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FIRST PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5620件
In an after heating process after the splicing process, the additive is diffused by heating the area including the fusion splicing point 3 between the first optical fiber 1 and the second optical fiber 2.例文帳に追加
融着工程の後の後加熱工程において、第1の光ファイバ1と第2の光ファイバ2との間の融着接続点3を含む領域を加熱して添加物を拡散させる。 - 特許庁
In a process 7, a ferrite permanent magnet molded body is heated up to a burning temperature Ta of 1,250°C at a temperature rise rate of 200°C/h and kept at the burning temperature Ta for two hours (first burning process).例文帳に追加
工程7で、フェライト系永久磁石の成形体を昇温速度200℃/hで昇温し、焼成温度Ta=1250℃で2時間保持する(第1回目の焼成)。 - 特許庁
The method of arranging elements comprises a transfer process of transferring elements arranged on a first substrate onto a second substrate, and a stretching process of stretching the second substrate to separate the elements arranged on the second substrate.例文帳に追加
第一基板に配列された素子を第二基板に転写する転写工程と、第二基板を延伸して第二基板上に配列された素子を離間させる延伸工程とを有する。 - 特許庁
The electrode 28 is formed through two processes, a first process where an Al-Si thin film is formed on the semiconductor layer 23 and a second process, where the Al-Si thin film is partially removed by etching.例文帳に追加
電極28は、半導体層23上にAl−Siから成る薄膜の成膜する工程と、該薄膜の一部分をエッチング処理によって除去する工程とによって構成される。 - 特許庁
Regardless of the operating state of an image forming apparatus before its start, a common processing is first performed as the process of starting the engine at the same time as the process of starting the controller.例文帳に追加
本発明は、起動前の画像形成装置の動作状態に関わらず、エンジン部の起動時の処理として、まず、コントローラ部の起動処理と同時に、共通処理を実行する。 - 特許庁
The radiographic equipment may also have a subtraction process part for generating an energy subtraction image by subjecting the first and second sectional images generated with different irradiation energy to the subtraction process.例文帳に追加
さらに、異なる照射エネルギーで生成した第1の断面画像及び第2の断面画像をサブトラクション処理したエネルギーサブトラクション画像を生成するサブトラクション処理部を具備してもよい。 - 特許庁
After the end of this first stage, the cup part is drawn into a working process channel (38) by using an ironing process mandrel (59) to be formed to a workpiece in which the ironing is processed.例文帳に追加
この第1の段階の終了後、カップ部は、しごき加工マンドレル(59)を用いてしごき加工チャネル(38)の中へ絞り込まれ、そして、しごき加工されたワークピースに形成される。 - 特許庁
This method of removing the chemical substances comprises a first process for physically treating a water sample, and a second process for bringing the physically treated water sample into contact with an adsorbent.例文帳に追加
化学物質の除去方法が、該水試料に物理的処理を施す第1の工程、及び、物理的処理された水試料を吸着剤に接触させる第2の工程からなる。 - 特許庁
A moving process for relatively moving conductor aggregates CG along a first path R1, and an assembly process moving and assembling the conductor aggregates CG along a second path R2 are conducted regarding the conductor aggregates CG.例文帳に追加
導線集積体CGについて、第1経路R1に沿って相対移動させる移動工程と、第2経路R2に沿って移動させて組み付ける組付工程とを行う。 - 特許庁
The manufacturing method of the polymer composition comprises a first process for heating/kneading at least a polymer and a filler in the presence of a gas and a second process for extracting the gas from the kneaded product.例文帳に追加
ガス存在下で少なくとも高分子とフィラーとを加熱混練する第一工程と、混練物からガスを抜く第二工程とを有する高分子組成物の製造方法とする。 - 特許庁
In a side oriented configuration, an electrophotographic image forming apparatus comprises a guide means 51 between a first casing part 7 and a second casing part 9 of a process cartridge P for improving usability of process cartridge loading.例文帳に追加
サイドオリエント構成において、プロセスカートリッジ装着のユーザビリティー性向上のため、プロセスカートリッジPの第一の筐体部7と第二の筐体部9の間にガイド手段51を設ける。 - 特許庁
Then, as the reflection preventing film, one whose etching rate is higher than that of the photoresist is used in the first etching process, and one whose etching rate is lower than that of the base substrate is used in the second etching process.例文帳に追加
そして、反射防止膜として、第1のエッチング工程ではフォトレジストよりもエッチングレートが高く、第2のエッチング工程では下地基板よりもエッチングレートが低いものを用いる。 - 特許庁
For list-decoding data coded in a coding system 1 not suited to the list decoding, a change process of interpolating points is executed in an interpolating process being a first procedure of the list-decoding.例文帳に追加
リスト復号に適していない符号化方式1で符号化されたデータをリスト復号する場合、リスト復号の1手順である補間処理において、補間点の変更の処理が実行される。 - 特許庁
When anomalous data is detected by a first threshold process on the data, the trigger generation means generates a trigger by a second threshold process on the data excluding the anomalous data.例文帳に追加
トリガ生成手段は、前記データに対する第1の閾値処理によって異常データが検出された場合に、前記異常データを除くデータに対する第2の閾値処理によってトリガを生成する。 - 特許庁
Before introducing the blank material in the first process 21, a lubricating treatment 23 is performed, and before introducing the blank material in the second process 22, a softening treatment 20 and a lubricating treatment 25 are performed.例文帳に追加
第1工程21におけるブランク材投入前に、潤滑処理23を行い、第2工程22における素材投入前に、軟化処理24と潤滑処理25とを行う。 - 特許庁
The deposition temperature in the first process can be made lower than the deposition temperature in the second process, as the vapor phase deposition technology, for example, an atomic layer deposition method is used.例文帳に追加
第1の工程における成膜温度を、第2の工程における成膜温度より低い温度とすることができ、気相成膜技術としては、例えば原子層堆積法を用いる。 - 特許庁
A control part of the electronic apparatus detects the ON of the second switch 12 and preparing process of power supply ON is carried out, and the power supply ON process is carried out when ON of the first switch 11 is detected.例文帳に追加
電子機器の制御部は、第二スイッチ12のオンを検出して電源オンの準備処理を行い、第一スイッチ11のオンを検出したときに電源オン処理を実行する。 - 特許庁
It is determined whether the second order constraint is satisfied or not between the working process at the end of the first cluster and the working process at the head of the second cluster.例文帳に追加
そして、第1クラスタの末尾の加工工程と第1クラスタの次に配列された第2クラスタの先頭の加工工程との間で第2順序制約が満たされるか否かを判断する。 - 特許庁
Thin plated layers 7 are formed on base layers 6 derived from conductive metallic foils 9 and the inner wall face of a hole 10 by the first plating process to be executed after a desmear process.例文帳に追加
デスミア工程後になされる第1のめっき工程にて、導電性金属箔9に由来する下地層6及び孔10の内壁面に薄付けめっき層7を形成する。 - 特許庁
A voltage control circuit (42A) acts so as to repeat the process of gradually reducing an adaptor voltage (V_ADP) and a process of raising the adaptor voltage as a first step, in response to the detection signal.例文帳に追加
電圧制御回路(42A)は、アダプタ電圧(V_ADP)を徐々に落とす工程と、検出信号に応答して一旦アダプタ電圧を上昇させる工程とを繰り返すように動作する。 - 特許庁
In a second leak inspection process S6, a third reverse bias voltage substantially equal to the first reverse bias voltage is impressed after the stress impression process S5 for measuring a second leak current value.例文帳に追加
第2のリーク検査工程S6は、ストレス印加工程S5後に、前記第1の逆バイアス電圧と略同等な第3の逆バイアス電圧を印加し、第2の漏れ電流値を計測する。 - 特許庁
The first tuning element collects data during an automatic tuning procedure, determines a process characteristic and transmits the determined process characteristic to the second tuning element via the communication network.例文帳に追加
第1のチューニング要素は、自動チューニング手続きの間にデータを集め、プロセス特性を決定し、通信ネットワークによって、決定されたプロセス特性を第2のチューニング要素に伝える。 - 特許庁
The method for manufacturing the resin lens by press-molding a lens intermediate body to be the lens includes a first process and a second process.例文帳に追加
本発明に係るレンズの製造方法は、樹脂製のレンズを、該レンズとなるレンズ中間体に対してプレス成型を施して製造する方法であって、第1工程と第2工程とを有している。 - 特許庁
A coating process is performed after a first etching process, and thereby the side face of a layer 21 to be treated formed by side-etching can be coated with a resist layer 28.例文帳に追加
第1エッチング処理工程の後に、被覆処理工程を行うことによって、サイドエッチによって形成される被処理層21の側面をレジスト層28によって被覆することができる。 - 特許庁
Further, the noise processing means interlockingly sets an adjustment value of a noise processing level of the first noise reduction process and an adjustment value of a noise processing level of the second noise reduction process.例文帳に追加
ノイズ処理手段は、さらに、第一のノイズ低減処理のノイズ処理レベルの調整値と第二のノイズ低減処理のノイズ処理レベルの調整値とを連動させて設定する。 - 特許庁
This defect repairing method comprises a first process of eliminating a part or the whole of impurities existing inside a defect, and a second process of sealing the defect.例文帳に追加
本発明の欠陥補修方法は、欠陥の内部に存在する不純物の一部あるいは全部を除去する第1の工程と、前記欠陥を封止する第2の工程とを有する。 - 特許庁
In addition, the inclination of the valve member 51 and the ink leakage can be visually determined through a first inspection hole 72, and therefore, defective products can be easily discovered in a manufacturing process and a shipping process.例文帳に追加
また、第1確認穴72から、弁部材51の傾斜又はインク漏れを目視で確認でき、製造過程及び出荷過程において不良品を容易に発見することができる。 - 特許庁
Next, an oxidization process is executed for oxidizing a boron silicide, which is generated on the surface of the monocrystalline silicon wafer 1 by the first thermal diffusion process, and changing it into boron silicate glass.例文帳に追加
次に、前記第1の熱拡散工程により前記シリコン単結晶基板1の表面に発生したボロンシリサイドを酸化してボロンシリケートガラスに変化させる酸化工程を行う。 - 特許庁
To provide a method and device based on a dry process developing process at first sight for developing the parts of photosensitive media having exposed and undeveloped images at the upper part.例文帳に追加
露光された未現像の画像を上に有する感光性媒体の部分を現像するための、一見したところ乾式現像プロセスに基づく、方法および装置を提供する。 - 特許庁
In a step S_3, an exposure simulation for using the first and second exposing methods is performed for all pattern of the mask patterns, to check the degree of a process margin (process tolerance).例文帳に追加
ステップS_3 では、第1及び第2の露光方法を使ったときの古老シミュレーションをマスクパターンの全パターンに対してそれぞれ行い、プロセスマージン(プロセス裕度)の大小を確認する。 - 特許庁
A packet processing section 23 searches a routing process management table 24 for the first packet of communication data to discriminate whether or not a routing process 27 for the same destination is present.例文帳に追加
通信データの最初のパケットについて、パケット処理部23が、ルーティングプロセス管理テーブル24を検索し、同一宛先のルーティングプロセス27が存在しているか否かを判定する。 - 特許庁
In an ultrapure-water rinsing process (a chemical washing process is contained as required), the silicon wafer is treated by second ultrapure water having a TOC value smaller than the first ultrapure water.例文帳に追加
また、超純水リンス工程(必要により薬液洗浄工程を含む)では、第1の超純水に比べてTOC値が小さい第2の超純水によりシリコンウェーハを処理する。 - 特許庁
A logical folder with a reference pointer to information to be processed registered is split into a portion to be passed to the first additional work process and a portion to be passed to the second additional work process.例文帳に追加
処理すべき情報への参照ポインターを登録した論理的なフォルダーを、第1の追加作業工程に渡すものと、第2の追加作業工程に渡すものとに分割する。 - 特許庁
First an estimated load for the unit process of each kind in a succeeding processing set is estimated on the basis of an execution result of each unit processing included in the set of the process executed just before.例文帳に追加
まず、直前に実行された処理集合に含まれる各単位処理の実行結果に基づいて、次の処理集合における各種類の単位処理の見積もり負荷を見積もる。 - 特許庁
When a start switch is turned on, a system check 120 is executed; and when abnormality is detected in the system check 120, a stopping process is executed according to a first stopping process pattern 122a.例文帳に追加
起動スイッチがオンされると、システムチェック120が行われ、このシステムチェック120で異常が検出されると、第1停止処理パターン122aに従って、停止処理が遂行される。 - 特許庁
The second body frame 5 selected in the first process is cut at parts Cp1 to Cp6 based on the plan, whereby a part including pivots 9 is cut off (a third process).例文帳に追加
次に、第1の工程で選択された第2の車体フレーム5を、上記プランに基づいてピボット部9を含む一部を部位Cp1〜Cp6でカットして切り離す(第3の工程)。 - 特許庁
The first tuning element collects data during an automatic tuning procedure, decides a process characteristic and transmits the decided process characteristic to the second tuning element 71 by the communication network.例文帳に追加
第1のチューニング要素は、自動チューニング手続きの間にデータを集め、プロセス特性を決定し、通信ネットワークによって、決定されたプロセス特性を第2のチューニング要素に伝える。 - 特許庁
As the first nonwoven fabric, a nonwoven fabric produced by a dry process is preferably used, and as the second nonwoven fabric, a nonwoven fabric or paper produced by a wet process is preferably used.例文帳に追加
第一不織布としては乾式法にて製造された不織布が好適に用いられ、第二不織布としては湿式法にて製造された不織布又は紙が好適に用いられる。 - 特許庁
A peak P becomes a boundary and in the rising process of the ball, the mark is changed in a first color in an expanding direction and in the falling process of the ball, the mark is changed in a second color in a reducing direction.例文帳に追加
ピークPを境に、ボールの上昇過程ではマークは第一色にて拡大方向に変更され、ボールの下降過程ではマークは第二色にて縮小方向に変更される。 - 特許庁
Further, the method of treating the surplus sludge in a wastewater treatment process is applied to perform the membrane separation of the sludge, remove the phosphorus in the membrane permeated water and return the sludge to the first process.例文帳に追加
さらにまた、汚泥の膜分離を行うとともに、膜透過水中のリン除去を行って第一工程に返送する排水処理工程における余剰汚泥の処理方法。 - 特許庁
As a second means, the process for pressurizing and energizing the magnetic powder in a first means is a process which is carried out while orienting the magnetic powder according to an external magnetic field.例文帳に追加
また第二の手段として、第一の手段において、磁性粉を加圧及び通電する工程は、外部磁界により磁性粉を配向させながら行う工程であることを特徴とする。 - 特許庁
To prepare a production plan for maximizing a production amount by performing batch processing not only in a first process but also in a middle process and also considering the processing ability of each equipment.例文帳に追加
最初の工程のみではなく途中の工程でもバッチ処理を行い、かつ、各設備の処理能力を考慮して、生産量が最大化されるような生産計画を作成する。 - 特許庁
The plate material processing system consists of a plate material processing machine 1 which processes a plate material W as the first half process and a plate material processing machine 2 which receives the material W transported from the machine 1 and carry out the additional processing as the second half process.例文帳に追加
前工程の板材加工機1で加工された板材Wを後工程の板材加工機2に渡して続きの加工を行わせる板材加工システムとする。 - 特許庁
In the method for producing the multi-layer composite material having at least one color, numbers of acrylic resin layers are unified, cured partially in the first process, and cured completely in the second process.例文帳に追加
1種以上の色を有する多層複合材料の製造法は、多くのアクリル樹脂層を一つに合わせ、第一工程で部分的に硬化させ、第二工程で完全に硬化させる。 - 特許庁
A process management manager 111 retrieves a system process database and generates a first network workflow showing the entire available workflows to generate a template of a designated product.例文帳に追加
工程管理マネージャ111は、システムプロセスデータベースを検索して、指定される製品のテンプレートを生成するために使用可能な全てのワークフローを示す第1の網状ワークフローを生成する。 - 特許庁
The process of forming the first semiconductor laser element section 10 includes a process of making the thickness of the p-type second cladding layer 16 smaller than that of the p-type second cladding layer 26.例文帳に追加
また、第1半導体レーザ素子部10を形成する工程は、p型第2クラッド層16を、p型第2クラッド層26の厚みよりも小さい厚みに形成する工程を含んでいる。 - 特許庁
The control device performs the bubble detection process after performing the first jet process in which the washing pump is operated and cleaning fluid is spouted through the washing nozzle in the washing tank.例文帳に追加
制御装置は、洗浄ポンプを作動させて洗浄ノズルから洗浄槽内に洗浄水を噴出する第1噴出行程を実行した後に、泡検出処理を実行する。 - 特許庁
The resist processing apparatus and a resist processing method are constituted in such a way that processing is implemented by a first process of ashing chiefly taking oxygen ion and a second process of ashing chiefly taking oxygen radical.例文帳に追加
酸素イオンを主体としたアッシングの第一の工程と酸素ラジカルを主体としたアッシングの第二の工程によって処理を行うレジスト処理装置およびレジスト処理方法。 - 特許庁
The side face of the processed layer A3 formed by the side etching can be coated with a resist layer 1 by carrying out a coating treatment process after a first etching treatment process.例文帳に追加
第1エッチング処理工程の後に、被覆処理工程を行うことによって、サイドエッチによって形成される被処理層A3の側面をレジスト層1によって被覆することができる。 - 特許庁
The process step for manufacturing the same includes a process step for bonding and adhering the first lens element 1 and the second lens element 2 in the state of holding the polarizing film 3 in-between.例文帳に追加
そしてその製造工程は、前記第一のレンズ要素1と前記第二のレンズ要素2とを該偏光フィルム3を挟んだ状態で貼り合わせて接着する工程を含む。 - 特許庁
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