| 例文 |
FIRST PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5620件
The first bonding process is to be carried out in a manner that, in a direction x to which the first wiring material 11a extends, the first tool 31 is arranged so that the both ends of the first tool 31 position outside the both ends of a portion where the first wiring material 11a faces the first solar cell 10A with the resin adhesive 12a in between.例文帳に追加
第1の配線材11aの延びる方向xにおいて、第1のツール31の両端部が第1の配線材11aの第1の太陽電池10Aと樹脂接着剤12aを介して対向している部分の両端よりも外側に位置するように第1のツール31を配置して第1の接着工程を行う。 - 特許庁
In the processing device which has a first processing means capable of executing a plurality of processes in time division and a second processing means capable of executing a plurality of processes in time division, when a process to be executed is a predetermined specific process, the process already allocated to the first processing means is reallocated to the second processing means, and the specific process is allocated to the first processing means.例文帳に追加
複数の処理を時分割で実行することが可能な第1の処理手段と複数の処理を時分割で実行することが可能な第2の処理手段とを有する処理装置において、実行すべき処理が予め決められた特定の処理である場合には、第1の処理手段にすでに割り当てられている処理を第2の処理手段に割り当て直すとともに、特定の処理を第1の処理手段に割り当てる。 - 特許庁
The object detection method and apparatus include a first detection process for detecting a first image, a second detection area setting process for setting a detection area of a second image, a second detection process for detecting the detection area, and a determination process for determining object detection on the basis of the detection results of the first and second detection processes.例文帳に追加
第1の画像に対する第1の検出工程と、前記検出工程での検出情報に基づいて、第2の画像に対する検出領域を設定する第2の検出領域設定工程と、前記検出領域に対する第2の検出工程と、前記第1及び第2の検出工程における検出結果に基づいて、オブジェクト検出を判定する判定工程とを含むことを特徴とするオブジェクト検出方法及び装置。 - 特許庁
The background calculation process includes a first calculation process for calculating the first background of a block which divides the processing target region from the two-dimensional arrangement data contained in the block, a second calculation process for calculating the second background of the other point in the block from the calculated background of the block, and a third calculation process for calculating the background of the processing target region as a whole.例文帳に追加
バックグランド算出工程は、処理対象領域を分割するブロックに含まれる二次元配列データからそのブロックの第1のバックグランドを算出する第1算出工程と、算出したブロックのバックグランドから、そのブロック内の他の点の第2のバックグランドを算出する第2算出工程と、処理対象領域全体のバックグランドを算出する第3算出工程とを備える。 - 特許庁
The system outputs display of the position of the tool along the first axis (98), outputs display of the process along the second axis (100), outputs display indicating that the tool satisfies the process as to the first axis and the second axis, when the tool data satisfy the process definition, and a user can thereby select the position for carrying out the process.例文帳に追加
システムは、第一の軸に沿ってツールの位置の表示を出力し98、第二の軸に沿って工程の表示を出力し100、そして、もしツール・データが工程定義を満たすならば、ツールが工程を満たすことを示す表示を、第一の軸と第二の軸に関して出力し104、それにより、ユーザーに工程を実行するための位置を選択可能にさせる。 - 特許庁
There is provided a method including: a first heating process of heating a synthetic quartz glass at a first temperature in a hydrogen-containing atmosphere; a second heating process of heating the glass at a second temperature equal to or higher than the first one in a hydrogen-free atmosphere; and a third heating process of heating the glass at a third temperature equal to or lower than the second temperature in a hydrogen-containing atmosphere.例文帳に追加
合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第1温度で加熱する第1加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第1温度以上の第2温度で加熱する第2加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第2温度以下の第3温度で加熱する第3加熱工程と、を有する。 - 特許庁
The manufacturing method of a semiconductor comprises a first process to form an insulating film including metal oxide on an Si substrate, a second process to form a first electrode layer constituted of amorphous Si on the insulating film and a third process to form a second electrode layer constituted of multi-crystal Si on the first electrode layer.例文帳に追加
Si基板上に金属酸化物を含む絶縁膜を形成する第1の工程と、前記絶縁膜上に非晶質Siからなる第1の電極層を成膜する第2の工程と、前記第1の電極層上に多結晶Siからなる第2の電極層を成膜する第3の工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法を用いる。 - 特許庁
The method is to comprise a process of manufacturing a first semiconductor layer including a layer where a lattice constant is different from a substrate on the substrate, a process of forming a porous layer on the surface of the first semiconductor layer, and a process of laminating a second semiconductor layer that is the same as the lattice constant of a first semiconductor layer surface, before forming a porous layer on the porous.例文帳に追加
本発明は、基板上に基板とは格子定数の異なる層を含んだ第一の半導体層を作製する工程と、該第一の半導体層の表面に多孔質層を形成する工程と、該多孔質上に多孔質化する前の該第一の半導体層表面の格子定数と同じ第二の半導体層を積層する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
A user side information process section 2 has a function for transmitting a first authentication number to an authentication side information process section 3 and a function for converting the first authentication number into a second authentication number based on a conversion rule 4 and using the second authentication number as a new first authentication number when receiving an access permission notice from the authentication side information process section 3.例文帳に追加
ユーザ側情報処理部2は、第一の認証用番号を認証側情報処理部3へ送信する機能と、認証側情報処理部3からアクセス許可通知を受信すると、変換則4を用いて第一の認証用番号を第二の認証用番号に変換し、第二の認証用番号を新たな第一の認証用番号とする機能とを有する。 - 特許庁
This system includes a process cranking the engine 2 without starting combustion by setting closure timing of the intake valve 41 to a predetermined first intake valve closure timing from a stroke before first intake stroke and after start demand to the engine 2, a process starting combustion after the first intake stroke, and a process retarding closure timing of the intake valve 41 in same cylinder cycle after start of the combustion.例文帳に追加
エンジン2への始動要求の後、最初の吸気行程よりも前の行程から吸気バルブ41の閉時期を所定の第1吸気閉弁時期とし、燃焼を開始することなくクランキングを行う工程と、前記最初の吸気行程の後に燃焼を開始する工程と、その燃焼の開始後に同一気筒サイクル内で吸気バルブ41の閉時期を遅角させる工程と、を有する。 - 特許庁
The above problem can be solved by comprising a process for forming a first optical transmissive film forming a column-like projection by spacing a prescribed interval on a semiconductor substrate, a process for forming a second optical transmissive film of the same material of the first optical transmissive film on the first optical transmissive film, and a process for irradiating argon ion toward the second optical transmissive film.例文帳に追加
半導体基板上に所定の間隔を隔てて柱状の突起部が形成された第1の光透過膜を形成する工程と、第1の光透過膜上に第1の光透過膜と同一の材料の第2の光透過膜を形成する工程と、第2の光透過膜に向けてアルゴンイオンを照射する工程と、を備えることで上記課題を解決することができる。 - 特許庁
The system has a first process step of selectively exposing the adhesive layers changed in adhesive strength by photoirradiation, a second process step of bringing the selectively exposed adhesive layers into contact with a thin-film element array existing on a first substrate, and a third process step of selectively transferring portions of the thin-film elements from the first substrate to the selectively exposed adhesive layers according to exposure patterns.例文帳に追加
光照射により接着力が変化する接着層を選択的に露光する第1の工程と、前記選択露光した接着層を第1の基体上にある薄膜素子アレイに接触させる第2の工程と、前記薄膜素子の一部を前記第1の基体から前記選択露光した接着層上に露光パターンに応じて選択的に移す第3の工程を有している。 - 特許庁
The manufacturing method of the electron emitting element comprises a first process of preparing a substrate on the surface of which, a first conductive film and a second conductive film are arranged with a certain distance, a second process applying an termination treatment to the first conductive film and the second conductive film by hydrogen through carbon, and a third process removing hydrogen terminating the second conductive film.例文帳に追加
電子放出素子の製造方法であって、第1導電膜と第2導電膜とが、その表面上に間隔を置いて配置された基板を用意する第1工程と、前記第1導電膜および第2導電膜に、炭素を介した水素による終端処理を行う第2工程と、前記第2の導電膜を終端する水素を除く第3工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
In the two-stage fermentation treatment method having a first process of generating the hydrogen and a solubilizing liquid by using solubilizing and hydrogen producing bacteria to cause the anaerobic fermentation of a waste bread-containing suspension in a first vessel and a second process of generating the methane by using methanogens to cause the anaerobic fermentation of the solubilizing liquid in a second vessel, half continuous culture is performed under stirring in the anaerobic fermentation in the first process.例文帳に追加
第一槽で可溶化・水素生成菌を用いて廃棄パン含有懸濁液を嫌気発酵して水素と可溶化液を生成する第1工程と、第二槽でメタン生成菌を用いて前記可溶化液を嫌気発酵してメタンを生成する第2工程とを有する二段発酵処理方法において、前記第1工程における嫌気発酵を、撹拌下に半連続培養する。 - 特許庁
This organic electronic device is manufactured by using: a first process for forming a polymer film from a polymer solution on a first surface of the substrate by casting; a second process for reducing the thickness of the substrate by etching a second surface located on the back side of the first surface of the substrate; and a third process for forming the organic electronic device on the surface of the polymer film formed by casting.例文帳に追加
基板の第一の表面上に高分子溶液から高分子膜をキャスティング成膜する第一工程と、基板の第一の表面の裏側にある第二の表面をエッチングして基板の厚みを薄くする第二工程と、キャスティング成膜した高分子膜の表面に有機電子デバイスを形成する第三工程を用いて有機電子デバイスを製造することとした。 - 特許庁
The working method comprises: a first compression process of compressing the timber to be worked; and a second compression process of clamping and compressing the timber compressed in the first compression process with a first mold having a section in contact with the timber, which section has at least either one of viscosity and elasticity and a second mold made of a metal.例文帳に追加
加工すべき木材を圧縮する一次圧縮工程と、前記一次圧縮工程で圧縮した木材を、少なくとも木材に当接する部分が粘性および弾性のうち少なくともいずれか一方の性質を備えた材質から成る第1の型枠と、金属から成る第2の型枠とによって木材を挟持して圧縮する二次圧縮工程と、を含む。 - 特許庁
A sample machining method includes a process for machining one portion of a sample 14 into a micro sample 6 by irradiating it with a first ion beam radiated from a first ion source for scanning; a process for separating the micro sample machined by the first ion beam from the sample; and a process for machining the micro sample 6 by using the second ion beam through irradiation with an ion beam from a second ion beam machining apparatus 17.例文帳に追加
第1のイオン源から放出される第1のイオンビームを照射し走査して試料14の一部をマイクロサンプル6に加工する手段と、前記第1のイオンビームにより加工された前記マイクロサンプルを前記試料から分離するプローブと、第2のイオンビーム加工装置17から照射し、前記マイクロサンプル6を前記第2のイオンビームを用いて加工する方法。 - 特許庁
The method is characterized as suppressing the growth of silicon single-crystal particles, by dividing the production process to form a polycrystalline silicon film 204 into a growing process of a first polycrystalline silicon film 204a and a growing production process of a second polycrystalline silicon film 204b.例文帳に追加
多結晶シリコン膜204を形成する工程を第1の多結晶シリコン膜204aの成長工程と第2の多結晶シリコン膜204bの成長工程とに分け、シリコン単結晶粒の成長を抑えたことを特徴とする。 - 特許庁
Then, a second KF positioning process using the location, the migrating speed, and the orientation of the cell-phone 1 determined from the first KF positioning process as observation information, where KF process is performed using the held orientation as observation information.例文帳に追加
そして、第1のKF測位処理により求めた携帯型電話機1の位置、移動速度及び方位を観測情報とする第2のKF測位処理を行って測位するが、この際、保持されている方位を観測情報としてKF処理を行う。 - 特許庁
To enhance print processing speed without performing duty control for a motor if the heat storage quantity of the motor being driven in a printing process is sufficiently low, when a next printing process is performed following to a first printing process.例文帳に追加
1回の印刷処理動作終了後次の印刷処理動作を行う場合、印刷処理の過程で駆動するモータの蓄熱量が充分に少ないときは、モータに対するデューティ制御を行わないことで印刷処理速度の向上を図る。 - 特許庁
The method has a first process of sintering organic sludge to form a large number of granules (1), a second process of supplying the granules (1) to a pipe (2) to be cleaned and a third process of making the granules (1) flow through the pipe (2).例文帳に追加
有機性汚泥を焼成して多数の粒体(1)を生成する工程と、生成された粒体(1)を清浄化するべき配管(2)に供給する工程と、供給された粒体(1)を清浄化するべき配管(2)に流過させる工程、とを有する。 - 特許庁
The raw material with a wood flour content of 70-95 wt.%, preferably, 80-85 wt.% is granulated in the first process and coold by air in the second process B and subjected to extrusion molding in the third process C.例文帳に追加
木粉の含有率が70重量%乃至95重量%、好ましくは80重量%乃至85重量%である原料を、第1の工程Aで造粒し、第2の工程Bで空冷し、第3の工程Bで押し出し成形する。 - 特許庁
The blood component collecting apparatus is configured to perform a plasma circulation process by operating a second solution sending pump without interrupting a plasma collecting process in the middle of the plasma collecting process being performed by operating a first solution sending pump.例文帳に追加
血液成分採取装置は、第1の送液ポンプを作動して、血漿採取工程を実行している途中で、その血漿採取工程を中断せずに、第2の送液ポンプを作動して、血漿循環工程を実行するように構成されている。 - 特許庁
This cleaning method of membrane module subjecting the water to be treated to flocculation treatment and then membrane filtration is constituted with a first process of performing acid cleaning, a second process of performing alkali cleaning and a third process of performing acid cleaning.例文帳に追加
被処理水を凝集処理して膜濾過する膜モジュールの洗浄方法において、酸洗浄する第1工程と、アルカリ洗浄する第2工程と、酸洗浄する第3工程とを有することを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。 - 特許庁
The system for manufacturing the wood flour type composite material is constituted of a Henschel mixer for performing a first process A, an air cooling device 2 for performing a second process B and a conical twin- screw extruder 3 for performing a third process C.例文帳に追加
木粉系複合材の製造システムは、第1の工程Aを実行するためのヘンシェルミキサー1、第2の工程Bを実行するための空冷装置2、及び第3の工程Cを実行するためのコニカル型二軸押出機3とで構成される。 - 特許庁
A compound machine creates first to third data tables containing adjustment values for adjusting the deviation from a reference position to an image write position of an image data for every copy process, scanning process and print process and stores the tables into a registration adjustment memory.例文帳に追加
複合機は、コピー処理、スキャナ処理、プリント処理毎に基準位置から画データの書き込み位置までのずれ又は読み込み位置までのずれを調整する調整値を含む第1〜第3データテーブルを作成し、レジ調整用メモリに記憶した。 - 特許庁
When the second order constraint is not satisfied, by searching other working process which satisfies the second order constraint respectively between the working process at the end and the working process at the head, it is arrayed at the next of the first cluster and before the second cluster.例文帳に追加
第2順序制約が満たされない場合には、当該末尾の加工工程および当該先頭の加工工程のそれぞれとの間で第2順序制約を満たす他の加工工程を探索し、第1クラスタの次かつ第2クラスタの前に配列する。 - 特許庁
The first computer starts to execute a monitoring process Ma, starting from the timing t1 as a start point of the job A and then ends the execution of the monitoring process Ma at an end point of the printing process Pa, in other words, with timing t2, when receiving a ready signal.例文帳に追加
第1コンピュータでは、ジョブAの開始点であるタイミングt1からモニタ処理Maを実行開始し、その後、印刷処理Paの終了点、即ち、レディ信号を受け取るタイミングt2でモニタ処理Maの実行を終了する。 - 特許庁
The first tuner part 123A being a master is used for a viewing process or a recording process, and the second tuner part 123B which is slave is used for an EPG acquisition process (in a state where power consumption is 100% in the lowermost line of Fig.4).例文帳に追加
そして、マスターである第1のチューナ部123Aは視聴処理または録画処理に使用され、またスレーブである第2のチューナ部123BはEPG取得処理に使用される(図4の最下段の消費電力100%の状態)。 - 特許庁
An injection process, a pressure holding process, and a measurement process are executed, the first core and the second core are retreated to initial positions, mold opening is carried out, a molding is taken out (ejected) from the mold, finishing one molding cycle (SA9-SA12).例文帳に追加
射出工程・保圧工程・計量工程を実行し、第1中子と第2中子とを初期位置まで後退し、型開きを実行し、金型内から成形品の取り出し(突き出し)を実行し、1成形サイクルを終了する(SA9〜SA12)。 - 特許庁
A first profile obtaining section (24) counts execution times of control operation by a cache control section (23) each combination of the process identifying information for the implementation target process of the central processing unit (21) and process identifying information sent from the other processor core.例文帳に追加
第1プロファイル取得部(24)は、中央処理装置(21)の実行対象処理の処理識別情報および別のプロセッサコアから送信された処理識別情報の組み合わせ毎に、キャッシュ制御部(23)による制御動作の実施回数をカウントする。 - 特許庁
The density of soil organism of the field 3 is detected correspondingly to natural electric potential obtained by the first process based on the correlation between soil organism density and natural electric potential judged by the third process in a fourth process.例文帳に追加
第4の工程で、第3の工程により判断された土壌生物密度と自然電位との相関関係に基づき、第1の工程により得られた自然電位に対応させて上記圃場3の土壌生物の密度を探知するようにしている。 - 特許庁
A method of classifying a ferrite magnet and its structure comprises a first process in which ferrite magnets and their structures are ground down, a second process in which the ground objects are cooled down to a temperature at which an inner magnetic field at a magnet operating point is reduced, and a third process in which an magnetic separating operation is carried out.例文帳に追加
フェライト磁石・その構造物を破砕する工程および磁石動作点の内部磁界が減じられる温度に冷却する工程を有し、この後に磁気分離する工程からなるフェライト磁石・その構造物の分別方法とする。 - 特許庁
The finishing method for a work comprises; a first process for performing carburize-quenching to the work; a second process for performing tempering to the carburize-quenched work; and a third process for applying forging to the work under state of keeping the tempering temperature.例文帳に追加
本発明によるワークの仕上げ加工方法は、ワークに浸炭焼入れする第一工程と、浸炭焼入れされたワークに焼戻しを行う第二工程と、焼戻し温度を維持した状態でワークに鍛造加工を行う第三工程とよりなる。 - 特許庁
This method for producing the lactic acid from the heavy metal-polluted plants by lactic acid fermentation is characterized by comprising the first process for crushing the plants, the second process for subjecting the crushed plants obtained in the first process to lactic acid fermentation using a diastatic enzyme and a lactic acid bacterium, and the third process for removing the heavy metal from the lactic acid fermentation solution obtained in the second process.例文帳に追加
重金属汚染植物を用いて、乳酸発酵により乳酸を製造する方法において、該植物を粉砕する第一の工程、該第一の工程で得られた粉砕植物を糖化酵素および乳酸菌を用いて乳酸発酵させる第二の工程および該第二の工程で得られた乳酸発酵液から重金属を除去する第三の工程を含むことを特徴とする重金属汚染植物から乳酸を製造する方法。 - 特許庁
The method icnludes: a first decomposition process decomposing bean curd refuse by cultivating Trichoderma or Clostridium with the bean curd refuse as a carbon source; a sterilization process sterilizing bean curd refuse decomposed matter produced by the first decomposition process; and a second decomposition process decomposing Trichoderma or Clostridium residing in sterilized matter by contacting the sterilized matter after the sterilization process with Lysobacter to cultivate the Lysobacter.例文帳に追加
おからを炭素源としてトリコデルマ(Trichoderma)またはクロストリジウム(Clostridium)を培養することで前記おからを分解する第1分解工程、前記第1分解工程で生じたおからの分解処理物を殺菌処理する殺菌工程、および前記殺菌工程後の殺菌処理物をリソバクター(Lysobacter)と接触させ、該リソバクター(Lysobacter)を培養することで、該殺菌処理物中に存在するトリコデルマ(Trichoderma)またはクロストリジウム(Clostridium)を分解する第2分解工程を有する。 - 特許庁
The composition for forming the rust preventive film is composed of a first process liquid containing the zirconium and fluorine compounds, a second process liquid containing the metallic ion and/or the metallic compound for successively treating the surface already treated by the first process liquid, and if required, a third process liquid containing silicate for treating the surface of the second rust preventive film, or the third process liquid mainly containing polymer.例文帳に追加
ジルコニウム化合物とフッ素化合物を含有する第1処理液と、第1処理液で処理した表面を引き続き処理するための金属イオンおよび/または金属化合物を含有する第2処理液と、必要に応じて前記第2防錆皮膜の表面を処理するための珪酸塩を含有する第3処理液あるいはポリマーを主として含有する第3処理液とからなる防錆皮膜形成用組成物により課題を解決できる。 - 特許庁
This method for capturing particles into a liquid droplet includes a process of discharging a first liquid droplet D1 composed of a first liquid S from a nozzle 12 by an inkjet technique; and a process of passing the first liquid droplet D1 through a liquid membrane F composed of a second liquid mixed with particles C to make the first droplet into a second liquid droplet D2 in which the particles C are captured into the first liquid droplet D1.例文帳に追加
第一液体Sからなる第一液滴D1をインクジェット法によりノズル12から吐出する工程と、第一液滴D1を粒子Cが混入されている第二液体からなる液膜Fに通過させて、第一液滴中D1に粒子Cを取り込まれた第二液滴D2にする工程と、を含むことを特徴とする液滴中に粒子を取り込む方法を提供する。 - 特許庁
A first locking part 59 (first locking part for front stop) which regulates movement of a detecting member 50 from a waiting position to a detection position by locking with a first stopper 17 (first stopper for front stop) and is separated from the first stopper 17 in an engagement process of both the connector housings 10, 70 is formed in an arm portion 56 of the detecting member 50.例文帳に追加
検知部材50のアーム部56には、第1ストッパ17(第1前止まり用ストッパ)に係止することで検知部材50の待機位置から検知位置への移動を規制し、両コネクタハウジング10,70の嵌合過程で第1ストッパ17から解離する第1係止部59(第1前止まり用係止部)を形成した。 - 特許庁
The wastewater treatment apparatus includes a process for introducing the water flowing out of a first sedimentation basin 11 into an anaerobic tank 2 to anaerobically treat the same with microorganisms and a sludge circulating means for circulating a part of sludge first sedimented in the first sedimentation basin 11 to the water in the first sedimentation basin 11 is provided to the first sedimentation basin 11.例文帳に追加
最初沈殿池11の流出水を嫌気槽12に導入して微生物による嫌気処理を行う工程を含む排水処理装置において、前記最初沈殿池11に、該最初沈殿池で沈殿した初沈汚泥の一部を最初沈殿池内の水中に循環させる汚泥循環手段を設ける。 - 特許庁
Treatment method for preventing scattering of asbestos comprises a first process for feeding asbestos, an asbestos-containing subsidiary material, and thermoplastic resin components, a second process for crushing and mixing the fed materials, a third process preferably including a process mixing an asbestos melting agent, and melting thermoplastic resins and mixing the whole fed materials, a fourth process for (extrusion) molding the mixture, and a fifth process for solidifying the thermoplastic resins.例文帳に追加
アスベスト、アスベスト含有副資材、熱可塑性樹脂成分を投入する第1工程、前記の投入物を破砕混合する第2工程、好ましくはアスベスト融解剤を混合する工程を含み、熱可塑性樹脂分を溶融し全投入物を混合する第3工程、前記の混合物を(押出)成形する第4工程、熱可塑性樹脂分を固化する第5工程、とからなるアスベストの飛散防止処理法。 - 特許庁
In this process, a frame frequency rendering a flicker rate into zero is selected according to the switched luminance level by a first table memory 28.例文帳に追加
このとき、第1のテーブルメモリ28により、切り換えられた輝度に応じてフリッカ率が0となるフレーム周波数が選択される。 - 特許庁
In a first process, a binding-accelerating agent is sucked from a bottle 22 of the binding-accelerating agent to a nozzle 36 by controlling an arm 16 and a nozzle holder 17.例文帳に追加
第1工程でアーム16とノズルホルダ17を制御してノズル36に結合促進剤ボトル22から結合促進剤を吸引する。 - 特許庁
The method is further comprised of executing repetitively a printing process while moving the first stamp (S114), and forming a resist pattern on the whole substrate (S115).例文帳に追加
そして、第1スタンプが移動されながらプリント工程を反復実行(S114)して、全体基板に対してレジストパターンを形成する(S115)。 - 特許庁
To provide a process for refining a coke oven gas which makes the facility scale of a first gas-liquid contact column smaller than the conventional one.例文帳に追加
従来よりも第1気液接触塔の設備規模を小さくすることができるコークス炉ガスの精製方法を提供する。 - 特許庁
In the forming process, the obtained mixed powder is formed so that the orientation plane of the first anisotropic-shape powder is oriented to nearly same direction.例文帳に追加
成形工程においては、第1異方形状粉末の配向面が略同一の方向に配向するように成形する。 - 特許庁
In a recovery process, a rapid ink flow from the first chamber 11a into the third chamber 11c is restricted by the filter 14.例文帳に追加
回復処理においては、フィルタ14によって第1室11aから第3室11cへのインクの速い流れは規制される。 - 特許庁
A certain process 32 included in a first execution space 20a makes the assignment request of resources to a local resource management part 46.例文帳に追加
第1実行空間20aに含まれる、あるプロセス32は、ローカルリソース管理部46に対しリソースの割り当て要求を行う。 - 特許庁
In a film manufacturing process, paste 120 is applied onto the surface of a first film base material 10a, and a second film base material 10b is laminated on the paste 120.例文帳に追加
フィルム製造工程において、第一フィルム基材10a表面にペースト120を塗布し、これに第二フィルム基材10bをラミネートする。 - 特許庁
A bottom plate of the capacitor is electrically connected to an upper first conductive via that is formed according to the dual damascene process.例文帳に追加
コンデンサのボタムプレートはジュアルダマスカス過程に従って形成される上側の第一の導電バイアに電気的に接続される。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|