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FIRST PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5620件
Then, a first solvent is added to the agitated object to manufacture a kneaded matter by kneading (kneading process S14).例文帳に追加
次いで、その攪拌物に第1の溶媒を添加して混練し混練物を作製する(混練工程S14)。 - 特許庁
In this method, a plurality of error-coding streams are formed by one information block in a first process.例文帳に追加
本発明の方法の第1プロセスは、1個の情報ブロックから複数のエラー符号化ストリームを形成する。 - 特許庁
In a first process, the coating material 2 for undercoating is coated on a base material 1 to form an undercoated layer 2a.例文帳に追加
第1工程において、基材1上に下塗り用塗料2を塗布し、下塗り層2aを形成する。 - 特許庁
In a second process (a step A10), the first substrate and the second substrate are stuck to each other.例文帳に追加
また、第二工程(ステップA10)では、前記第一基板及び前記第二基板を互いに貼着する。 - 特許庁
If the current activity has any enclosed elements, the process will step to the first enclosed element. 例文帳に追加
現在のアクティビティー内に要素が含まれている場合、プロセスは最初に含まれている要素まで進みます。 - NetBeans
The first step of the risk assessment and response process is to identify risks in an appropriate way. 例文帳に追加
リスクの評価と対応のプロセスにおいては、まずはじめに、リスクを適切に識別することが必要である。 - 金融庁
In the first process, a mixed liquid containing a powder of material for generating negative ions and glue is prepared.例文帳に追加
第1の工程では、マイナスイオンを発生する原料の粉末と糊とを含む混合液を準備する。 - 特許庁
The luminance correction circuit 11 performs a luminance correction process by using the first or second correction value.例文帳に追加
輝度補正回路11は、第1補正値又は第2補正値を用いて輝度補正処理を実行する。 - 特許庁
Firstly, a carbon-steel-made decontamination object is decontaminated with an oxalic acid decontamination solution in the first process (101).例文帳に追加
まず、炭素鋼製の被除染物を第1の工程でシュウ酸除染液により除染する(101)。 - 特許庁
This printer 1 executing a dithering process stores previously-prepared first dither matrices 51 in a memory 30.例文帳に追加
ディザ処理を行うプリンタ1は、予め用意された第1のディザマトリクス51をメモリ30に記憶している。 - 特許庁
In a first process, the columnar stock 1 is shaped by upset forging in accordance with the outer shape of a nut.例文帳に追加
第1工程では、円柱状素材1を据込加工により、ナットの外形に応じて鍛造成形する。 - 特許庁
This process is repeated, and the role of the third data store and the role of the first data store are exchanged.例文帳に追加
このプロセスが繰り返されるが、第3のデータ・ストアの役割と第1のデータ・ストアの役割が交代する。 - 特許庁
The film deposition method for depositing a film on a substrate to be treated includes a first process wherein a first film is deposited by ALD method on an insulation layer formed on the substrate to be treated, and a second process wherein a second film is deposited by CVD method uninterruptedly after the first process.例文帳に追加
被処理基板上に成膜を行う成膜方法であって、前記被処理基板上に形成された絶縁層上にALD法で第1の成膜を行う第1の工程と、当該第1の工程と連続して、CVD法で第2の成膜を行う第2の工程と、を有することを特徴とする成膜方法。 - 特許庁
The method has a first process of causing a liquid containing a first catalyst to permeate into a silica type coat formed on a substrate and a second process of hardening the coat after the treatment of the first process to obtain a silica type hardened coat.例文帳に追加
上記課題を解決する本発明のシリカ系硬化被膜の形成方法は、基板上に形成されたシリカ系被膜内部に第1の触媒を含有する液体を浸透させる第1工程と、第1工程の後にシリカ系被膜を硬化してシリカ系硬化被膜を得る第2工程とを有するものである。 - 特許庁
The method includes a first process for injecting N-type impurities in a dicing portion in a P-type semiconductor region, at the rear face of the semiconductor wafer; a second process for forming the first layer over the entire rear face of the semiconductor wafer; and a third process for forming the second layer, on the rear face of the first layer by a wet plating method.例文帳に追加
この方法は、半導体ウェハの裏面のP型の半導体領域のダイシング部に、N型の不純物を注入する第1工程と、半導体ウェハの裏面全体に第1層を形成する第2工程と、湿式めっき法によって第1層の裏面に第2層を形成する第3工程とを含んでいる。 - 特許庁
Further, the method comprises a first cleaning process of immersing the object to be cleaned made of the fluororesin in a first acid solution to carry out the ultrasonic cleaning in the warming state, and a second cleaning process of immersing the object to be cleaned made of the fluororesin which finishes the first cleaning process in a second acid solution to carry out the ultrasonic cleaning in the warming state.例文帳に追加
さらに、フッ素樹脂製被洗浄物を第一の酸溶液に浸漬して加温状態で超音波洗浄する第1洗浄工程と、該第1洗浄工程を終えた前記フッ素樹脂製被洗浄物を第二の酸溶液に浸漬して加温状態で超音波洗浄する第2洗浄工程とを行う。 - 特許庁
The method for forming the copper wiring film is taken such that a process in which the first cooper film is heated within a temperature range of 200-500°C is set between the first copper-film forming process by the CVD method, and a process in which the second copper film is formed by the plating method using the first copper film as the electrode.例文帳に追加
CVD法による第一の銅膜形成工程と、当該第一の銅膜を電極としたメッキ法により第二の銅膜を形成する工程の間に、第一の銅膜を200〜500℃の温度範囲にて加熱する工程が設けられていることを特徴とする銅配線膜形成方法によって課題を解決した。 - 特許庁
This manufacturing method includes a preparing process of preparing a substrate 10 having a concave portion 10r and a convex portion 10p; a first growing process of growing a first semiconductor 11 on the convex portion 10p; and a second growing process of growing a second semiconductor 13 in at least a lateral direction from the first semiconductor 11.例文帳に追加
この製造方法は、凹部10r及び凸部10pを有する基板10を準備する準備工程と、凸部10pの上に第1半導体11を成長させる第1成長工程と、第1半導体11から少なくとも横方向に第2半導体13を成長させる第2成長工程とを含む。 - 特許庁
It further comprises a process of forming a second oxide film 19 having the thickness above that of the embedded oxide film, by making the first oxide film 17 thinner or forming the second oxide film instead of the first oxide film 17 at the same portion as that of the first oxide film 17 between the process of implanting the oxygen ion 22 and the process of annealing.例文帳に追加
酸素イオン22を注入する工程とアニール処理する工程の間に、第1酸化膜17を薄層化して厚さが埋込み酸化膜以上の第2酸化膜19を形成するか又は第1酸化膜17と同一の部分に第1酸化膜17に代えて第2酸化膜を形成する工程を含む。 - 特許庁
Thus, the welding process to form the excess weld metal at the back side of the base metal by an arc heat reservoir or a laser beam is not required, and the welding process will be the first process of welding the straight zone 14 and the second process of welding the V type part.例文帳に追加
このため、母材8の裏面をアーク熱源又はレーザにより余盛を形成する工程は不要となり、溶接工程としては、ストレート部14を溶接する第1工程と、V型部を溶接する第2工程との2つの工程となる。 - 特許庁
This manufacturing method of the gas generating agent comprises a first process wherein nitro guanidine, basic copper nitrate and guagum are supplied and stirred in the presence of water to mix them, a second process wherein the mixture is pressed, and formed then cut, a third process wherein the material in the preceding process is dried.例文帳に追加
ニトログアニジン、塩基性硝酸銅及びグアガムを供給し、水分の存在下で攪拌して混合する第1工程、前記混合物を圧伸成形し、裁断する第2工程及び乾燥する第3工程を含むガス発生剤の製造法。 - 特許庁
According to the structure described above, the first process, the second process, the third process and the fourth process are performed so as to supply water to the bottom face of the bed soil from the upper surface of the agricultural field to raise the mat seedlings while saving the labor without using any nursery cabinets.例文帳に追加
前記構成によると、第1工程、第2工程、第3工程及び第4工程を実行することにより、育苗器を用いることなく、圃場(1)上面から床土底面に灌水し省力しながらマット苗を育苗することができる。 - 特許庁
After any target area is selected so as to match the artwork, the horizontal redeformation of a process 344 and the vertical redeformation of a process 346 are applied to each of the scanned nodes being leaf nodes in the first application process of a scanning process.例文帳に追加
ターゲット領域をアートワークを合わせるように選択した後、走査工程における第1の適用工程では葉ノードである走査されたノードのそれぞれに対し、工程344の水平再変形と工程346の垂直再変形を適用する。 - 特許庁
The desorption process contains a first desorption process for discharging gas G_5 from the adsorption towers in the period from the beginning to the medium of the process and a second desorption process for discharging gas G_6 from the adsorption towers, and returns gas G_5 to the storage tank 10.例文帳に追加
また、脱着工程は、当該工程の開始から途中までにおいて吸着塔からガスG_5を導出する第1脱着工程と、吸着塔からガスG_6を導出する第2脱着工程とを含み、ガスG_5を貯留槽10に戻す。 - 特許庁
This thawing method comprises a first thawing process of irradiating microwave at atmospheric pressure or below to thaw an object to be thawed 1 and a second thawing process performed following the first thawing process, of supplying steam at atmospheric pressure or below to thaw the object to be thawed 1.例文帳に追加
大気圧以下でマイクロ波を照射して被解凍物1を解凍する第一解凍工程と、この第一解凍工程に続いて行われ、大気圧以下で蒸気を供給して被解凍物1を解凍する第二解凍工程とを行うことを特徴とする。 - 特許庁
Engine speed in the first compression process when starting the engine next time is set higher in comparison with the case of stopping the engine at a position near the first compression process to smoothly carry out the compression process by stopping the engine.例文帳に追加
このようにエンジンを停止させることで、次にエンジンを始動する際の最初の圧縮行程におけるエンジンの回転数を最初の圧縮行程から近い位置で停止した場合に比して高くしてスムースに圧縮行程を実行することができるようにする。 - 特許庁
A method for reducing crystal defects of a SIMOX wafer includes: a first process to destroy crystal defects by making ion injected into a silicon layer 13 from the surface of a wafer collide with crystal defects (14, 15); and a second process to recrystalize the silicon layer 13 by heating the wafer obtained in the first process.例文帳に追加
ウェーハの表面からシリコン層13に注入したイオンを結晶欠陥(14,15)に衝突させて結晶欠陥を壊す第1の工程と、第1の工程で得られたウェーハを加熱してシリコン層13を再結晶させる第2の工程とを含む。 - 特許庁
The method for recording characteristically includes a first dry process to evaporate 50 to 85 wt.% of ink injected on the medium (F) to be recorded and a second dry process to be conducted at a lower side of the feeding direction of the medium (F) to be recorded than the first dry process.例文帳に追加
インクが噴射された被記録媒体(F)に対してインクを50〜85重量%蒸発させる第1乾燥工程と、該第1乾燥工程より被記録媒体の送り方向下流側で行う第2乾燥工程と、を行うことを特徴とする。 - 特許庁
This method of manufacturing an element substrate has a process of forming the first conductive film 20 on a base 10; a process of forming the insulation film 30 on the first conductive film 20; and a process of forming the second conductive film 40 on the insulation film 30.例文帳に追加
本発明の素子基板製造方法は、基体10上に、第1導電膜20を形成する工程と、第1導電膜20上に絶縁膜30を形成する工程と、絶縁膜30上に第2導電膜40を形成する工程とを有する。 - 特許庁
A page 720A, which is one side of a booklet 700, is seated under an open state on a seating stand at the first process and is adsorbed by an adsorbing part 320 in the second process so as to lift up a first sheet of paper 720 the one-side page 720A of which is one side in the third process.例文帳に追加
第1工程で載置台に開かれた状態で載置された冊子700の一方側のページ720Aを、第2工程で吸着部320が吸着し、第3工程で一方側のページ720Aを片面とする第1用紙720を持ち上げる。 - 特許庁
This prepreg manufacturing method has a first process for immersing a fiber base material in a solvent containing an ion exchanger and a second process for immersing the fiber base material in resin varnish without heating and drying the same after the first process.例文帳に追加
本発明のプリプレグの製造方法は、イオン交換体を含む溶媒に繊維基材を浸漬する第1の工程と、前記第1の工程後に繊維基材を加熱乾燥することなく樹脂ワニスに浸漬する第2の工程とを有することを特徴とするものである。 - 特許庁
This rotational impact test method includes a rotation process for rotating a first casing by rotating one guide part about a vertical rotation axis, a gliding process for gliding the first casing outward in the radial direction in the abutting state on a first guide part by releasing holding of the first casing, and a detection process for detecting temporal transition of Coriolis acceleration working on a first test body in the gliding process and an electric signal of the test body.例文帳に追加
回転衝撃試験方法は、鉛直回転軸を中心として1ガイド部を回転させることによって、第1筐体を回転させる回転工程と、第1筐体の保持を解除することによって、第1筐体を第1ガイド部に当接させながら径方向外向きに滑走させる滑走工程と、滑走工程において第1被試験体に働くコリオリの加速度の時間推移及び被試験体の電気信号を検出する検出工程とを備える。 - 特許庁
A process for forming the intermediate layer portion 30 includes: a process for forming the first wiring 31 on the first circuit forming region 110; a process for forming a film of the second insulating part 32 to cover the lower layer portion 10; and a process for removing the second insulating part 32 on the first region 120 so that an outer circumferential part 10a of an upper surface of the lower layer portion 10 is exposed.例文帳に追加
中間層部30を形成する工程は、第1配線31を第1回路形成領域110に形成する工程と、下層部10を覆うように第2絶縁部32を成膜する工程と、下層部10の上面の外周部10aが露出するように、第1領域120上の第2絶縁部32を除去する工程とを備える。 - 特許庁
The method for producing coffee extract comprises the following process: (1) a first process of subjecting coffee powder to drip extraction with heated water so as to obtain first extract; and (2) a second process of subjecting powdered coffee beans having the same kind and roasting temperature as those of the powdered coffee beans used in the first process to drip extraction so as to obtain second extract.例文帳に追加
本発明のコーヒー抽出液の製造方法は、以下の工程1)コーヒー豆粉末を加熱水でドリップ抽出して第一抽出液を得る第1抽出工程、および2)前記コーヒー豆粉末と種類および焙煎度が同じコーヒー豆粉末を前記第一抽出液でドリップ抽出して第二抽出液を得る第2抽出工程、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
The peeling method includes a process for forming a first layer containing a first material on a substrate; a process for forming a second layer containing a second material on the first layer; a process for forming the layer to be peeled on the second layer; and a process for performing heat treatment or the irradiation of laser beams for separating the substrate from the layer to be peeled by using the compressive stress of a second layer.例文帳に追加
基板上に第1の材料を含む第1の層を形成する工程と、第1の層上に第2の材料を含む第2の層を形成する工程と、第2の層上に被剥離層を形成する工程と、加熱処理またはレーザー光の照射を行って、第2の層の圧縮応力を用いることにより、基板と被剥離層とを分離する工程とを含む。 - 特許庁
A process cartridge 200 attachable to and detachable from an image forming apparatus comprises a unit part 201 having elements necessary for a image forming process and first press object parts 220 and 221 which are pressed by first pressing parts 104 and 105 provided in the image forming apparatus in accordance with movement of the process cartridge 200 within the image forming apparatus and position the process cartridge to a first prescribed position of the image forming apparatus.例文帳に追加
画像形成装置に着脱可能なプロセスカートリッジ200において、画像形成プロセスに必要なエレメントを有するユニット部201と、プロセスカートリッジ200が画像形成装置内を移動するのと連動して画像形成装置に設けた第1押圧部104,105に押圧され、画像形成装置の第1所定位置に位置決めする第1被押圧部220,221とからなる。 - 特許庁
When a process speed is changed to a first process speed, whether an image forming condition should be adjusted or not before the start of forming an image at the first process speed is judged in accordance with a progress situation measured by a counter functional part 66 to measure the progress situation after performing the last adjustment of the image forming condition to form the image at the first process speed.例文帳に追加
第1のプロセス速度へプロセス速度を変更した際に、第1のプロセス速度において最後に像形成条件の調整を実施してからの経過状況を計測するカウンタ機能部66にて計測された経過状況に応じて、第1のプロセス速度において像の形成が開始される前に像形成条件の調整を行うか否かを判定する。 - 特許庁
The method includes a first process of piercing a hole 50 oblique to the thickness direction in the first sheet-formed rubber member, a second process of laminating the first and second sheet-formed rubber members together to obtain a laminate member, a third process of shaping the laminate member into green tires and a fourth process of pressurizing and heating the green tires in a mold.例文帳に追加
シート状の第一ゴム部材に、その厚み方向に対して傾斜した孔50が穿設される工程と、この第一ゴム部材とシート状の第二ゴム部材とが積層されて積層部材が得られる工程と、この積層部材がシェーピングされてグリーンタイヤが得られる工程と、このグリーンタイヤがモールド内で加圧及び加熱される工程とを含むタイヤの製造方法である。 - 特許庁
This analysis method of the quartz member has the first process for etching by supplying etching liquid to the quartz member, and the second process for analyzing a metal in the etching liquid used in the first process; and has the characteristic that the supplying of the etching liquid in the first process is performed into a recessed etching liquid holding part formed on the quartz member.例文帳に追加
石英部材にエッチング液を供給してエッチングする第1の工程と、前記第1の工程で用いた前記エッチング液中の金属を分析する第2の工程と、を有する石英部材の分析方法であって、前記第1の工程の前記エッチング液の供給は、前記石英部材に形成された凹状のエッチング液保持部にされることを特徴とする石英部材の分析方法。 - 特許庁
The manufacturing method of the semiconductor device includes a process for preparing a wiring board 10 having such a groove 12 as to define partitively a predetermined region (a first region), a process for mounting a semiconductor chip 20 on the first region, a process for providing a resin material 30 in the first region, and a process for hardening the resin material 30 to form a resin.例文帳に追加
半導体装置の製造方法は、所定の領域(第1の領域)を区画するように形成された溝12を有する配線基板10を用意する工程と、第1の領域に半導体チップ20を搭載する工程と、第1の領域に樹脂材料30を設ける工程と、樹脂材料30を硬化させて樹脂部を形成する工程と、を含む。 - 特許庁
In a first molding process, a first die is placed in a mold and plastic 188 is filled in the mold to form the connector body.例文帳に追加
第1の成形作業では、第1の型部が型内に配置され、型内に注入されたプラスチック188がコネクターボディを形成するように構成される。 - 特許庁
A first means 302 for switching the batch applications processes a switching process in order to hand over the batch applications to a first means 301 for alternative processing.例文帳に追加
第1のバッチ業務切り替え処理手段302は、バッチ業務を第1のバッチ業務代替処理手段301に引き継ぐための切り替え処理を行う。 - 特許庁
To provide a friction welding method including a process for providing a first workpiece having a first weld surface and a second workpiece having a second weld surface.例文帳に追加
第1溶接面を持つ第1加工物及び第2溶接面を持つ第2加工物を提供する工程を含む、摩擦溶接方法を提供する。 - 特許庁
The deposition method can also be made to have a process step of depositing the atomic layer of first species at a temperature nearly optimum for deposition of the first species on the substrate.例文帳に追加
堆積方法はまた、基板上に、第1スピーシの堆積にほぼ最適な温度で、第1スピーシを原子層堆積する工程を有することができる。 - 特許庁
In the first process, the new material which can dissipate a volatile organic substance is retained in the first atmosphere which is under high temperature and humid conditions.例文帳に追加
第1工程において、揮発性有機物質を放散し得る新材料を高温状態かつ湿潤状態の第1雰囲気中に保持する。 - 特許庁
The first calculation part 14 calculates, for each process, factor α that is the number of products to be processed by one processor of a first processing amount.例文帳に追加
第1の算出部14は、各工程について、第1処理数のうち1の処理装置で処理すべき生産品の数である係数αを算出する。 - 特許庁
The image processing system includes an information processor, a first apparatus, and a second apparatus, and performs an image process using the functions of the first and second apparatuses in coordination.例文帳に追加
画像処理システムは、情報処理装置、第1機器および第2機器を備え、第1機器の機能と第2機器の機能とを連携して画像処理を行う。 - 特許庁
In a decompression process 13, only the first high-pressure superheated steam 22a is decompressed until the pressure of the first high-pressure superheated steam 22a becomes the atmospheric pressure.例文帳に追加
減圧工程13では、第1高圧過熱蒸気22aの圧力が大気圧になるまで、第1高圧過熱蒸気22aのみを減圧する。 - 特許庁
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