「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

The compounded metal thin film particle is produced from a process at least comprising: a first process where a compounded metal thin film layer at least including a resin layer or a wax layer and a metal or metal compound layer is formed on a sheet-shaped base material 501 face; and a second process where the compounded metal thin film layer is peeled from the sheet.例文帳に追加

少なくとも、シート状基材５０１面に少なくとも樹脂層またはワックス層と金属または金属化合物層とを含む複合化金属薄膜層を形成する第１の工程と、前記複合化金属薄膜層をシートから剥離する第２の工程からなる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a piezoelectric oscillator capable of simplifying a manufacturing process by dispensing with an ultrasonic junction process of a gold bump and a gold electrode pad for electric connection between a semiconductor component and a first container in the manufacturing process of the piezoelectric oscillator.例文帳に追加

本発明の目的は、圧電発振器の製造工程において、半導体部品と第１の容器との電気的接続のための金バンプと金電極パッドの超音波接合工程を不要とし、製造工程の簡略化が可能な圧電発振器の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The interpolation frame generating unit 12b performs motion compensation interpolation process, by using a motion vector to the stationary region in the first region (background) and a process for reducing the motion compensation intensity of the motion compensation interpolation process to the stationary region in the second region (foreground).例文帳に追加

内挿フレーム生成部１２ｂは、第１の領域（背景）中の静止領域に対して、動きベクトルを用いた動き補償内挿処理を行い、第２の領域（前景）中の静止領域に対しては、動き補償内挿処理の動き補償強度を低減する処理を行う。 - 特許庁

In a determination process (S30), when the difference in the calculated values of the approximate quotient calculation process and the assumed quotient calculation process is larger than the predetermined upper limit value, based on the relation between the true quotient and the approximate quotient, the first integer is determined as not being a multiple of the second integer.例文帳に追加

判定処理（Ｓ３０）において、近似商算出処理および仮定商算出処理の算出値の差が真の商および近似の商の関係に基づく所定の上限値より大きい場合に、第１整数は第２整数の倍数ではないと判定される。 - 特許庁

Also the manufacturing method consists of a first process to subject the base material in the form of woven cloth to a carbonization treatment, a second process to impregnate the carbonized base material with a conductive resin or a resin, and a third process to harden the conductive resin or resin.例文帳に追加

織布化した基材を炭化処理する第１の工程と、炭化処理した基材に導電性樹脂または樹脂を含浸させる第２の工程と、基材に含浸させた導電性樹脂または樹脂を硬化させる第３の工程と、からなる燃料電池の拡散層の製造方法。 - 特許庁

The manufacturing method consists of a first process to give a shearing force to a paste consisting at least of carbon and resin, a second process to coat the base material with the paste given a shearing force, and a third process to bake the base material coated with the paste.例文帳に追加

少なくともカーボンと樹脂とからなるペーストに剪断力を付与する第１の工程と、剪断力が付与されたペーストを基材に塗布する第２の工程と、ペーストを基材に塗布後ペーストが塗布された基材を焼成する第３の工程と、からなる燃料電池の拡散層の製造方法。 - 特許庁

A process for forming a blind via hole is provided with a first process for opening a taper-shaped hole in an insulating layer 12 by focusing layer beams 14 on a work, and a second process for forming a vertical hole by just focusing the laser beams 14 on the work and for removing a taper part 16 by reducing the laser power.例文帳に追加

ブラインドビアホールの形成工程は、レーザビーム１４をワーク上にデフォーカスして絶縁層１２にテーパー状の孔を開ける第１工程と、レーザビーム１４をワーク上にジャストフォーカスし、且つ、レーザパワーを低下させて、テーパー部１６を除去して垂直なホールを形成する第２工程とを有する。 - 特許庁

The process of producing the external wrapping material 3 comprises a first mixing process of mixing medium-ground flour, hard flour, squid-ink powder, yeast and water together to form a kneaded mixture, and a second mixing process of adding strong flour, baking powder, starch, sugar, lard and water to the mixture to form dough.例文帳に追加

外包材３の製造工程は、中力粉、強力粉、イカ墨粉末、イーストおよび水を混合して混練物を形成する一次混合工程と、この混練物に強力粉、ベーキングパウダー、デンプン、砂糖、ラードおよび水を添加して生地を形成する二次混合工程と、を備えている。 - 特許庁

The helical gear is manufactured through a first process in which a spur gear is formed in the gear-forming section of the stock, a second process in which the tooth are twisted to form a tortional shape along the tortional angle of the helical gear 2b, and a third process in which it is corrected by the plastic processing tools for forming the helical gear 2b.例文帳に追加

素材の歯車形成部に平歯車を形成する第一工程と、この平歯車部を、はすば歯車２ｂのねじれ角にわたってねじり変形する第二工程と、はすば歯車２ｂ成形用の塑性加工工具にて修正加工する第三工程にて製造する。 - 特許庁

By a first process of half blanking and a second process to conduct pressing back with a pressing back tool having a profile shape hole part smaller than a hole shape profile, separation is conducted without pressing back a camber deformation generated in a half blanking process, a through hole is pierced to the metal plate.例文帳に追加

半抜き工程である第一工程と、孔形状輪郭よりも小さな輪郭形状の穴部を有する押し戻し工具による押し戻しを行う第２工程により、半抜き工程時に発生した反り変形を押し戻すことなく分離を行い金属板のに貫通孔を開ける。 - 特許庁

This sterilization method comprises a pressure reducing process for reducing the internal pressure of a pressure vessel; a first condensation process for condensing steam on the surface of the matter to be sterilized contained in the pressure vessel; and a second condensation process for condensing ethanol vapor on the surface of the matter to be sterilized.例文帳に追加

圧力容器内を減圧する減圧工程と、圧力容器内に収容した被殺菌物の表面に水蒸気を凝縮させる第一凝縮工程と、前記被殺菌物の表面にエタノール蒸気を凝縮させる第二凝縮工程とからなることを特徴としている。 - 特許庁

A method of producing a calcium fluoride single crystal comprises a first treatment process for adding a lead fluoride powder to a calcium fluoride powder and mixing the mixture, a second treatment process for keeping the resulting mixture at a specified temperature under a vacuum atmosphere, a third treatment process for allowing an evaporation reaction to occur at a specific temperature under a vacuum atmosphere, and further melting and crystallizing to form the single crystal.例文帳に追加

フッ化カルシウム粉体にフッ化鉛粉体を添加して混合する第一処理工程、真空雰囲気下で、特定温度に保持する第２処理工程、真空雰囲気下、特定温度下で揮発反応を起こさせる第３処理工程、次に融解して単結晶化させる。 - 特許庁

When receiving the report of an error detected as the result of the process of patrolling a secondary disk device 32, which process is implemented by a device adapter 24, a first recovery process part 40 reads from a normal primary disk device 30 the data corresponding to the error and writes the data into an error disk device 32 to solve the error.例文帳に追加

第1リカバリ処理部４０は、デバイスアダプタ２４によるセカンダリディスク装置３２のパトロール処理で検出されたエラー通知を受けた際に、正常なプライマリディスク装置３０からエラー箇所に対応するデータを読出してエラーディスク装置３２に書き込んでエラーを解消する。 - 特許庁

A control part 50 performs a first film thickness measuring process T20 in a time lag period T20, during which etching processing is started and performs second film thickness measuring process T21 to fifth film thickness measuring process T24 in the time lag periods T6 to T12, during which the supply of hydrofluoric acid L2 is stopped.例文帳に追加

制御部５０は、エッチング処理が開始されるタイムラグ期間Ｔ２０に第１の膜厚測定工程Ｔ２０を行い、フッ酸Ｌ２の供給が停止されるタイムラブ期間Ｔ６〜Ｔ１２に第２の膜厚測定工程Ｔ２１〜第５の膜厚測定工程Ｔ２４を行う。 - 特許庁

This multipath equalization built-in reception/conversion device can respond to any of a multipath equalization process, a bypass process and a suppression process of an adjacent channel signal by the two stages of SAW filters by changing over first and second switches 19, 110 to each other.例文帳に追加

本発明に係るマルチパス等化内蔵受信変換装置は、第１及び第２のスイッチ１９，１１０を切り替えることにより、マルチパス等化処理、バイパス処理及び二段のＳＡＷフィルタによる隣接チャンネル信号の抑圧処理のいずれかに対応することが可能となる。 - 特許庁

The thin film production system is provided with: a step where silicon-containing process gas is fed from a first gas feed part so that a silicon-containing film is deposited on a substrate using the silicon-containing process gas in a reaction chamber; and a step where an exhaust pump exhausts the silicon-containing process gas from the reaction chamber.例文帳に追加

反応室において、シリコン含有プロセスガスを用いて基板上にシリコン含有膜が形成されるように、第１ガス供給部からシリコン含有プロセスガスを供給するステップと、排気ポンプが、前記反応室から前記シリコン含有プロセスガスを排気するステップとを具備する。 - 特許庁

This method for manufacturing a magnetoresistive effect element includes at least a film forming process for forming a first ferromagentic layer, a second ferromagentic layer, and a non-magnetic layer; a preliminary heat treatment process for 60 minutes or more at 330 to 380°C; and a heat treatment process at 400 to 450°C in this order.例文帳に追加

基板上に、少なくとも、第１強磁性層、第２強磁性層および非磁性層を形成する成膜工程と、３３０〜３８０℃、６０分以上の予備熱処理工程と、４００〜４５０℃での熱処理工程と、をこの順に含む磁気抵抗効果素子の製造方法とする。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a first process in which a silicon oxide film 2 and a silicon nitride film 3 are laminated on a silicon substrate 1, a second process in which an oxide nitride film 4 is formed on the silicon nitride film 3 by thermal oxidation, and a third process in which a resist pattern 5 is formed on the oxide nitride film through lithography.例文帳に追加

シリコン基板１上に酸化シリコン膜２およびシリコン窒化膜３を積層する工程と、シリコン窒化膜３上に熱酸化して表面に酸化窒化膜４を形成する工程と、酸化窒化膜４上にリソグラフィーによりレジストパターン５を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The method comprises a first process SA1 of forming a luminescent layer in film on a substrate, a second process SA2 of putting the luminescent layer filmed on the substrate under heating treatment in an inert gas atmosphere, and a third process SA3 of exposing the heat-treated luminescent layer to the inert gas atmosphere for a given period of time.例文帳に追加

基板上に発光層を成膜する第１工程ＳＡ１と、基板上に成膜された発光層を不活性ガス雰囲気下で加熱処理する第２工程ＳＡ２と、加熱処理された発光層を活性ガス雰囲気下に所定時間さらす第３工程ＳＡ３とを有している。 - 特許庁

The manufacturing method has a first process wherein a substantially spherical resin lump constituted of a resin is molded by injection molding, a second process wherein a spherical resin material 31 is formed by grinding the resin lump and a third process wherein the resin material 31 is formed with heat and pressure by using a forming mold 32.例文帳に追加

樹脂からなる略球状の樹脂塊を射出成形によって形成する第１の工程と、樹脂塊を研磨することによって球状の樹脂材３１を形成する第２の工程と、成形型３２を用いて樹脂材３１を加熱加圧成形する第３の工程とを備える。 - 特許庁

In the main formation step, the semiconductor film is formed by including a process for alternately performing a plurality of times a process S32 for forming the epitaxial film under the formation conditions set on the basis of the quantity of evaporation obtained in the evaluation step, and a process for ion-implanting the first impurity into the epitaxial film.例文帳に追加

本形成工程では、評価工程で得られた蒸発量に基づいて設定される形成条件でエピタキシャル膜を形成する処理Ｓ３２と、エピタキシャル膜に第１不純物をイオン注入する処理と交互に複数回数行う処理を含んで半導体膜を形成する。 - 特許庁

Even if a plurality of etching treatment processes are not carried out, the side etching can be prevented by effecting the coating treatment process between the first etching treatment process and the second etching treatment process, so that a plurality of processed layers can be formed in a desired shape by a smaller number of man-hours.例文帳に追加

第１エッチング処理工程と第２エッチング処理工程との間に、被覆処理工程を設けることによって、エッチング処理工程を複数回行わなくても、サイドエッチを防止することができ、少ない工数で、複数の被処理層を所望の形状に形成することができる。 - 特許庁

This manufacturing method of the Nb_3Sn superconductive wire rod is provided with a process to manufacture a complex by alternately laminating a first base material comprising a mixture of Sn and M and a second base material comprising Nb or a Nb-based alloy, a process to machine the complex to the wire rod, and a process to heat-treat the wire rod.例文帳に追加

ＳｎとＭとの混合体からなる第１の基材とＮｂまたはＮｂ系合金からなる第２の基材とを交互に積層して複合体を作製する工程と、複合体を線材に加工する工程と、線材を熱処理する工程とを具備する。 - 特許庁

A log generation module 12 detects system call processing issued by a process operating on a computer to an operating system and generates a first log including file identification information for identifying a file to which file operation has been performed and process identification information for identifying a process to which file operation is performed.例文帳に追加

ログ生成モジュール１２は、コンピュータ上で動作するプロセスがオペレーティングシステムに対して発行するシステムコール処理を検出し、ファイル操作が行われたファイルを識別するファイル識別情報と、ファイル操作を行ったプロセスを識別するプロセス識別情報とを含む第１のログを生成する。 - 特許庁

In an observation environment of a printed result of a second conversion process, CMYK values are specified which print the same color perceived as a presumed perceived color in the first conversion process.例文帳に追加

そして、第二変換工程においては印刷結果の観察環境において、第一変換工程にて推定された知覚色と同様に知覚される色が印刷できるＣＭＹＫ値を特定することができる。 - 特許庁

It is suitable to continuously perform a first process of heating coagulating agent-added soymilk at 80-85°C to make a dried bean curd film on a surface, and a second process of heating the soymilk at ≥90°C to make bean curd.例文帳に追加

凝固剤添加豆乳を、８０〜８５℃に加熱して表面に湯葉膜を作らせる第一工程と、その後に９０℃以上に加熱して豆腐を作らせる第二工程を連続的に行うことが好適である。 - 特許庁

A first measurement mode is set to analyze/process mainly particle components A of a small particle size and a large number, while a second measurement mode is set to analyze/process particle components B of a small number and a large size.例文帳に追加

第１の測定モードは主に粒子サイズが小さく数の多い粒子成分Ａを分析処理し、第２の測定モードでは数が少ないサイズの大きい粒子成分Ｂを分析処理するように設定されている。 - 特許庁

At a second color conversion process, a CMYK value can print a color similar to the perceived color evaluated at the first color conversion process, and can be specified by an observation environment of printing result.例文帳に追加

そして、第二色変換工程においては印刷結果の観察環境において、第一色変換工程にて推定された知覚色と同様に知覚される色が印刷できるＣＭＹＫ値を特定することができる。 - 特許庁

Power generation is conducted with the assembly prepared in the first process, or the manufacturing method includes a second process moving the cations in the polymer electrolyte of the assembly by applying voltage to the assembly.例文帳に追加

また、第１の工程で用意した接合体を用いて発電を行ない、あるいは、接合体に電圧を印加して、接合体が備える高分子電解質内で上記カチオンを移動させる第２の工程を備える。 - 特許庁

To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An etching process using first and second patterns is performed; and a hard mask pattern (111) shown in Fig. 6 is formed with a partial region of an interlayer insulation film (103), which is a contact hole region to be formed in a subsequent process, exposed.例文帳に追加

第１，第２パターンを用いたエッチング工程を行い、後工程で形成されるコンタクトホール領域である層間絶縁膜(103)の一部領域を露出させてハードマスクパターン（図６参照：111）を形成する。 - 特許庁

This pattern forming method has the first process for coating a substrate P having a lyophilic part Pa with liquid droplets containing a liquid repelling material to form the liquid repelling part H and the second process for coating the lyophilic part Pa with the functional liquid.例文帳に追加

親液部Ｐａを有する基板Ｐに対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部Ｈを形成する第１工程と、親液部Ｐａに機能液を塗布する第２工程とを有する。 - 特許庁

Further, the method includes: a process for generating second index information part based on the second standard being interchangeable with the first standard; and a process in which the second index information part is arranged directly after the animation data index part.例文帳に追加

更に、第１の規格と互換性のある第２の規格に準拠した第２インデックス情報部を生成する工程と、動画像データインデックス部の直後に第２インデックス情報部を配置する工程を備える。 - 特許庁

Moreover, a modulating section 20 of the telegram message transmitting apparatus 1 executes a first modulation process and a second modulation process to generate a combined carrier signal including the carrier component of the transmitting telegram message and the carrier component of the verifying telegram message.例文帳に追加

そして、変調部２０により第１変調処理及び第２変調処理が行われ、送信電文の搬送波成分と検証電文の搬送波成分との合成搬送波信号が生成される。 - 特許庁

In the second process, the CaO-based flux and granular and/or powdery desulfurizing agent wire mixed with metallic Mg and/or MgO are charged into the molten pig iron finishing the first process to carry out the desulfurizing treatment.例文帳に追加

第２工程は、第１工程が終了した溶銑中に、ＣａＯ系フラックスと、金属Ｍｇ及び／またはＭｇＯとを混合した、粒状及び／または粉状の脱硫剤ワイヤを投入して脱硫処理を行う。 - 特許庁

When, in the first process, it is determined that the DHCP server does not exist on the network 100, the PXE client terminal 1 is provided with a second process to assign a private IP address to itself.例文帳に追加

第１の過程により、ＤＨＣＰサーバがネットワーク１００上に存在しないと判定された場合に、ＰＸＥクライアント端末装置１が自身にプライベートＩＰアドレスを割り当てる第２の過程を備える。 - 特許庁

To provide a driving circuit which can be tested before a plurality of driven elements are formed on a substrate by a second manufacturing process after a driving circuit is formed on the same substrate by a first manufacturing process.例文帳に追加

第１製造プロセスにより基板上に駆動回路を形成した後、第２製造プロセスにより同一の基板上に複数の被駆動素子を形成する前にテストを行うことができる駆動回路を提供する。 - 特許庁

When a semiconductor wafer is loaded in a spinner 110, a first controller 120 sets an optimum process parameter according to the inputted information on the semiconductor wafer, and controls the spinner 110 according to the set process parameter.例文帳に追加

第１コントローラ１２０が、半導体ウェーハがスピンナ１１０内にローディングされれば、入力される半導体ウェーハ情報に従って最適な工程パラメータを設定して、工程パラメータに従ってスピンナ１１０を制御する。 - 特許庁

Furthermore, in a differential multi-peak dividing process, the dividing process is carried out by using Gaussian function, and the second weight reduction peak area value is divided by the first weight reduction peak area value, thereby deriving a weight reduction ratio.例文帳に追加

更に、微分多重ピーク分割処理にはガウス関数を用いて分割処理し、第二次重量減少ピーク面積値を第一次重量減少ピーク面積値で割って重量減量比を算出する。 - 特許庁

A transmission device uses first ciphering information which changes in accordance with sequence information to encrypt ciphering-process-target data, assigns the sequence information to encrypted information of the ciphering-process-target data, and transmits the them to a reception device.例文帳に追加

送信装置は、シーケンス情報に応じて変化する第１の秘匿情報を用いて、秘匿処理対象データを暗号化し、秘匿処理対象データの暗号情報にシーケンス情報を付与して受信装置に送信する。 - 特許庁

The driving method comprises first performing detection process, and in succession, detecting the operation mode of the semi-transmission type display, regulating the parameter values of the driving directions by the results of the detection process and optimizing display in the operation mode.例文帳に追加

該駆動方法はまず検知プロセス行い、半透過式ディスプレイの動作モードを検知し、続いて検知プロセスの結果によって駆動回路のパラメーター値を調整し、その動作モードにおける表示を最適化する。 - 特許庁

If any one of the results of collation in the first collating process and the second collating process is noncompliant, transmission of the transmitting telegram message by the transmitting section 40 is stopped under the control of the processing section 10.例文帳に追加

そして、第２照合処理の照合結果、及び、第１照合処理の照合結果の何れかが不適合であれば、送信部４０の送信電文の送信の停止制御が処理部１０により行われる。 - 特許庁

In a second molding process, a plurality of components obtained in the first molding process are put into a dust core molding mold, and arranged at predetermined positions in the dust core molding mold so that the respective components form teeth 22.例文帳に追加

第二成形工程は、第一成形工程で得られた複数の部品を圧粉コア成形用金型内に入れ、各部品がティース２２を形成するように各部品を圧粉コア成形用金型内の所定位置に配置する。 - 特許庁

The image forming apparatus performs the process control during transition from a standby mode to an energy-saving mode by a second condition in which image quality adjustment processing is performed in earlier timing than that of a first condition for performing the ordinary process control.例文帳に追加

画像形成装置は、待機モードからから省エネルギーモードへの移行時に、通常のプロコンを行う第１条件よりもより早いタイミングで画質調整処理が実施される第２条件でプロコンを実施している。 - 特許庁

Its manufacturing method includes a first process for obtaining the Ag-WC-Co alloy by an infiltration method and a second process for generating and coagulating liquid phases on the contact point surface of the Ag-WC-Co alloy.例文帳に追加

また、その製造方法は、溶浸法でＡｇ−ＷＣ−Ｃｏ合金を得る第１の工程と、そのＡｇ−ＷＣ−Ｃｏ合金の接点表面に液相を生成して凝固する第２の工程からなる。 - 特許庁