「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method includes a process in which a first electrode film 12 is divided in a stripe shape by removing a part of the first electrode film 12 to be a stripe shape after forming the first electrode film 12 on a main surface 11c of a substrate 11.例文帳に追加

基板１１の一主面１１ｃ上に第１の電極膜１２を形成したのち第１の電極膜１２の一部をストライプ状に除去することによって第１の電極膜１２を短冊状に分割する工程を含む。 - 特許庁

An interlayer insulation film including lower layer wirings of the predetermined shapes is formed on a semiconductor substrate, and a first groove aperture and a first hole aperture are simultaneously formed by a half-etching method in the first photolithography process.例文帳に追加

所定の形状の下層配線を有する層間絶縁膜を、半導体基板上に形成し、一回目のフォトリソグラフィ工程で、第一の溝状開口部と第一の孔状開口部とをハーフエッチングにより同時に形成する。 - 特許庁

Here, as to a pixel having the first gradation component as zero, the process of judging whether or not the first dot is formed and correcting the second gradation component based on the judgement result for the first dot is omitted.例文帳に追加

ここで、第１の階調成分がゼロとなる画素については、前記第１のドットについての形成有無の判断と、第１のドットについての判断結果に基づいて第２の階調成分を補正する処理を省略する。 - 特許庁

The method includes establishing a bearer channel between a first terminal and a second terminal after a call signaling process and determining, at the first terminal, one or more preferences for a call between the first terminal and the second terminal.例文帳に追加

コールシグナリング過程の後に第１の端末と第２の端末との間にベアラチャネルを確立することと、第１の端末と第２の端末との間のコールのための１以上のプリファレンスを第１の端末で、決定することとを備える。 - 特許庁

If a first kind special value given by the opening/closing of a first kind variable prize means 150 attains all the maximum continuation process in a first kind state originally set, second kind starting conditions are set to be established.例文帳に追加

初期設定された第１種状態において、第１種可変入賞手段１５０の開閉による第１種特別価値がその最大継続行程を総て達成した場合に、第２種始動条件が成立可能に設定される。 - 特許庁

At the same time when the first locus is displayed in the process for a step S33, the display is controlled so that the first locus is superimposed to display the second locus on the area with the second space overlaying on the area with the first space.例文帳に追加

ステップＳ３３の処理において、第１の軌跡の表示と同時に、第１の大きさの領域と重複する第２の大きさの領域に、第１の軌跡に重ねて、第２の軌跡を表示するように表示が制御される。 - 特許庁

The second processing unit carries out processing to a processing bit while being delayed from the first processing unit only by the first phase different time shorter than a plane processing time required for the first processing unit to process one processing bit plane.例文帳に追加

そして第２の処理部は、第１の処理部が一の処理ビットプレーンを処理するのに要するプレーン処理時間よりも短い第１の位相差時間だけ第１の処理部から遅れて処理ビットに対する処理を実行するようにした。 - 特許庁

In the first volume he centered on the process of the court aristocracy's becoming weaker and weaker, then in the second volume describing the outline of the birth and rise of the warrior class going back to high antiquity, with the sixth, seventh, eighth, and ninth 'changes' in the first volume historically overlapping with the first and second 'changes' in the second volume. 例文帳に追加

第1巻では公家が次第に衰退する過程を中心とし、第2巻では上古にさかのぼって武家の成立と勃興の大勢を述べ、第1巻の6・7・8・9の「変」は第2巻の1・2の「変」と時代的に重複する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

In response to receiving the command signal in the first portion, a verification signal is transmitted from the first portion to a second portion associated with the other one of the field device or the process controller via a first wired communication path.例文帳に追加

第１の部分におけるコマンド信号の受信に応答して、第１の配線式の通信経路を介して第１の部分からフィールド装置またはプロセスコントローラの他の一つと関連する第２の部分に検証信号を送信する。 - 特許庁

The fast session setup extensions to H.324 include establishing a bearer channel between a first terminal and a second terminal after a call signaling process and determining, at the first terminal, one or more preferences for a call between the first terminal and the second terminal.例文帳に追加

コールシグナリング過程の後に第1の端末と第2の端末との間にベアラチャネルを確立することと、第1の端末と第2の端末との間のコールのための1以上のプリファレンスを、第1の端末で、決定することと、を備える。 - 特許庁

Respective program analysis parts of the first, second and third systems read selected programs only for machine control means (process program only for machining process function, process program only for milling process function and program only for loader control function), and respective shafts of respective machines are operated by program analysis/interpolation and shaft control.例文帳に追加

第１、第２及び第３系統の各プログラム解析部は、各選択された機械制御手段専用のプログラム（旋削加工機能専用の加工プログラム、ミリング加工機能専用の加工プログラム、ローダ制御機能専用のプログラム）を読み込み、プログラム解析、補間、軸制御により、各機械の各軸を動作させる。 - 特許庁

The deodorant 51 is prepared by a first process for pelletizing sawdust 3, a scallop shell powder 4 and a polyvinyl alcohol solution 5, a second process for drying the formed pellets, a third process for infiltrating a negative ion generation liquid in the dried pellts and a fourth process for drying the impregnated pellets.例文帳に追加

おが屑３とホタテ貝殻粉末４とポリビニルアルコール液５をペレット化する第一の工程と前記ペレットを乾燥させる第二の工程と、乾燥させたペレットにマイナスイオン発生液（セメスロス）３５を含浸させる第三の工程と、そのペレットを乾燥させる第４の工程にて、消臭剤５１を形成する。 - 特許庁

The cleaning process comprises a process to heat the substrate to be processed to a first temperature, a process to introduce the gas which mixes chlorine and nitrogen and has the atomic ratio of chlorine and nitrogen of 9:1 to 5:5, and a process to apply the radio frequency wave power to an electrode 2 to which the substrate to be processed is set.例文帳に追加

前記クリーニングする工程は、前記被処理基板を第１温度に加熱する工程と、塩素と窒素とを含み且つ前記塩素と窒素との原子比が９対１乃至５対５であるガスを導入する工程と、前記被処理基板が載置される電極２に高周波電力を印加する工程とを含む。 - 特許庁

There are provided a first process 1 of monitoring an E-mail reception, a second process 2 of transmitting by FAX if there is any E-mail reception, a third process 3 of monitoring a FAX reception, a fourth process 4 of transmitting by E-mail if there is the FAX reception, a WWW server 5, and a user information database 6.例文帳に追加

電子メール受信を監視する第１のプロセス１、電子メール受信があった場合それをＦＡＸで送信する第２のプロセス２、ＦＡＸ受信を監視する第３のプロセス３、ＦＡＸ受信があった場合それを電子メールで送信する第４のプロセス４、ＷＷＷサーバ５、ユーザー情報データベース６を有する。 - 特許庁

The method of discharge for liquid containing nitroglycerin includes a first process to solve nitroglycerin in alcohol, a second process to mix the alcoholic solution of nitroglycerin with water, a third process to discharge the solution obtained in the second process through an ink jet liquid mechanism.例文帳に追加

本発明の吐出方法は、ニトログリセリンをアルコールに溶解させる第１工程、前記ニトログリセリンのアルコール溶液を水と混合する第２工程、前記第２工程で得られた溶液をインクジェット吐出機構により吐出させる第３工程、を含むことを特徴とするニトログリセリンを含む液体の吐出方法である。 - 特許庁

This method includes a process of forming a reflection preventing film on the base substrate, a process of forming a photoresist having a prescribed pattern on this reflection preventing film, a first etching process for etching the reflection preventing film with this photoresist as a mask, and a second etching process for etching the base substrate with the reflection preventing film as a mask.例文帳に追加

下地基板上に反射防止膜を形成する工程と、この反射防止膜上に所定パターンを有するフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストをマスクとして反射防止膜をエッチングする第１のエッチング工程と、反射防止膜をマスクとして下地基板をエッチングする第２のエッチング工程とを有する。 - 特許庁

In addition, if a decode process interrupts during a process for a desired display control sequence DCSQ, the occurrence of the shapeless display such as a display dropout due to the decode process interruption can be prevented by executing the decode process from the first display control sequence DCSQ 0 again.例文帳に追加

また、所望の表示制御シーケンスＤＣＳＱに対する処理の途中で、デコード処理が中断してしまった場合に、再び最初の表示制御シーケンスＤＣＳＱ０からデコード処理を行うことにより、デコード処理が中断することによる表示抜け等の表示崩れが発生するのを防ぐことができる。 - 特許庁

The sealing process includes the first sub-process for sticking a film 9 on one end face, the second sub-process for boring a hole at a prescribed position of the film corresponding to the cell to be sealed by high density energy beams, and the third sub-process for packing a sealing material in the cell to be sealed.例文帳に追加

前記目封じ工程が、前記何れかの端面にフィルム９を貼り付ける第１副工程と、目封じすべきセルに対応する前記フィルムの所定位置に高密度エネルギービームにより穴を開ける第２副工程と、前記目封じすべきセルに目封じ材を詰める第３副工程とを含むハニカム構造体の製造方法である。 - 特許庁

A first process for adsorbing ammoniacal nitrogen in waste water by an ion exchanger, a second process for desorbing anmoniacal nitrogen adsorbed on the ion exchanger by a bromide solution and third process for removing ammoniacal nitrogen from the regenerated waste liquid obtained in the second process by ozone are provided.例文帳に追加

排水中のアンモニア性窒素をイオン交換体に吸着させる第１工程と、前記イオン交換体に吸着したアンモニア性窒素を臭化物塩溶液によって脱着させる第２工程と、第２工程で得られる再生排液から、オゾンによりアンモニア性窒素を除去する第３工程とからなる。 - 特許庁

The process plant includes a process controller connected to a process control input/output device for performing a process control function, and a safety logic solver connected to a safety field device to communicate through a first communication bus, and the safety logic module system includes a computer readable memory storing in the safety logic module.例文帳に追加

プロセスプラントに、プロセス制御機能を実行するプロセス制御入力／出力デバイスと、安全フィールドデバイスに接続されている安全ロジックソルバとに第一の通信バスを介して通信可能に接続されているプロセスコントローラを備え、安全ロジックモジュールシステムは、安全ロジックモジュールが格納されたコンピュータ読み取り可能メモリを備えている。 - 特許庁

The heat-radiating module includes a first heat-conductive member and a second heat-conductive member manufactured by a die-casting process, and the first heat-conductive member and the second heat-conductive member respectively have a plurality of first fins, and a plurality of second fins, and the first fins and the second fins are alternately arranged.例文帳に追加

前記放熱モジュールはダイカストプロセスによって作製した第一熱伝導部材と第二熱伝導部材を含み、前記第一熱伝導部材、第二熱伝導部材は複数の第一フィン、第二フィンをそれぞれ有し、第一フィン、第二フィンは交互に配置される。 - 特許庁

A gas G is injected between a first resin material 11 injected in a first injection process and a movable part 5 of a mold 2 and the pressure is held, thereby pressing the first resin material 11 to closely contact with the mold 2, and preventing the contraction of the first resin material 11.例文帳に追加

第１の射出工程で射出された第１の樹脂材料１１と金型２の可動部５との間に、ガスＧを注入し、保圧することで、第１の樹脂材料１１を押圧して、金型２に密接させることができ、第１の樹脂材料１１の収縮を防止することができる。 - 特許庁

The Riber process responds to the navigation to the first item of the primary menu item by the user for displaying a first secondary menu item related to the first item of the primary menu item at least in one visual field, and continuously displays the rest of the first primary menu item.例文帳に追加

リベールプロセスは、ユーザが一次メニューアイテムの第１アイテムへナビゲートするのに応答して、一次メニューアイテムの第１アイテムに関連した第１の二次メニューアイテムを少なくとも１つの視覚フィールド内に表示する一方、第１の一次メニューアイテムの残りを表示し続ける。 - 特許庁

A method for position tracking includes a process where first and second field generators located at respective different first and second locations are used to generate respective first and second magnetic fields in a vicinity of first and second objects.例文帳に追加

ポジション追跡方法は、異なる第１の位置および第２の位置にそれぞれ配置された第１の磁界発生器および第２の磁界発生器を用いて、第１の目標物および第２の目標物の近隣において各第１の磁界および第２の磁界を生成する工程を含む。 - 特許庁

In the process S103, a semiconductor region is etched using a first mask having the array of patterns including first-nth pattern parts and first-nth periodic structures for a diffraction grating corresponding to the first-nth pattern parts respectively are formed in the respective element sections of the semiconductor region.例文帳に追加

工程Ｓ１０３では、第１〜第ｎのパターン部を含むパターンの配列を有する第１のマスクを用いて半導体領域をエッチングして、第１〜第ｎのパターン部にそれぞれ対応する回折格子用の第１〜第ｎの周期構造を半導体領域の各素子区画に形成する。 - 特許庁

Further, in the suspended state control method, the LED comprises a suspended mode lighting process for turning on the LED with a first light quantity in the suspended state, and a dimming mode lighting process turned on with a second light quantity dimmed rather than the first light quantity.例文帳に追加

また、その待機状態制御方法において、ＬＥＤは、待機状態時に、第１の発光量で点灯する待機モード点灯工程と、第１の発光量よりも減光した第２の発光量で点灯する減光モード点灯工程と、を有する。 - 特許庁

A process (a) for depositing a first insulating film on a substrate and forming recessed parts arriving at the substrate while penetrating a first insulating film, and another process (b) for depositing a second insulating film on the substrate, are carried out in parallel by a device having a plurality of processing chambers.例文帳に追加

基板上に第１絶縁膜を堆積し、第１絶縁膜を貫通して基板に到達する凹部を形成する工程（ａ）と、基板上に第２絶縁膜を堆積する工程（ｂ）とをそれぞれ、複数の処理チャンバーを有する装置で並行して実施する。 - 特許庁

In addition, the method includes the process of forming a first recessed part by laser processing in a region in which at least a region in which the beam 19 is formed in the face to be etched is excluded, and has the process of performing a first wet etching from the face to be etched to the silicon substrate.例文帳に追加

さらに、被エッチング面のうち梁１９を形成する領域を少なくとも除いた領域に、レーザー加工によって第１の凹部を形成する工程と、シリコン基板に対して、被エッチング面から第１のウエットエッチングを行う工程とを有する。 - 特許庁

Next, synchronism of the decoded signal is discriminated in a first synchronism discriminating process ST12 and when the synchronism is not established, the clock signal having a frequency corresponding to an encoding rate ri+1 is assigned in a first clock signal updating process ST13.例文帳に追加

次に、第１の同期判定工程ＳＴ１２において復号信号の同期判定を行ない、同期が取れていない場合には、第１のクロック信号更新工程ＳＴ１３において符号化率ｒi+1 と対応する周波数を持つクロック信号を割り当てる。 - 特許庁

The temporary crimping process includes a space difference detecting process for detecting the difference between a space between two first reference positions 25, provided at the display panel, and a space between two second reference positions 26, provided at the film substrate 21 corresponding to the first reference positions 25.例文帳に追加

仮圧着工程には、表示パネルに設けられた２つの第１基準位置２５の間隔と、第１基準位置２５に対応してフィルム基板２１に設けられた２つの第２基準位置２６の間隔との差を検出する間隔差検出工程が含まれる。 - 特許庁

After carrying out a mounting process, a coating process is arranged in such a way that a low viscosity second paste 16b is surrounded with a high viscosity first paste 16 using the first and the second pastes 16a and 16b which is comprised of the same material but having different viscosities.例文帳に追加

搭載工程を行った後、保護ペースト塗布工程を同一材料からなり粘度の異なる第１及び第２のペースト１６ａ、１６ｂを用いて、高粘度の第１のペースト１６ａで低粘度の第２のペースト１６ｂを取り囲むように配置する。 - 特許庁

In a state where the component and the detection means are mounted on a first image forming apparatus, a predetermined process line speed of the first image forming apparatus is switched to a process line speed of a second image forming apparatus, when the component is in an initial state, to operate the apparatus.例文帳に追加

第１画像形成装置に構成装置及び検知手段を搭載した状態において、構成装置が初期状態のときに、第１画像形成装置の所定のプロセス線速を第２画像形成装置のプロセス線速に切り換えて作動させる。 - 特許庁

The method of cleaning teeth comprises a process of applying ultrasonic waves of a first frequency to teeth to be washed for a first period of time through a liquid medium and a process of applying ultrasonic waves of a second frequency to the teeth to be washed for a second period of time through the liquid medium.例文帳に追加

第１の時間に亘って洗浄されるべき歯に液体媒体を介して第１の周波数の超音波を当てる過程と、第２の時間に亘って洗浄されるべき歯に液体媒体を介して第２の周波数の超音波を当てる過程とを有する。 - 特許庁

The conductive film modifying method comprises a first process of forming the end of a first conductive film 6 formed on the surface of an underlying layer 5 into a gentle slope, and a second process of forming a second conductive film 10 spreading over the gentle slope and the exposed part of the underlying layer 5.例文帳に追加

下地層５の表面に形成された第１の導電膜６の端部を緩斜面状に整形する工程と、この緩斜面と下地層５の露出部とに渡って第２の導電膜１０を形成する工程とによって修正を行う。 - 特許庁

The method comprises a cracking process of cracking the classified first granule fractionation by pressurized water, and a classifying process of classifying the cracked first granule fractionation into a second coarse grain fractionation and a second granule fractionation having a small particle diameter to remove the second granule fractionation.例文帳に追加

分級された第１の細粒分画を加圧水によって解砕させる解砕工程と、解砕された第１の細粒分画を、第２の粗粒分画と粒径の小さい第２の細粒分画とに分ける分級工程とを含み、第２の細粒分画を除去する。 - 特許庁

Also, in the first member forming process 18, a layer forming material containing at least one or more kinds of polymerizable compositions and a chain transfer agent comprising a thiol group is poured into a hollow tube and polymerized, with this process repeated to form the first member 17.例文帳に追加

第１部材形成工程１８では、少なくとも１種類以上の重合性組成物と、チオール基を有する連鎖移動剤とを含む層形成材料を中空管の中に注入し、重合させる工程を繰り返し行なって第１部材１７とする。 - 特許庁

A process and a processing means 39 are provided for transferring a first sheet of belt-like sheets 11 to a composing process for a laminate while pressing a second sheet from the top of piled belt-like sheets 11 through the notches 7 of the first sheet (refer to the figure 10).例文帳に追加

また、積み重なる帯状シート１１の上から２枚目の側辺を１枚目の切欠部７を通して抑えながら１枚目の帯状シート１１を積層体の組成工程へ搬送する工程およびその処理手段３９を備える（図１０参照）。 - 特許庁

This method for manufacturing a quantum dot device is provided with a process for forming a first electrode (2) and a second electrode (3) on a substrate (1) and a process for forming crystallite formed of semiconductor material on the substrate (1) while applying a voltage across the first electrode (1) and the second electrode (2).例文帳に追加

基板（１）の上に、第１電極（２）と第２電極（３）とを形成する工程と、第１電極（２）と第２電極（３）との間に電圧を印加しながら、基板（１）の上に、半導体材料で形成された微結晶を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

In the method for manufacturing an optical information recording medium in which a first disk having a recording layer and a second disk for covering are laminated, in the substrate formation process of the second disk, a substrate is formed at a mold temperature higher than that in the substrate formation process of the first disk.例文帳に追加

記録層を備える第１ディスクと、カバー用の第２ディスクとを貼り合わせる光情報記録媒体の製造方法において、第２ディスクの基板形成工程では、第１ディスクの基板形成工程よりも高い金型温度で基板を形成する。 - 特許庁

The method for growing the nitride semiconductor substrate has a process for growing a first nitride semiconductor 2 on the substrate 1 and then forming recesses and protrusions on the first nitride semiconductor 2, and a process for forming cavities in the recess of the first nitride semiconductor 2 and forming a second nitride semiconductor 3 on the first nitride semiconductor 2.例文帳に追加

基板１上に、第１の窒化物半導体２を成長させ、第１の窒化物半導体２に凹凸を形成する工程と、気相成長させる反応装置内において、第１の窒化物半導体２の凹部に空洞を形成し、第１の窒化物半導体２上に第２の窒化物半導体３を形成させる工程とを有する窒化物半導体基板の成長方法とする。 - 特許庁

This method for purifying silicon comprises a first purification process in which a first flux containing silicon dioxide is added to molten silicon, and thereafter a first slag generated from the first flux is separated from the molten silicon, and a second purification process in which a second flux free from silicon dioxide is added to the molten silicon, and thereafter a second slag generated from the second flux is separated from the molten silicon.例文帳に追加

溶融シリコンに二酸化ケイ素を含む第１のフラックスを添加した後に第１のフラックスから生成した第１のスラグを溶融シリコンと分離する第１の精製工程と、溶融シリコンに二酸化ケイ素を含まない第２のフラックスを添加した後に第２のフラックスから生成した第２のスラグを溶融シリコンと分離する第２の精製工程とを含むシリコンの精製方法である。 - 特許庁

The method includes: a process of receiving a plurality of first signals, corresponding to a plurality of antennas; determining at least a single value indicating non-random portion of the first signals; and a process of forming a plurality of second signals, by changing the first signals based on at least a single value indicating non-random portion of the first signals.例文帳に追加

この方法は、複数のアンテナに対応する複数の第１の信号を受信する工程と、複数の第１の信号の非ランダム部分を指示する少なくとも１つの値を決定する工程と、複数の第１の信号の非ランダム部分を指示する少なくとも１つの値に基づいて、複数の第１の信号を変更して、複数の第２の信号を形成する工程とを含む。 - 特許庁

In addition, the presented printed wiring board production method includes: an inactive conductor film formation process for forming an inactive conductor film on the surface of the first circuit conductor; and a surface treatment process for roughening the surface of the second insulator layer formed at the first circuit conductor formation side of the first insulator layer with the first circuit conductor formed on the surface.例文帳に追加

第一回路導体の表面に不活性導体皮膜を形成する不活性導体皮膜形成工程と、さらに表面に第一回路導体が形成された第一絶縁体層の第一回路導体形成面側に形成された第二絶縁体層の表面を粗化する表面処理工程を含むことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

When the number of total pages of a layout result exceeds a first upper limit page number, a contents distribution terminal 100 selectively executes a first layout process for executing the layout such that the number of the total pages of the layout result does not exceed the first upper limit page number, and a second layout process for executing the layout even if the number of the total pages of the layout result exceeds the first upper limit page number.例文帳に追加

コンテンツ配信端末１００は、レイアウト結果の総ページ数が第１上限ページ数を超えることとなるときは、レイアウト結果の総ページ数が第１上限ページ数を超えないようにレイアウトを行う第１レイアウト処理と、レイアウト結果の総ページ数が第１上限ページ数を超えてでもレイアウトを行う第２レイアウト処理とを選択的に行う。 - 特許庁

In a process for forming a first transparent conductive layer 403 for inactivating the defects of a first semiconductor layer 402 prior to a process for forming a second conductor layer 404, the first transparent conductive layer 403 is formed only on a region other than the defective region of the first semiconductor layer 402 through control by applying self-bias to a substrate 401.例文帳に追加

第二の半導体層４０４を形成する工程の前に、第一の半導体層４０２の欠陥を不活性化するために、第一の透明導電層４０３を形成する工程において、基板４０１にセルフバイアスを印加し、制御することで第一の半導体層４０２の欠陥領域以外の部分上にのみ、第一の透明導電層４０３を形成する。 - 特許庁