「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the microlens array includes a process of forming a first light-transmitting layer precursor 20 on a master plate 10, to form a first light-transmitting layer 22 and a process of forming a second light-transmitting layer precursor 24 on the first light-transmitting layer 22 to form a second light-transmitting layer 26.例文帳に追加

マイクロレンズアレイの製造方法は、原盤１０に、第１の光透過性層前駆体２０を設けて第１の光透過性層２２を形成し、第１の光透過性層２２上に第２の光透過性層前駆体２４を設けて第２の光透過性層２６を形成することを含む。 - 特許庁

Since the first resist region is hardly exposed, it is made possible to prevent the resist film in the first resist region from being removed in a resist film removal process and, further, it is made possible to prevent impurity ions from being injected into the channel region in a first impurity injection process.例文帳に追加

第１レジスト領域がほとんど露光されずに済むことによって、レジスト膜除去工程において第１レジスト領域のレジスト膜が除去されるのを防ぐことができ、第１不純物注入工程においてチャネル領域に不純物イオンが注入されるのを防ぐことができる。 - 特許庁

Furthermore, a first coating film for the second resin layer 103 is formed on the metal foil 104, and a second coating film for the first resin layer 102 is formed without a solvent removing process, then, the solvent removing process is simultaneously applied to these first coating film and the second coating film.例文帳に追加

さらに、金属箔１０４上に第２樹脂層１０３用の第１塗膜を形成し、溶媒除去工程を経ずに第１樹脂層１０２用の第２塗膜を形成し、その後、これら第１塗膜および第２塗膜に対して同時に溶媒除去工程を施す。 - 特許庁

The method comprises a process wherein the second film is removed from a specimen to be evaluated which includes a first film containing an oxide, and a second film arranged on the first film by spattering employing oxygen ion, and another process wherein the first film is evaluated.例文帳に追加

本発明の膜の評価方法は、酸化物を含む第１の膜と、前記第１の膜上に配置された第２の膜とを含む被評価試料から、酸素イオンを用いたスパッタリングによって前記第２の膜を除去する工程と、前記第１の膜を評価する工程と、を含む。 - 特許庁

This method has a first correction-polishing process (step S3) for conducting correction polishing while pressing a polishing tool onto the worked face by the first pressure, and a second correction-polishing process (step S6) for conducting correction polishing while pressing the polishing tool onto the worked face by the second pressure different in its value from that of the first pressure.例文帳に追加

研磨工具を第１の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第１補正研磨工程（ステップＳ３）と、研磨工具を第１の圧力と異なる値の第２の圧力で加工面に押し付けながら補正研磨を行う第２補正研磨工程（ステップＳ６）とを有する。 - 特許庁

A polishing method comprises a first process of polishing a wafer 7 on a first platen and a second process of buffing the wafer 7 on a second platen after the wafer 7 is subjected to polishing on the first platen, wherein the polishing method is characterized by performing cleaning of the wafer 7 on the second platen.例文帳に追加

第１プラテン上でウェハの研磨を行う工程と、第１のプラテン上で研磨を行った後、第２プラテン上でバフ研磨を行う工程とを備える研磨方法において、第２プラテン２上で、前記ウェハ７の洗浄を行うことを特徴とする、研磨方法を提供する。 - 特許庁

A first starting distance between a surface of the first bore and a head end of the grindstone in starting grinding delivering drive in the first process and a second starting distance between a surface of the second bore and the head end of the grindstone in starting the grinding delivering drive in the second process are different from each other.例文帳に追加

第１工程において研削送り出し駆動を開始する時の、第１ボア表面および砥石先端の間の第１開始距離と、第２工程において研削送り出し駆動を開始する時の、第２ボア表面および砥石先端の間の第２開始距離とは、異なる。 - 特許庁

The forming method of patterns includes a first material arrangement process S4 for arranging a first liquid material L1 onto the substrate 11, and a second material arrangement process S5 for arranging a second liquid material L2 on the first liquid material L1 (W1) arranged onto the substrate 11.例文帳に追加

発明のパターンの形成方法は、基板１１上に第１の液体材料Ｌ１を配置する第１材料配置工程Ｓ４と、基板１１上に配置された第１の液体材料Ｌ１（Ｗ１）の上に第２の液体材料Ｌ２を配置する第２材料配置工程Ｓ５とを有している。 - 特許庁

Thus, the first plunger and the second plunger alter timing of an absorption process and a compression process, and a necessary discharge rate is only absorbed to the first pump room 13 and the second pump room 14 to be pressurized, so that power of the first drive cam 51 and the second drive cam 52 can be kept to a minimum.例文帳に追加

このため、第１、第２プランジャは、吸入工程および加圧工程のタイミングを変更し、必要な吐出量のみを第１ポンプ室１３、第２ポンプ室１４に吸引し加圧するので、第１、第２駆動カム５１、５２の動力を最小限に抑えることができる。 - 特許庁

The manufacturing method of the wiring substrate comprises a process for applying liquid material (18) on a substrate to form coating film, a process for arranging the coating film between a first electrode and a second electrode opposed to the first electrode, a process for generating electric field between the first electrode and the second electrode, and a process for removing dispersion medium or solvent from the coating film to form the film.例文帳に追加

基板上に液体材料(18)を塗布し塗布膜を形成する工程と、第１電極と、前記第１電極と対向する第２電極との間に前記塗布膜を配置する工程と、前記第１電極と前記第２電極との間に電界を生じさせる工程と、前記塗布膜から分散媒または溶媒を除去し膜を形成する工程と、を含むことを特徴とする配線基板の製造方法である。 - 特許庁

This process evaluation device receives a first evaluation value obtained by evaluating each element comprised in a process based on a first evaluation criterion and a second evaluation value obtained by evaluating each element comprised in the process based on a second evaluation criterion, classifies each element comprised in the process based on the received second evaluation value, and displays each classified element correspondingly to the first evaluation value.例文帳に追加

プロセス評価装置は、プロセスに含まれる要素それぞれを、第１の評価基準で評価して得られる第１の評価値と、プロセスに含まれる要素それぞれを、第２の評価基準で評価して得られる第２の評価値とを受け入れ、受け入れられた第２の評価値に基づいて、プロセスに含まれる要素それぞれを分類し、分類された要素それぞれに、第１の評価値を対応付けて表示する。 - 特許庁

The transistor 103 and the first bias element 104 are first devices of the same kind formed by the same manufacturing process, and the detection element 8 and the second bias element 105 are second devices of the same kind formed by the same manufacturing process.例文帳に追加

トランジスタ１０３と第１バイアス素子１０４は同一の製造プロセスで形成される第１の同種のデバイスで、検波素子８と第２バイアス素子１０５は同一の製造プロセスで形成される第２の同種のデバイスである。 - 特許庁

Then, the resin package 40 and a pattern 52 on the surface of the print board are cut by a first dicing blade 61 (a first process), and then a main body 51 of the print board 50 is cut by a second dicing blade 62 (a second process).例文帳に追加

次いで、前記樹脂パッケージおよび前記プリント基板表面のパターン（５２）を第１のダイシングブレード（６１）で切断し（第１の工程）、その後前記プリント基板の本体（５１）を第２のダイシングブレード（６２）で切断する（第２の工程）。 - 特許庁

A manufacturing method of the light-emitting device 40 according to the present invention comprises: a process for forming a recess-protrusion part 30 on a first surface 24 of the fluorescent part 20; and a process for arranging the first surface 24 so as to be opposed to the LED chip 11.例文帳に追加

本発明にかかる発光装置４０の製造方法は、蛍光部２０の第1の面２４に、凹凸部３０を形成する工程と、第1の面２４をＬＥＤチップ１１に対向して配置する工程と、を有する。 - 特許庁

This method comprises a process for receiving a request for boot and a process for performing access to the signature sector of a single drive and confirming a first serial number corresponding to a first boot partition and a second serial number corresponding to a second boot partition.例文帳に追加

この方法は、ブートの要求を受ける工程と、単一ドライブの署名セクタにアクセスして、第１ブートパーティションに対する第１シリアル番号と、第２ブートパーティションに対する第２シリアル番号とを確認する工程を含む。 - 特許庁

The work process includes first to n-th sub processes capable of carrying out work in parallel with each other, the first sub process has an s(i) number of work stages which are work stages P_i, 1-P_i, s(i), and work is carried out by any one of the sub processes.例文帳に追加

作業プロセスは、互いに並行して作業を行うことが可能な第１〜第ｎサブプロセスを含み、第ｉサブプロセスは作業工程Ｐ_i,1 〜Ｐ_i,s(i)のｓ（ｉ）個の作業工程を有し、いずれかのサブプロセスで作業が行われる。 - 特許庁

In response to a decrease in intensity of light from an outer periphery between the first pair of electrodes 11 and 12, a transition is made from the process of generating the plasma under the first condition to the process of generating the plasma under the second condition.例文帳に追加

第１の対の電極１１、１２間の外周からの光の強度の低下に対応して、第１の条件でプラズマを発生させる工程から第２の条件でプラズマを発生させる工程への移行が行われる。 - 特許庁

The second processing section inputs the (i-1)th process data output by the first processing section, processes a first data and outputs the result of processing as second process data.例文帳に追加

第２処理部は第１処理部の出力した、第ｉ処理部は第ｉ−１処理部の出力した第ｉ−１処理データを入力して処理し、第１処理データを入力して処理し、処理した結果を第２処理データとして出力する。 - 特許庁

The process for forming the color filter layer includes a process for sticking a dry film for the third color filter on the transparent substrate while pressing in a first direction 70 after formation of a first color filter 56 and a second color filter 58.例文帳に追加

カラーフィルタ層を形成する工程は、第１カラーフィルタ５６および第２カラーフィルタ５８を形成した後に、透明基板上に第３カラーフィルタ用ドライフィルムを第１方向７０に向かって押圧しながら貼り合わせる工程を含む。 - 特許庁

In the post-processing device B, the paper S delivered from an image forming device A is stopped and positioned at the predetermined position, a perforating process is carried out by the first perforating means 20, and a folding process is carried out by the first folding means 30.例文帳に追加

画像形成装置Ａから排出される用紙Ｓを所定位置に停止させて位置決めし、第１穿孔手段２０により穿孔処理を行った後、第１折り手段３０により折り処理をする後処理装置Ｂ。 - 特許庁

The present process includes each process which watches the temperature of the fuel processor and adjusts the amount of the first current to the combustor according to the temperature of fuel processor, and which compares the amount of the first current with a predetermined value or values spread in a predetermined range.例文帳に追加

本方法は、燃料プロセッサの温度を監視し、燃料プロセッサの温度に従って燃焼器への第１の流れの量を調整し、第１の流れの量を所定値又は所定範囲に亘る値と比較する、各工程を含む。 - 特許庁

The first process is a process to form twice a through hole of nearly hexagonal shape on a stainless steel plate S at a location shifted by a processing pitch in the state that an upper cutting blade UH is at a first processing position in the plate width direction of the stainless steel plate S.例文帳に追加

第１工程は、上刃ＵＨがステンレス板Ｓの板幅方向における第１加工位置にある状態で、ステンレス板Ｓに略六角形状の貫通孔を、加工ピッチ分だけずれた位置に２回成形する工程である。 - 特許庁

In the first process, a first optical fiber 1 is inserted into the end part 9 of a calking sleeve 3 without removing an optical fiber coating 7 of the fiber 1 and calking process is conducted for the part 9.例文帳に追加

第一圧着工程では、第一の光ファイバ１の光ファイバ被覆７を除去しないままで、第一の光ファイバ１を加締めスリーブ３の一方の端部９に差し込み、その一方の端部９側を加締める工程を行う。 - 特許庁

The production method is provided with: a first process where raw material powder is granulated by using a binder solution in which reducing agent powder is suspended; and a second process where the granulated powder obtained by the first stage is compacted and sintered to produce a sintered compact.例文帳に追加

還元剤粉末を懸濁させたバインダ溶液を用いて原料粉末を造粒する第１工程と、第１工程により得られた造粒粉末を成形後、焼結して焼結体を製造する第２工程と、を備える。 - 特許庁

A first kind display game is executed in a first kind variable display means 130 when a first kind start condition is established while playing and a first kind special value is continuously imparted to the player to the maximum continuation process when a result is equivalent to large winning display.例文帳に追加

初期設定された第１種状態において、第１種可変入賞手段１５０の開閉による第１種特別価値がその最大継続行程を総て達成した場合に、第２種始動条件が成立可能に設定される。 - 特許庁

The method of changing a communication protocol of a first field device in a process control system includes decoupling from the first field device a first removable communication module configured to communicate using a first communication protocol.例文帳に追加

プロセス制御システムにおいて第１のフィールド装置の通信プロトコルを変更する方法は、第１の通信プロトコルを使用して通信するよう構成された第１の取外し可能な通信モジュールを第１のフィールド装置から切り離すことを含む。 - 特許庁

The guide part is provided with a first hole and a second hole in two longitudinal parts in the mounting direction of the process cartridge, and the bottom parts of the first and second holes are provided with a first biasing part acting on the first biased part, and a second biasing part acting on the second biased part, respectively.例文帳に追加

さらに、ガイド部には、プロセスカートリッジの装着方向の長手２箇所において、第一穴部と第二穴部を設け、それぞれの底部に第一被付勢部に作用する第一付勢部と、第二被付勢部に作用する第二付勢部を設ける。 - 特許庁

This growth method possesses a process of selectively forming a first surface 1 on the surface of a first nitride semiconductor 1 and a second surface 2 larger in the growth speed of a nitride semiconductor than that first surface, and a process of growing the a second nitride semiconductor 12 on the first surface 1 and the second surface of the first nitride semiconductor 1.例文帳に追加

第１の窒化物半導体１１表面に、選択的に第１の表面１と、該第１の表面１よりも窒化物半導体の成長速度の大きい第２の表面２とを形成する工程と、該工程の後、第１の窒化物半導体１１の第１の表面１及び第２の表面２に第２の窒化物半導体１２を成長させる工程とを具備してなることを特徴とする。 - 特許庁

A cell selection method includes: a process A for judging whether a first CSG cell satisfies predetermined conditions or not when a mobile station UE has a first macrocell as a standby cell; and a process B of changing the standby cell from the first macrocell to a first CSG cell when the mobile station UE judges that the first CSG cell satisfies the predetermined conditions.例文帳に追加

本発明に係るセル選択方法は、移動局ＵＥが、第１マクロセルを待ち受けセルとしている場合に、第１ＣＳＧセルが所定条件を満たすか否かについて判断する工程Ａと、移動局ＵＥが、第１ＣＳＧセルが所定条件を満たすと判断した場合、待ち受けセルを第１マクロセルから第１ＣＳＧセルに変更する工程Ｂとを有する。 - 特許庁

At the point of time when the first machining process by a laser beam is finished, the image of places including both a shape changed portion formed by the machining process and the edge part of the substrate are obtained, and the image is utilized for the alignment process before the machining process in the next time or later.例文帳に追加

レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、その加工処理によって形成された形状変化部分と基板の縁部の両方を含む箇所の画像を取得し、その画像を次回以降の加工処理前のアライメント処理に利用するようにした。 - 特許庁

A process management apparatus capable of editing processes includes a log recording means for recording execution results of processes as a log, and a first process definition registering means for registering a process definition as a process template reconfigured based on the log.例文帳に追加

プロセスを編集可能なプロセス管理装置であって、プロセスの実行結果をログとして記録するログ記録手段と、ログに基づいて再構成された、プロセスのテンプレートであるプロセス定義を、登録する第一プロセス定義登録手段と、を有することによって上記課題を解決する。 - 特許庁

A drying process includes a first hopper 11, a pusher 14 and a dryer 16, a thermal decomposition process includes a second hopper 18, a pusher 19 and a thermal decomposition furnace 22, and the final waste treating process, i.e., a melting process, includes a third hopper 24, a rotary feeder 26 and a melting furnace 40.例文帳に追加

乾燥工程は、第一ホッパ１１とプッシャー１４と乾燥器１６とを有し、熱分解工程は、第二ホッパ１８とプッシャー１９と熱分解炉２２とを有し、廃棄物の最終処理工程である溶融工程は、第三ホッパ２４とロータリーフィーダ２６と溶融炉４０とを有している。 - 特許庁

When completed products in a fourth process as a final process are taken, two pieces of identification signs (urgent production instruction signs and product identification signs) are removed and sent to a leveling sign post 26 in a first process as a leading process (S200).例文帳に追加

最終工程の第４工程の完成品が引き取られる際に、当該完成品に添付されている２枚の識別標識（特急生産指示標識及び製品識別標識）が取り外され、先頭工程である第１工程の平準化標識ポスト２６に送られる（Ｓ２００）。 - 特許庁

High temperature thermal crimping in a cover film pasting process and a reinforcement plate sticking process is made possible by treating an anisotropic conductive adhesive layer forming process in the first connecting part as a later process than other processes, and reliability of a second connecting part is enhanced by using a heat resistant material.例文帳に追加

第１接続部における異方導電性接着剤層形成工程を他の工程より後工程とすることにより、カバーフィルム貼り合わせ工程及び補強板接着工程での高温加熱圧着を可能とし、耐熱性材料を用いることにより、第２接続部の信頼性を高める。 - 特許庁

The method for treating the waste oil recovered in the power station oil separation tank has the first process for transporting the waste oil into a reaction device, the second process for mixing the waste oil with sodium silicate and then with calcium oxide in the reaction device, and the third process for discharging the mixture after the second process.例文帳に追加

油分離槽回収廃油を反応装置に搬送する第１工程と，反応装置内で油分離槽回収廃油に珪酸ナトリウムを混合した後，酸化カルシウムを混合する第２工程と，第２工程後の混合物を排出する第３工程とを，有する。 - 特許庁

This method for manufacturing the filter pack 1 provided with the filter medium 3 worked into a wavy shape and a spacer 5 provided on the surface of the filter medium 3 comprises a first process, a second process, a third process and a fourth process.例文帳に追加

このフィルタパック１の製造方法は、波型形状に加工されたフィルタ濾材３と、フィルタ濾材３の表面に設けられるスペーサ５とを備えたフィルタパック１を製造するための方法であって、第１工程と、第２工程と、第３工程と、第４工程とを備えている。 - 特許庁

If an ROP process which cannot be processed by a second drawing process section 22 is included in a drawing process for one band, a first drawing section 13 performs drawing process for the band and replace it with a drawing command by which image data for one band are made to grow to draw the image data.例文帳に追加

第１の描画処理部１３は、１バンド分の描画命令中に第２の描画処理部２２で処理不能なＲＯＰ処理が含まれていれば、そのバンドの描画処理を行い、１バンド分の画像データを生成して、その画像データを描画する描画命令に置き換える。 - 特許庁

This simulation method comprises a first process where conditions for carrying out a simulation computation are set, a second process where a simulation computation is carried out resting on the set conditions, and a third process where the setting of a computation resource volume is changed for each prescribed process, while a simulation computation is being carried out.例文帳に追加

また、本発明のシミュレーション方法は、シミュレーション計算を行うための条件を設定する工程と、設定された条件に基づきシミュレーション計算を行う工程と、シミュレーション計算の実行中の所定ステップ毎に計算リソース量の設定を変更する工程とを備えている。 - 特許庁

A processing chamber (100) for performing atomic layer deposition (ALD), a substrate holder (120) provided within the process chamber, and a gas injection system (140) configured to supply a first process gas and a second process gas to the process chamber (100) are included in the subject apparatus.例文帳に追加

処理チャンバ（１００）と、前記処理チャンバ内に設けられた基板ホルダ（１２０）と、前記処理チャンバ（１００）に、第１のプロセスガス及び第２のプロセスガスを供給するように構成されたガス注入装置（１４０）とを含む、原子層堆積（ＡＬＤ）を実行する処理システム（１００）。 - 特許庁

Ferrous metal pieces are taken out of the crushed matter obtained in a primary crushing process 3 in a magnetic force sorting process 4 and the crushed matter is separated into ultralight matter such as a film, foamed polystyrene, sponge and plastics other than the same in a first air sorting process 5a and a second air sorting process 5b.例文帳に追加

１次破砕工程３にて破砕された破砕物から鉄系金属片を磁力選別工程４にて取り出し、第１の風力選別工程５ａと第２の風力選別工程５ｂにて破砕物からフイルム、発泡スチロール、スポンジなどの超軽量物とそれ以外のプラスチックとに分離する。 - 特許庁

In this case, the method is provided with a non-protonizing process for converting the electrolytic group of the solid polymer electrolyte to a halide group or a metal salt before the first fluorination process and with a protonizing process for converting the halide group or the metal salt to the electrolytic group after the fluorination process.例文帳に追加

この場合、第１フッ素化工程の前に、固体高分子電解質の電解質基をハライド基又は金属塩に変換する非プロトン化工程と、第１フッ素化工程の後に、ハライド基又は前記金属塩を電解質基に変換するプロトン化工程をさらに備えていても良い。 - 特許庁

The following processes are performed in sequence: an application process for applying a condensation reactant between a polysiloxane compound and silica particles to a substrate including a trench structure as a first process, a burning process for burning the applied condensation reactant and forming the insulating film as a second process, and a hydrophobic treatment process for subjecting the surface of the insulating film to a hydrophobic treatment agent as a third process.例文帳に追加

第一の工程としてポリシロキサン化合物とシリカ粒子との縮合反応物をトレンチ構造を含む基板に塗布する塗布工程と、第二の工程として前記塗布された縮合反応物を焼成して絶縁膜を形成する焼成工程と、第三の工程として前記絶縁膜の表面を疎水化処理剤にさらす疎水化処理工程を順に行う。 - 特許庁

The method for controlling a batch process is configured including a step for generating estimates of real time variables that can not be measured in the batch process using a first principles model, a step for providing the estimates to the process control routine for controlling the batch process, and a step for generating a signal based on the estimates using the process control routine for controlling the batch process.例文帳に追加

第１の原理モデルを用いて、バッチプロセスの測定不可能なリアルタイム変数の推定値を発生するステップと、前記推定値を前記バッチプロセスを制御するためのプロセス制御ルーチンに提供するステップと、前記バッチプロセスを制御するために、前記プロセス制御ルーチンを用いて、前記推定値に基づいて信号を発生するステップとを含む、バッチプロセスを制御する方法。 - 特許庁

The aromatic hydrocarbon production method comprising a reaction process for causing a hydrocarbon to react in the presence of a catalyst to form an aromatic hydrocarbon and a regeneration process for regenerating the catalyst used in the reaction process is characterized in that the regeneration process comprises a first regeneration process using a reductive gas and a second regeneration process using an oxidative gas.例文帳に追加

炭化水素を触媒の存在下で反応させて芳香族炭化水素を製造する反応工程と、該反応工程で使用された触媒を再生する再生工程とを備える芳香族炭化水素の製造方法において、再生工程が、還元性ガスによる第１の再生工程と、酸化性ガスによる第２の再生工程とを有する芳香族炭化水素の製造方法。 - 特許庁

This method of manufacturing the pneumatic tire includes: a first process of manufacturing the inner liner rubber member using butyl rubber; a second process of forming an unvulcanized tire by using the inner liner rubber member; a third process of vulcanizing the unvulcanized tire; and a fourth process of removing oil included in the inner liner rubber member before the second process or the inner liner rubber member of the unvulcanized tire after the third process.例文帳に追加

空気入りタイヤの作製方法は、ブチルゴムを用いてインナーライナゴム部材を作製する第１工程と、前記インナーライナゴム部材を用いて、未加硫タイヤを成形する第２工程と、前記未加硫タイヤを加硫する第３工程と、前記第２工程前の前記インナーライナゴム部材あるいは、前記第３工程後の加硫済みタイヤのインナーライナゴム部材に含まれるオイルを除去する第４工程を有する。 - 特許庁