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FIRST PROCESSの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5620件
In a cutting down process of the file, the file is traversed in the backward direction from the end of the file until the first page that is not free is found.例文帳に追加
ファイルの切り捨て処理では、空でない最初のページが見つかるまで、ファイルの最後からファイルを逆方向にトラバーサルする。 - 特許庁
After a substrate work, a lapping work, the first and the second polisher works and then a final polishing work are conducted in polishing process.例文帳に追加
基板加工を行なった後、研磨工程でラッピング加工、第1及び第2のポリシャ加工を行ない、その後、仕上げ研磨加工を行なう。 - 特許庁
When a new Karaoke machine 3 is connected to the router 6 (LAN 12), a station opening server 1 is accessed first to perform a station opening process.例文帳に追加
ルータ6(LAN12)に新たなカラオケ装置3が接続されると、最初に開局サーバ1にアクセスして開局処理を実行する。 - 特許庁
This method has a first process for adding a catalyst element capable of lowering the crystallization temperature of the semiconductor film onto a conductive surface, a second process for forming the first semiconductor film having the crystal structure on the conductive surface added with the catalyst element, and a third process for forming the second semiconductor film containing phosphorus on the first semiconductor film.例文帳に追加
導電性表面上に半導体膜の結晶化温度を低下させることが可能な触媒元素を添加する第1の工程と、触媒元素が添加された前記導電性表面上に、結晶構造を有する第1の半導体膜を形成する第2の工程と、第1の半導体膜上にリンを含有する第2の半導体膜を形成する第3の工程とを有することを特徴としている。 - 特許庁
The water treatment method comprises a first Fenton treatment process performing a first Fenton treatment of the raw water containing COD components, a biological treatment process performing biological treatment of the treated water subjected to the first Fenton treatment, and a second Fenton treatment process performing second Fenton treatment of the biologically treated water, and reduces the COD concentration of the treated water to equal to or lower than 20 mg/L.例文帳に追加
COD成分を含有する原水に対して第1のフェントン処理を行う第1フェントン処理工程と、第1のフェントン処理を行った第1フェントン処理水に対して生物処理を行う生物処理工程と、生物処理を行った生物処理水に対して、さらに第2のフェントン処理を行う第2フェントン処理工程と、を含み、処理水のCOD濃度を20mg/L以下にする水処理方法である。 - 特許庁
This function verification method is provided with a process for preparing a first functional block 100a capable of operating a function required inside a semiconductor integrated circuit, a process for preparing a second functional block 100b serving as a verification object having the substantially same configuration as the first functional block, and a process for verifying the function of the second functional block 100b by the first functional block 100a.例文帳に追加
本発明の機能検証方法では、半導体集積回路内で要求された機能を実行することが可能な第1の機能ブロック100aを用意する工程と、第1の機能ブロックと実質的に同一の構成を有する検証対象となる第2の機能ブロック100bを用意する工程と、第1の機能ブロック100aによって第2の機能ブロック100bの機能を検証する工程を有している。 - 特許庁
The disclosed example method includes: loading a first script representative of a process plant, the first script including an interpretive system-level script structured in accordance with an electronic description language; and compiling the first script to form a second script, the second script structured in accordance with a vendor-specific configuration language associated with a particular process control system for the process plant.例文帳に追加
開示される例示的な方法は、プロセスプラントを表す第1のスクリプトをロードするステップであって、該第1のスクリプトは電子記述言語に従って構造化されたインタープリティブシステムレベルスクリプトを含むステップと、該第1のスクリプトをコンパイルして第2のスクリプトを形成するステップであって、該第2のスクリプトは該プロセスプラントのための特定のプロセス制御システムに関連するベンダー固有の構成言語に従って構造化されるステップと、を含む。 - 特許庁
In addition, there may be included a process, in which in a gap formed by the first and second particulates, a material composed of a third substance is charged that is different from either the first or the second substance, a process in which the first or second particulates are selectively removed, and a process in which the material composed of the third substance is charged in the gap formed by the removal.例文帳に追加
また、第一の微粒子および第二の微粒子によって形成された空隙に、第一および第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程、第一または第二の微粒子のいずれか一方を選択的に除去する工程、除去によって形成された空隙に第三の物質からなる材料を充填する工程を含むようにしてもよい。 - 特許庁
A manufacturing method of a golf club head having a plurality of score lines formed on a face surface includes: a first forming process for forming on the face surface grooves to be score lines; and a second forming process for cutting edges of the grooved formed in the first forming process and forming a flat surface tilted against the face surface.例文帳に追加
フェース面に複数本のスコアラインが形成されたゴルフクラブヘッドの製造方法において、フェース面にスコアラインとなる溝を形成する第1形成工程と、前記第1形成工程で形成した前記溝の縁を切削し、前記フェース面に対して傾斜した平坦面を形成する第2形成工程と、を備えたゴルフクラブヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method of automatically forming the integrated circuit layout includes: a process 510 of determining a first cell height; a process 520 of manufacturing a plurality of standard cells each having the first cell height; and a process 530 of forming the integrated circuit layout from the plurality of standard cells by arranging and wiring the plurality of standard cells.例文帳に追加
集積回路レイアウトを自動的に形成する方法は、第1のセル高さを決定する工程510と、第1のセル高さを有する複数の標準的なセルを製作する工程520と、複数の標準的なセルから、複数の標準的なセルを配置配線させることにより集積回路レイアウトを形成させる工程530とを含む。 - 特許庁
The gas pressure regulating method comprises a decomposing process of decomposing the gas into the ion by the first pole, a conduction process of conducting the decomposed ion to the second pole side via the ion conductor sandwiched between the first pole and the second pole, and a converting process of converting the conducted ion again into the gas by the second pole.例文帳に追加
第1極でガスをイオンに分解する分解工程と、分解された前記イオンを、前記第1極と第2極との間に挟持されたイオン伝導体を通して前記第2極側に伝導する伝導工程と、伝導された前記イオンを前記第2極にて再びガスに転化する転化工程とを有するガス圧調整方法。 - 特許庁
The preparing method comprises both a process for removing the second metal film 4 including the metallic element to be measured by selective etching and a process for forming the third metal film 5 of the same composition as that of the first metal film 3 except the metallic element to be measured on the first metal film 3 exposed in the removing process and including the metallic element to be measured as an impurity.例文帳に追加
被測定金属元素を含む第2の金属膜4を選択エッチングにより除去する工程と、除去工程により露出した、被測定金属元素を不純物として含む第1の金属膜3上に、被測定金属元素を除いて第1の金属膜3と同一組成の第3の金属膜5を形成する工程とを有する。 - 特許庁
This method includes the first process for separating the plurality of classes of the lipoproteins contained in a sample by a liquid chromatography, and for measuring the component contained in each of the separated lipoproteins, and the second process for dividing the chromatogram obtained as a result of the first process the class by the class to determine quantitatively the component contained in the lipoprotein the class by the class.例文帳に追加
試料に含まれる複数クラスのリポタンパク質を液体クロマトグラフィーで分離し、分離したリポタンパク質に含まれる成分を測定する第1工程と、上記第1工程の結果として得られたクロマトグラムをリポタンパク質のクラス毎に分割し、リポタンパク質に含まれる成分をクラス毎に定量する第2工程とを含む。 - 特許庁
This method has a first process in which defective cells are repaired using ROW redundancy or column redundancy, and a second process in which the remaining defective cells are repaired by increasing the number of refreshing times for the remaining defective cells which can not be repaired in the first process, compared to that for normal cells.例文帳に追加
セグメント毎に、ROW冗長又はCOLUMN冗長を用いて欠陥セルを救済する第1の工程と、前記第1の工程で救済できない残りの欠陥セルについては、正常なセルのリフレッシュ回数よりリフレッシュ回数を増やすことで、前記残りの欠陥セルを救済する第2の工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁
The inkjet recording apparatus executes a first process for detecting an amount of a change in the distance to the recording medium by the detecting means when the recording medium is cut by the cutting means, and a second process for detecting the distance to the recording medium by the detecting means while the cutting means is retracted if the change amount equal to or more than a predetermined value is detected in the first process.例文帳に追加
切断手段により記録媒体を切断するときに検知手段により記録媒体までの距離の変動量を検知する第1の工程と、第1の工程で所定値以上の変動量を検知した場合に切断手段を収納した状態で検知手段により記録媒体までの距離を検知する第2の工程と、を有する。 - 特許庁
This method for producing the lactic acid from the waste foods, comprising subjecting the waste foods to a lactic acid fermentation, is characterized by comprising the first process for solubilizing the waste foods by a blasting treatment and the second process for subjecting the solubilized liquid obtained in the first process to a lactic acid fermentation using a diastatic enzyme and a lactobacillus.例文帳に追加
食品廃棄物を乳酸発酵させることにより、乳酸を製造する方法において、食品廃棄物を爆砕処理により可溶化する第一の工程と、前記第一の工程で得られる可溶化液を糖化酵素および乳酸菌を用いて乳酸発酵させる第二の工程を含むことを特徴とする食品廃棄物から乳酸を製造する方法。 - 特許庁
To provide a surface treatment agent and a resist composition for a freezing process being applied to the first resist pattern in a double patterning method and satisfying the requirements for preventing line width and LWR of the first resist pattern from fluctuating due to the freezing process and the formation of the second resist pattern and resist composition and to provide a pattern formation process by use of them.例文帳に追加
ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びLWRが変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤、レジスト組成物およびそれらを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
The method of manufacturing a member having a tooth profile forming part comprises a first process of cutting a workpiece into predetermined dimensions, and removing burrs, and a second process of forming the tooth profile by drawing simultaneously with pressing the axial end face of the tooth profile forming part of the workpiece with predetermined load, following the first process.例文帳に追加
歯形形成部を有する部材の製造方法において、ワークを所定の寸法に切削加工し、バリを除去する第1の工程と、第1の工程に続いて、ワークの歯形形成部の軸方向端面を所定の荷重で押圧すると同時に、絞り加工により歯形成形を行う第2の工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁
The method of manufacturing the SiC semiconductor device includes a process (a) of forming a mask 8 on the first principal surface of the SiC substrate 1, a process (b) of selectively forming the trench 4 on the SiC substrate 1 from the first principal surface using the mask 8, and a process (c) of selectively forming the CNTs 5 in the trench 4 using the mask 8.例文帳に追加
又、本発明に係るSiC半導体装置の製造方法は、(a)SiC基板1の第1主面上にマスク8を形成する工程と、(b)マスク8を用いて選択的に第1主面からSiC基板1にトレンチ4を形成する工程と、(c)マスク8を用いて選択的にトレンチ4内にCNT5を形成する工程と、を備える。 - 特許庁
The method of manufacturing the speaker diaphragm comprises a forming process which forms the first formed object and the second formed object with the textile fabrics that are knitted with warps and wefts, and a stacking process which stacks the first formed object and the second formed object formed in the forming process while keeping an angle between both knitting directions to a predetermined one.例文帳に追加
スピーカ振動板の製造方法は、縦糸と横糸とで編み込まれた織布から第1の成型体および第2の成型体を成型する成型工程と、成型工程にて成型された第1の成型体および第2の成型体を、編み込み方向が所定の角度傾くようにして重ね合わせる重ね合わせ工程とを有する。 - 特許庁
The method for preparing the photocatalyst comprises a first process wherein a photocatalyst coat is formed by coating a photocatalyst coating liquid on the substrate and a second process wherein a photocatalyst film is formed by forcing the undried photocatalyst coat prepared in the first process to dry and calcining it by blowing hot air thereon.例文帳に追加
また、光触媒体の製造方法は、基体の表面に光触媒塗布液を塗布して光触媒塗布膜を形成する第1の工程と、第1の工程により形成された未乾燥状態の光触媒塗布膜に熱風を吹き付けて強制乾燥を行うとともに焼成して光触媒膜を形成する第2の工程とを具備している。 - 特許庁
This color photoresist removal method includes steps for: removing the color photoresist on a substrate formed with given elements in the first plasma etching process; conducting wet cleaning after the first plasma etching process; and completely removing residual color photoresist in the second plasma etching process after the wet cleaning.例文帳に追加
本発明のカラー・フォトレジストの除去方法は所定の素子が形成された基板の上のカラー・フォトレジストを第1プラズマエシング工程でとり除く段階と;前記第1プラズマエシング工程の後、湿式クリーニングを行う段階と;及び前記湿式クリーニング後第2プラズマエシング工程で残留カラー・フォトレジストを完全にとり除く段階を含んで成り立つに技術的特徴がある。 - 特許庁
The switching process to the predetermined first speed of a vehicle is executed, only a neutral gear stage is set during the switching process within a vehicular speed range between the first and second speeds, and the switching process is ignored if a speed is higher than the second speed.例文帳に追加
前記課題は、当該切替過程が車両の定められた第一の速度までは実行されること、前記第一の速度と第二の速度との間の車両の速度範囲では当該切替過程の際にニュートラルのギア段にだけ入れられること、及び、当該切替過程が、前記第二の速度より高いときには無視されることによって解決される。 - 特許庁
A method for manufacturing the golf club head where the plurality of score lines are formed in the face includes: a first forming process for forming grooves serving as the score lines in the face; and a second forming process for cutting the edges of the grooves formed in the first forming process, and uniformly forming notched parts with arcuate cross sections in the longitudinal direction of the grooves.例文帳に追加
フェース面に複数本のスコアラインが形成されたゴルフクラブヘッドの製造方法において、フェース面にスコアラインとなる溝を形成する第1形成工程と、前記第1形成工程で形成した前記溝の縁を切削し、断面形状が弧状の切り欠きを前記溝の長手方向に一様に形成する第2形成工程と、を備える。 - 特許庁
The cleaning method comprises the first cleaning process in which a material to be cleaned is washed with a cleaning agent (A) containing at least tetrahydrodicyclopentadiene and the second cleaning process in which the material having the cleaning agent (A) attached on it through the first cleaning process is washed with a cleaning agent (B) containing at least a fluorinated hydrocarbon.例文帳に追加
少なくともテトラヒドロジシクロペンタジエンを含有する洗浄剤(A)を用いて被洗浄物を洗浄する第1洗浄工程と、該第1洗浄工程を経て前記洗浄剤(A)が付着した被洗浄物を、少なくともフッ素化炭化水素化合物を含有する洗浄剤(B)を用いて洗浄する第2洗浄工程とを有する洗浄方法。 - 特許庁
Provided is an information processing apparatus including an event processing unit for performing in a background a process corresponding to an operation input that is estimated based on a state of an operating tool in a first state, and for performing, when the operating tool in the first state enters a second state, a feedback process for the operation input using the process performed in the background.例文帳に追加
本技術の情報処理装置は、第1の状態における操作体の状態に基づいて推定される操作入力に対応する処理をバックグラウンドで実行し、第1の状態における操作体が第2の状態となったとき、バックグラウンドで実行した処理を用いて操作入力に対するフィードバック処理を実行するイベント処理部を備える。 - 特許庁
A first process of forming an emitter 10 on a cathode electrode 5 with the use of a plurality of carbon system acicular matters 11 and a second process of aligning tip parts of the plurality of the carbon system acicular matters 11 in the emitter 10 formed in the first process are included in the manufacturing method of the display device of a flat screen.例文帳に追加
平面型の表示装置の製造方法として、カソード電極5上に複数の炭素系針状物質11を用いてエミッタ10を形成する第1の工程と、この第1の工程で形成したエミッタ10において複数の炭素系針状物質11の先端部を所定の高さに揃える第2の工程とを有するものとする。 - 特許庁
The method has the first process for extracting a single or plurality of feature points from the image of the search object, and the second process for searching for the feature pattern based on a positional relation between each feature point extracted in the first process and reference points predetermined for the preset feature patterns.例文帳に追加
このとき、探索対象の画像から、単数または複数の特徴点を抽出する第1の工程と、前記第1の工程で抽出した特徴点の各々と、前記所定の特徴パターンに対して予め決められた参照特徴点との位置関係に基づいて、前記特徴パターンを探索する第2の工程とを有する。 - 特許庁
The manufacturing method of an electroluminescent device includes a process where a frame-like sealing material 6 is formed on a first large substrate 4A, a process in which a sealant 18 is arranged in a region surrounded with the sealing material 6, and a process in which the first large substrate 4A and a second large substrate 4B are laminated together via the sealing material 6 and the sealant 18.例文帳に追加
本発明のエレクトロルミネッセンス装置の製造方法は、第1大型基板4A上に枠状のシール材6を形成する工程と、シール材6によって囲まれた領域に封止材18を配置する工程と、第1大型基板4A及び第2大型基板4Bをシール材6及び封止材18を介して貼り合わせる工程とを有する。 - 特許庁
The discharge method of the residual material includes steps of: stirring the powder with this mixing device 1; discharging the stirred powder in a first discharge process; and thereafter discharging the residual material still remaining in the mixing tank 2 in a second discharging process by increasing the rotation rate R2 of the rotary blade 4 with respect to the rotation rate R1 of the rotary blade 4 in the first discharge process.例文帳に追加
この混合装置1を用いて、粉体を攪拌し、第1排出工程においてその攪拌された粉体を排出した後に、第2排出工程において混合槽2にまだ残存する残粉体を、回転羽根4の回転速度R2を第1排出工程における回転羽根4の回転速度R1に対して増加させることにより、排出する。 - 特許庁
The manufacturing method has a first working process in which a nozzle plate constituting member with the water repellent film 2 of at least one or more layers set on the base 1 is worked from the base 1 side, and the base material 1 is mainly etched; and a second working process in which the water repellent film 2 is mainly etched with the use of plasma having oxygen after the first working process is finished.例文帳に追加
基材1上に少なくとも1層以上からなる撥水膜2を有するノズルプレート構成部材を、基材1側から加工するとともに、主に基材1をエッチングする第1の加工工程と、第1の加工工程終了後、主に上記撥水膜2を酸素を有するプラズマを用いてエッチングする第2の加工工程を備える。 - 特許庁
The method of manufacturing the piezoelectric vibrator includes: a first etching process of processing a surface of the piezoelectric vibration piece 2 using a first etchant consisting of a potassium hydroxide aqueous solution prior to a process of mounting the piezoelectric vibration piece 2; and a second etching process of processing the surface of the piezoelectric vibration piece 2 using a second etchant consisting of a solution of potassium ferricyanide and potassium hydroxide.例文帳に追加
圧電振動片2をマウントする工程の前に、水酸化カリウム水溶液からなる第1エッチャントを用いて圧電振動片2の表面を処理する第1エッチング工程と、フェリシアン化カリウム及び水酸化カリウムの水溶液からなる第2エッチャントを用いて圧電振動片2の表面を処理する第2エッチング工程とを有することを特徴とする - 特許庁
This method comprises a first exposing process for exposing the substrate 12 via the mask 10 under the condition that a part of region including a defect D of the mask 10 is shielded from the light, and a second exposing process for drawing in direct a pattern with the exposure to the region on the substrate 12 corresponding to a part of region shielded in the first exposing process.例文帳に追加
この方法は、マスク10の欠陥Dを含む一部領域を遮光した状態で、マスク10を介して基板12に対して露光を行う第1の露光工程と、第1の露光工程において遮光された一部領域に対応する基板12上の領域に、直接露光により描画を行う第2の露光工程と、を備える。 - 特許庁
The mother pipe for bulging is produced through a first processing process in which a material 1 is formed into the mother pipe for bulging and through a second processing process in which the material 1 is processed to make bulging easier, and the second processing is carried out before the first processing process is completed.例文帳に追加
被成形材1に第1の加工を行ってバルジ加工用素管を製造するための第1の加工工程と、被成形材1にバルジ加工を容易化するための第2の加工を行うための第2の加工工程とを経てバルジ加工用素管を製造する際に、第2の加工が、第1の加工工程が完了する前に行われる。 - 特許庁
The control means executes a first process of supplying water to a level equal to or lower than half of a set water level by a water supply valve 13 and rotating the pulsator with the motor 6 and a second process of supplying water to a set water level by the water supply valve 13 after the first process ends and rotating the pulsator 2 with the motor 6.例文帳に追加
制御手段は、給水弁13により設定水位の半分以下の水位まで給水し、モータ6によりパルセーター2を回転させる第1の洗い行程と、この第1の洗い行程終了後に給水弁13により設定水位まで給水し、モータ6によりパルセーター2を回転する第2の洗い行程とを実行する。 - 特許庁
On the method for producing a high optical purity lactic acid by subjecting garbage to lactic acid fermentation, this method for producing a high optical purity lactic acid from garbage comprises the first process for reducing the amount of lactic acid contained in the garbage and the second process for subjecting the product obtained by the above first process to lactic acid fermentation.例文帳に追加
生ゴミを乳酸発酵に供することにより、高光学純度の乳酸を製造する方法において、生ゴミ中に含有される乳酸量を低減させる第一の工程と前記第一の工程の生成物を乳酸発酵に供する第二の工程とを具備する生ゴミから高光学純度の乳酸を製造する方法。 - 特許庁
The growth method of the nitride semiconductor layer comprises (a) a process for forming a first crystalline nitride semiconductor layer on the substrate, (b) a process for forming a nitride semiconductor buffer layer on the first crystalline nitride semiconductor layer and (c) a process for removing the obtained nitride semiconductor buffer layer and forming a second crystalline nitride semiconductor layer.例文帳に追加
(a)基板の上に、第1の結晶質窒化物半導体層を形成する工程と、(b)該第1の結晶質窒化物半導体層上に、窒化物半導体バッファ層を形成する工程と、(c)得られた窒化物半導体バッファ層を除去するとともに、第2の結晶質窒化物半導体層を形成する工程とを含む窒化物半導体層の成長方法。 - 特許庁
The treatment method of the waste water containing the sulfur-based COD component includes: a non chemical feed type solid-liquid separation process of separating the waste water into a solid content and first treated water before oxidation treatment; and an oxidation treatment process of performing the oxidation treatment to the first treated water obtained by the solid-liquid separation process and attaining second treated water.例文帳に追加
本発明の硫黄系COD成分を含有する廃水の処理方法は、酸化処理の前に、前記廃水を固形分と第1処理水とに分離する無薬注方式の固液分離工程と、該固液分離工程により得られた第1処理水に前記酸化処理を行って第2処理水とする酸化処理工程とを具えることを特徴とする。 - 特許庁
The process of forming the barrier film 20 comprises processes of: alternately laminating first layers 21a, 21b, 21c, 21d made of a first constituent, and second layers 22a, 22b, 22c made of a second constituent; and annealing the first and second layers.例文帳に追加
バリア膜20を形成する工程は、第1の成分からなる第1の層21a,21b,21c,21dと、第2の成分からなる第2の層22a,22b,22cとを交互に積層する工程と、これら第1の層及び第2の層をアニール処理する工程とを具備する。 - 特許庁
In a quenching process for quenching the workpiece W heated under state of laying on a first pallet P1 in a quenching booth 3 with air, the workpiece W is placed from the first pallet P2 onto a second pallet P2 other than the first pallet P1.例文帳に追加
第1パレットP1に載置された状態で加熱されたワークWを焼入れブース3内でエアにより焼入れする焼入れ工程において、ワークWは第1パレットP1から当該第1パレットP1とは別の第2パレットP2に載せ替えられる。 - 特許庁
A locus interpolation and processing part 14 and a locus interpolation and processing part 15 locus-interpolation-process the first and second Lissajous waveforms in such a way that the first and second Lissajous waveforms are prescribed by a linear relationship by using the first and second collation points as a reference.例文帳に追加
軌跡補間処理部14及び15はそれぞれ第1及び第2の照合点を基準として第1及び第2のリサージュ波形が線形的関係で規定されるように第1及び第2のリサージュ波形を軌跡補間処理する。 - 特許庁
The computer system is connected with a first computer to process the information from the outside, a third computer and a second computer as redundant computers of the first computer, the first or the third computer is started and transmits information to the second computer.例文帳に追加
外部からの情報を処理する第1の計算機と、第1の計算機の冗長計算機である第3の計算機と第2の計算機に接続し、第1または第3の計算機が起動し、第2の計算機に情報伝送を行なっている。 - 特許庁
The molding part material is equipped with a first molding part having a first surface for determining a surface shape of an optical element and a holding part held in a holding system of a processing machine which can process a back surface of an optical element uniformly with the first molding part.例文帳に追加
成型部材は、光学素子の表面の形状を定めるための第1面を有する第1モールド部と、第1モールド部と一体で、光学素子の裏面を加工可能な加工装置の保持機構に保持される被保持部とを備える。 - 特許庁
After that, when a holding releasing process of releasing the base metal 10 from holding of a first chuck 140 is performed, the base metal 10 drops owing to its dead load, and the first revolving table is stopped with a part of the base metal 10 projected from the end part of the first revolving table 102.例文帳に追加
その後、第1チャック140による母材10の保持を解除する保持解除工程を行うと、母材10が自重によって落下し、母材10の一部が第1旋回テーブル102端部から突出した状態で停止する。 - 特許庁
The wiring system first dummy pattern 2a of a first wiring layer, the wiring system second dummy pattern 4a of a second wiring layer, and the dummy pattern 5 of the contact hole which connects the first and the second dummy patterns, are arranged, so that working irregularity on a manufacturing process is reduced.例文帳に追加
また、第1配線層の配線系第1ダミーパターン2aと、第2配線層の配線系第2ダミーパターン4aと、第1及び第2ダミーパターンを接続するコンタクトホールのダミーパターン5を配置し、製造プロセス上での加工ばらつきを低減する。 - 特許庁
The method has a first process for implanting impurities to at least a second portion and a third portion excepting a first portion of a crystalline semiconductor film 3 formed on a base 1, and a second process for forming a source and a drain in the second portion and the third portion, respectively.例文帳に追加
基体1上に形成された結晶性半導体膜3のうち第1の部分以外の少なくとも第2の部分及び第3の部分に不純物を注入する第1の工程と、第2の部分および第3の部分にそれぞれソース及びドレインを形成する第2の工程とを備える。 - 特許庁
The second well 109 is formed after a process for effecting wet etching of the surface of the semiconductor substrate 101 including the first well 104 or divided into before and after the etching process whereby a condition that the first well 104 is electrically conducted with the semiconductor substrate 101 upon the wet etching is obtained.例文帳に追加
第1ウェル104を含む半導体基板101の表面をウェットエッチングする工程の後に、または、その前後に分けて、第2ウェル109を形成することにより、ウェットエッチング時において、第1ウェル104と半導体基板101が電気的に導通している状態にする。 - 特許庁
To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.例文帳に追加
ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
To improve an efficiency in working wood by a method wherein after finishing working wood by a first working process, working the following wood by the first working process can be immediately carried out, and the wood can be surely transferred onto a central part of a cross-feed conveyor.例文帳に追加
第1加工工程による木材の加工が終了後、直ちに第1加工工程による次の木材の加工が行なえると共に、木材を確実に横送りコンベアの中央部に移載することができ、かくして、木材の加工能率を向上させることができる。 - 特許庁
The character code registration system performs a registration process of character codes code-converted based on a plurality of conversion tables constituted of a standard code and first and second conversion tables in a second management table, and performs a registration process of the other character codes in a first management table and the second management table.例文帳に追加
標準コード、第1、第2の変換テーブルとから成る複数の変換テーブルに基づいてコード変換された文字コードは第2の管理テーブルに登録処理し、その他の文字コードは第1の管理テーブルと第2の管理テーブルに登録処理する文字コード登録システムである。 - 特許庁
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