部6に対応するパターンを露光し、現像して第1のレジストパターン4aを形成する工程を有する。 - 特許庁
The deposition method has a process step of chemically adsorbing at least a first layer of the one single-layer film thickness on the substrate by bringing the substrate into contact with the first precursor at the first temperature.例文帳に追加
堆積方法は、第1温度において、基板を第1前駆体に接触させ、前記基板上に少なくとも1単層膜厚の第1層を化学吸着する工程を有する。 - 特許庁
The stretching process includes a first stretching step to be put into practice at a first temperature and a first stretching rate and a second stretching step to be put into practice at a second temperature and a second stretching rate.例文帳に追加
延伸工程には、第1温度および第1延伸速度で実施される第1延伸ステップと、第2温度および第2延伸速度で実施される第2延伸ステップとが含まれる。 - 特許庁
The auxiliary suction path 70 branching off of a suction side of a first fluid chamber 52 and connecting to a suction/expansion process position of the first fluid chamber 52 is formed in a first expansion mechanism 41.例文帳に追加
第1膨張機構(41)の内部には、第1流体室(52)の吸入側から分岐して第1流体室(52)の吸入/膨張過程位置と繋がる補助吸入路(70)が形成される。 - 特許庁
The first database stores the first data describing the first configuration of the process and the second database stores the second data describing the second configuration thereof.例文帳に追加
第1のデータベースは、プロセスの第1のコンフィギュレーションを表わす第1のデータを格納する一方、第2のデータベースは、プロセスの第2のコンフィギュレーションを表わす第2のデータを格納する。 - 特許庁
This method comprises a process of etching a substrate with a first plasma formed using a first gas mixture including a bromo-contained gas, an oxygen-contained gas, and a first fluorine-contained gas.例文帳に追加
臭素含有ガスと,酸素含有ガスと,第1のフッ素含有ガスとを含む第1の気体混合物を用いて形成される第1のプラズマで、基板をエッチングする工程を含む。 - 特許庁
In this method for manufacturing the compressor, first inner components 23, 824 including first welding parts 23b, 824w at outer circumferences are prepared in a first inner component preparation process.例文帳に追加
本発明に係る圧縮機の製造方法において、第1内部部品準備工程では、外周に第1溶接部23b,824wを有する第1内部部品23,824が準備される。 - 特許庁
The optical wiring layer is manufactured by the method including a process step of forming the first clad layer and the core layer on at a base, a process step of relieving the internal stress in the first clad layer and the core layer, a process step of forming the core patterns by using dry etching and a process step of forming the second clad having the core patterns.例文帳に追加
少なくとも、支持体上に第1クラッド層及びコア層を形成する工程と、第1クラッド層及びコア層の内部応力を緩和させる工程と、ドライエッチングを用いてコアパターンを形成する工程と、コアパターンを覆う第2クラッドを形成する工程と、を具備することにより光配線層を製造する。 - 特許庁
A brightness enhancement process part 12 applies a brightness enhancement process to the first component, and a contour enhancement process part 13 applies a contour enhancement process to the second and fifth components, followed by an adder 14 synthesizing the first, second and fifth components to output the resultant output facial image information.例文帳に追加
そして、第1の成分に対して輝度強調処理部12にて輝度強調処理を施すと共に、第2及び第5の成分に対して輪郭強調処理部13にて輪郭強調処理を施した後、これら第1、第2及び第5の成分を加算器14にて合成して出力顔画像情報の出力を行う。 - 特許庁
This dishwasher is provided with a heat exchanging means that exchanges heat between the draining process and the water supplying process by synchronizing the draining process of a first dishwasher 10 or a second dishwasher 102 and the water supplying process to the second dishwasher 102 or the first dishwasher 101.例文帳に追加
第1の食器洗い機101あるいは第2の食器洗い機102の排水工程と、前記第2の食器洗い機102あるいは前記第1の食器洗い機101への給水工程とを同期させて、前記排水工程と前記給水工程との間で熱交換を行う熱交換手段を設けた。 - 特許庁
A method of manufacturing continuous coils includes a tube insertion process, a first winding process for inserting the wire 17 between the pair of sidewalls 81, 82 in an approach state for prohibiting the passage of the tube 19 to obtain a first coil 16aa, a tube covering process for covering the wire 17 with the tube 19, and a second wiring process.例文帳に追加
その製造方法は、チューブ嵌入工程と、チューブ19の通過を禁止する接近状態にある一対の側壁81,82の間に線材17を挿通させて第1コイル16aaを得る第1巻線工程と、線材17をチューブ19により被覆するチューブ被覆工程と、第2巻線工程とを含む。 - 特許庁
In the process for producing a rare earth quench magnet alloy, first quenching process for quenching a molten rare earth alloy 1 is carried out, and then second quenching process for making an alloy 5 having a temperature lowered through first quenching process touch a cooling medium, and thus quenching the alloy 5 furthermore is carried out.例文帳に追加
本発明による希土類急冷磁石合金の製造方法は、希土類合金の溶湯1を急冷する第1急冷工程を行なった後、この第1急冷工程によって温度の低下が始まった合金5を冷却媒体に接触させ、それによって合金5を更に急冷する第2急冷工程を行なう。 - 特許庁
The method includes the packing process for packing a thermoplastic resin in a mold cavity of an injection molding machine with a maximum injection pressure of P, the first pressure holding process in which the packing of the thermoplastic resin is stopped substantially, and pressure is held, and the second pressure holding process in which the thermoplastic resin after the passage of the first pressure holding process is pressurized, and pressure is held.例文帳に追加
熱可塑性樹脂を、最大射出圧力がPである射出成形機の金型キャビティに充填する充填工程と、前記熱可塑性樹脂の充填を実質的に停止して、保持する第一保圧工程と、この第一保圧工程を経た前記熱可塑性樹脂を加圧して保持する第二保圧工程と、を有する。 - 特許庁
A print management system includes first print means of performing a print process, bookbinding means of performing a bookbinding process, second print means of performing the print process and the bookbinding process as a series of processes, and print management means communicably connected to first and second printers.例文帳に追加
印刷管理システムは、印刷処理を実行する第1の印刷手段と、製本処理を実行する製本手段と、印刷処理と製本処理とを一連の処理として実行する第2の印刷手段と、第1及び第2の印刷装置に通信可能に接続された印刷管理手段と、を備えている。 - 特許庁
Then the first CMP process is performed, and with the polysilicon film 6 after the first CMP process as a mask, etching process is performed for the silicon oxide film 5, and the silicon oxide film 5 which lies in the region over the projecting part region removed, and then a second CMP process is further performed to cause the top of a semiconductor substrate 1 to be flattened.例文帳に追加
その後、第1のCMP処理を行い、第1のCMP処理後のポリシリコン膜6をマスクとしてシリコン酸化膜5に対するエッチング処理を実行して、凸部領域の上部領域のシリコン酸化膜5を除去した後、さらに第2のCMP処理を行って半導体基板1上を平坦化させる。 - 特許庁
The cooling process includes a first cooling process for allowing the cooling chamber 2 to communicate with the suction means 4 and the chamber 5, and a second cooling process for interrupting the chamber 5 from the cooling chamber 2 and the suction means 4 after the first cooling process.例文帳に追加
また、冷却工程が、前記冷却室2を前記真空吸引手段4および前記蓄負圧室5と連通する第一冷却工程と、この第一冷却工程後に前記蓄負圧室5を前記冷却室2および前記真空吸引手段4に対して遮断する第二冷却工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
Such a process is divided into a first field and a second field for outputting as signals for interlaced scanning.例文帳に追加
この処理を第1フィールドと第2フィールドとに分けて、インターレススキャン用の信号として出力する。 - 特許庁
Next the communication with the set first process cartridge is started, and the transmission and reception of the data are performed (S3).例文帳に追加
次に設定した第1番目のプロセスカートリッジと通信を開始しデータの送受信を行う(S3)。 - 特許庁
By this process, the protein of a surface layer is hardened first in the foodstuff and then the temperature of the inside rises.例文帳に追加
これにより、食品では、まず、表面層のタンパク質を硬化されてから、内部の温度が上昇する。 - 特許庁
For example, in the first process, the thin film 102 may be formed by a spatter method for introducing H_2O gas.例文帳に追加
例えば、第1工程では、H_2Oガスを導入するスパッタ法で、薄膜102を形成すればよい。 - 特許庁
For instance, a process of forming a groove part 31 with an arc-shaped cross section is applied to the first incident face 20.例文帳に追加
例えば、第1の入射面20に、断面が円弧の溝部31を形成する加工を行う。 - 特許庁
In the first water cleaning process 11, an insulating film and a metal wiring formed thereon are washed using the pure water.例文帳に追加
第1の水洗処理11では、絶縁膜及びこの上のメタル配線を純水により水洗いする。 - 特許庁
In the first process, fine earth and sand particles are granulated into sand-like state.例文帳に追加
第1工程で高分子系の土砂改良材により土砂の微細土粒子は砂状に団粒化する。 - 特許庁
The clip area including the window to process the graphics data is set in a first hardware clipper.例文帳に追加
グラフィックス・データを処理するためのウィンドウを包含するクリップ区域を第1のハードウェア・クリッパ中にセットする。 - 特許庁
In a first heating process, the insulator 14 and the semiconductor substrate 12 are pre-baked.例文帳に追加
第1の加熱工程では、前記絶縁物14および半導体基板12に対してプリベークが行われる。 - 特許庁
Finally, via a hot pressing process, an insulating layer 60 covers the first lead 10 and the second lead 20.例文帳に追加
最後に、ホットプレス加工を通して、絶縁層60が第一リード10と第二リード20を被覆する。 - 特許庁
According to a second aspect, the invention relates to a process for fabricating a semiconductor device regarding the first aspect.例文帳に追加
第2の側面によると、本発明は第1の側面に関する半導体デバイスの製作プロセスに関する。 - 特許庁
In the heating process 21, first exhaust 401b is heated by heat exchange with saturated steam 300a.例文帳に追加
加熱工程21では、第1排気401bを飽和蒸気300aとの熱交換により加熱する。 - 特許庁
A ceramics raw material 4 for a tile is formed by a dry press forming process to obtain first green ware 5.例文帳に追加
タイル用窯業原料4を乾式プレス成形法により成形して第1生素地5を得る。 - 特許庁
A sound data discriminating part 116 performs a limit determination process in accordance with the first or second sound order information.例文帳に追加
音データ区別部116は、第1又は第2音指示情報に応じて制限判定処理を行う。 - 特許庁
In the first step of an etching process, a rough control step is carried out on the condition that an etching rate becomes comparatively high.例文帳に追加
エッチング過程の当初は、比較的エッチングレートが高くなる条件で粗調整ステップが実行される。 - 特許庁
The first card, which is in a standby state, does not receive the latter command to save a state transition process.例文帳に追加
第1カードはスタンバイ状態なので、上記のコマンドを受信せず、状態遷移過程は省略される。 - 特許庁
Heat treatment is made under reducing gas atmosphere such as SiH4 (a first reducing treatment process: S4).例文帳に追加
ついで、SiH_4等の還元性ガス雰囲気下で加熱処理する(第1の還元処理工程:S4)。 - 特許庁
An ink chamber 100 is formed when the opening is shut by a film 65 in the first process.例文帳に追加
第1工程において開口がフィルム65で閉塞されることにより、インク室100が形成される。 - 特許庁
A developing unit 4 of a process cartridge has developer scattering suppression means with a first sheet member 25.例文帳に追加
プロセスカートリッジの現像ユニット4は、第一シート部材25を備える現像剤飛散抑制手段を有する。 - 特許庁
A device for performing a first laser scribe process has four sets of laser optical systems 10, 11, 12, 13.例文帳に追加
第一レーザスクライブ工程を実施する装置は、4組のレーザ光学系10,11,12,13を備える。 - 特許庁
In a first insulation process, an inorganic insulation coat is formed on the surface of powder to insulate the powder.例文帳に追加
第1の絶縁工程では、粉末に粉末の表面に無機絶縁被膜を形成し絶縁する。 - 特許庁
A reference resistance and the first and the second feedback resistances are formed using a common manufacturing process.例文帳に追加
基準抵抗、及び第1と第2のフィードバック抵抗は、共通の製造プロセスを用いて形成される。 - 特許庁
The first method makes impressed electric field intensity in the second ion exchange process lowered with the lapse of time.例文帳に追加
第1の方法は、第2のイオン交換工程における印加電界強度を、時間と共に低下させる。 - 特許庁
In the process, the first silicon oxide film 39 is formed in a minimum region at a required position.例文帳に追加
この時、第1のシリコン酸化膜39を必要とする位置に最小限の領域で形成する。 - 特許庁
During the execution of a first white balance initialization process, the arithmetic circuit 27 reads an image signal from the memory 23.例文帳に追加
第1のホワイトバランス初期化処理の実行時に演算回路27はメモリ23から画像信号を読出す。 - 特許庁
Therefore, the separation membrane element is used at first at the process treating stage 2 as shown by an arrow 5.例文帳に追加
図中の矢印5で示すように、分離膜エレメントを、まずプロセス処理工程2において使用する。 - 特許庁
In the heating process (S5), atoms of a first layer 81 are rearranged, distortion is removed, and the stress is alleviated.例文帳に追加
加熱工程(S5)では、第1層81の原子の再配列、歪の除去、応力の緩和が行なわれる。 - 特許庁
At the time of displaying the process information, the CPU 31 displays only the header file on a display 38 first.例文帳に追加
処理情報を表示するときには、CPU31は、まずヘッダファイルのみをディスプレイ38に表示する。 - 特許庁
The process is improved by maintaining the inside temperature of the first and second decanters at between about 32 to about 75°F.例文帳に追加
第1および第2デカンターの内部温度を約32°F 〜約75°Fに維持することにより、改善がもたらされる。 - 特許庁
In the case of the Mg-mixed Al powder, the Al-Mg alloy is first generated but thereafter the same process is carried out.例文帳に追加
Mg混合Al粉末の場合、まずはAl−Mg合金が生成するがその後は同様である。 - 特許庁
Therefore, combustion speed in the first half of the expansion process can be kept high, and combustion time can be shortened.例文帳に追加
従って、膨張行程前半での燃焼速度を大きく維持でき、燃焼期間を短縮できる。 - 特許庁
As the first film formation process, a resin film 11 having photosensitiveness is formed on a base board 2.例文帳に追加
まず、基板2の上に感光性を有する樹脂膜11を形成する第一成膜工程を行なう。 - 特許庁
A first biased part and a second biased part which are parts to be biased are provided at a lower part of the process cartridge.例文帳に追加
プロセスカートリッジ下部に、被付勢部である第一被付勢部および第二被付勢部を設ける。 - 特許庁
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