「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing the light-emitting element includes a process for forming the irregularities on the first main surface of the A1_20_3 substrate by using the self-organization pattern of the block copolymer or the graft copolymer and a process for forming the light-emitting layer on the first main surface of the A1_20_3 substrate.例文帳に追加

発光素子の製造方法はブロックコポリマーまたはグラフトコポリマーの自己組織化パターンを用いて、Ａｌ_２Ｏ_３基板の第一主面に凹凸を形成する工程と、前記Ａｌ_２Ｏ_３基板の第一主面上に発光層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A second coloring layer 60 is formed so as to be buried in an opening section 59 which is formed on the first coloring layer 56 with a dry etching process, and a third coloring layer 64 is formed so as to be buried in an opening section 63 which is formed on the first and second coloring layers 56, 60 with a dry etching process.例文帳に追加

第１の着色層５６にドライエッチング処理で形成した開口部５９に埋め込むように第２の着色層６０を形成し、第１及び第２の着色層５６，６０にドライエッチング処理で形成した開口部６３に埋め込むように第３の着色層６４を形成する。 - 特許庁

A first microcomputer 20 installed in an engine ECU 10 performs data updating in the write-back method, and when performing data writing process about specific data, the first microcomputer 20 performs data writing process(forced write-back) about dummy data whose tags are different having the same index as that of the data.例文帳に追加

エンジンＥＣＵ１０が備える第１のマイコン２０は、ライトバック方式のデータ更新を行い、特定のデータについてのデータ書込処理を行った場合には、そのデータと同一のインデックスでタグの異なるダミーデータについてのデータ書込処理（強制ライトバック）を行う。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a process for forming the ink channel walls 34 for partitioning a plurality of ink channels from each other between the first mold material 16 on the Si substrate 11 and a process for forming the second mold material 36 which occupies the portion becoming the ejection ports communicating with the ink channels on the first mold material 16.例文帳に追加

さらに、複数のインク路同士を仕切るインク路壁３４を、Ｓｉ基板１１上の第１の型材１６同士の間に形成する工程と、第１の型材１６の上に、インク路に連通する吐出口となる部分を占有する第２の型材３６を形成する工程とを有する。 - 特許庁

This method comprises a process for arranging a first joint material 10 like a belt plate having an upper end being at crest level L of the earthen floor slab at its erected attitude on a face for placing the earthen floor slab provided on the ground and a process for arranging a second joint material 11 like a belt plate by overlapping it on a side face of the first joint material 10.例文帳に追加

地盤に設けた土間床版打設用面上で、上端が土間床版の天端レベルＬとなる帯板状の第１の目地材１０を立ち姿勢に配置する過程と、この第１の目地材１０の側面に重ねて帯板状の第２の目地材１１を配置する過程とを含む。 - 特許庁

To provide a device for preventing process collision based on multiple asynchronous input signals by conducting a first come first serve process for multiple input signals being applied in an asynchronous manner so that no collision is generated and element operations having high reliability are realized.例文帳に追加

本発明は、非同期で印加される複数の入力信号を先入力入先処理して衝突が発生しないようにすることによって、高い信頼性を有する素子動作を実現することができる、非同期の複数入力信号によるプロセス衝突の防止装置を提供すること。 - 特許庁

When determining the process of off-road run in the first road surface condition from the first off-road determination and determining the process of off-road run from the second off-road determination, the controller 12 executes off-road control to protect the CVT 1 from the sudden torque.例文帳に追加

そして、第１の悪路判定により第１の路面状態の悪路走行中であると判定され、かつ、第２の悪路判定によりオフロード走行中であると判定された場合には、コントローラ１２は、突発トルクからＣＶＴ１を保護するためのオフロード制御を実行する。 - 特許庁

A conductive film is formed on a film by a thin film forming method in a conductive film forming process 11, and first and second ceramic sheets are made so that the amount of binder of the second ceramic sheet is smaller than that of the first ceramic sheet in a ceramic sheet manufacturing process 12.例文帳に追加

導電膜形成工程１１で薄膜形成法によりフィルム上に導電膜を形成し、セラミックシート作製工程１２で第２のセラミックシートのバインダ量が第１のセラミックシートのバインダ量よりも少量となるように第１及び第２のセラミックシートを作製する。 - 特許庁

For example, when switching operation of a first cylinder to the two cycle self-ignition operation system, a scavenging process of the first cylinder shown by mark C is overlapped on a suction process by the four cycle spark ignition operation system of a second cylinder shown by mark B.例文帳に追加

例えば、図５に示した例において、第１気筒の運転を２サイクル自着火運転方式へと切り替える際、符合Ｃにより示す第１気筒の掃気行程が符合Ｂにより示す第２気筒の４サイクル火花点火運転方式による吸気行程と重複する。 - 特許庁

After the first ink channel R1 is opened, the negative pressure application time is controlled in accordance with contents of a purge process, e.g. a size of a time passed after ink is exchanged or after a previous purge process, and the rotor 34 of the switching valve 30 is moved to the shut position to shut the first ink channel R1.例文帳に追加

第１インク流路Ｒ１の開通後、パージ処理の内容、例えばインク交換後とか前回のパージ処理からの経過時間の大きさに応じて負圧印加時間を制御し、開閉弁３０のロータ３４を閉塞位置に移動して、第１インク流路Ｒ１を閉塞する。 - 特許庁

A second device 104 reads the device information file 110, and based on it, it writes a cooperation setting file 112 indicating the first process to be performed by the first device 102 according to the input by the user and the second process to be performed by the second device 104 afterward, to the storage device 106.例文帳に追加

次に、第２装置１０４が装置情報ファイル１１０を読み込み、それに基づき、ユーザの入力に従って第１装置１０２が行うべき第１処理とその後に第２装置１０４が行うべき第２処理とを示した連携設定ファイル１１２を、記憶装置１０６に書き込む。 - 特許庁

A first correction process is performed for the passing component image for left eye on the basis of the first image for correction to create a last image for left eye, and a second correction process is performed for the passing component image for right eye on the basis of the second image for correction to create a last image for right eye.例文帳に追加

第１の補正用画像に基づいて左眼用通過成分画像に対して第１の補正処理を行って左眼用最終画像を生成し、第２の補正用画像に基づいて右眼用通過成分画像に対して第２の補正処理を行って右眼用最終画像を生成する。 - 特許庁

The surface treatment method is provided with: a 1st shot-peening process where hard fine particles are peened on the surface 3a of a fitting 2 to form a first rust preventive layer; and a 2nd shot-peening process where soft fine particles are peened to form a second rust preventive layer on the first rust preventive layer.例文帳に追加

金具２の表面３ａに硬質系微粒子を打ちつけて第１防錆層を形成する第１ショットピーニングを行う工程と、軟質系微粒子を打ちつけて第１防錆層の上に第２防錆層を形成する第２ショットピーニングを行う工程とを備えている。 - 特許庁

The inclination calculation process obtains, by logarithmically approximating, an inclination of a linear line in a double logarithmic chart showing a relationship between the number of counts and block sizes obtained in the number of counts calculation process as the feature amount related to the complexity of the first block for each of the first blocks.例文帳に追加

傾き算出工程では、第１ブロックの各々について、第１ブロックの複雑さに関する特徴量として、カウント数算出工程により求められたカウント数とブロックサイズとの関係を示す両対数グラフにおける直線の傾きが対数近似に基づいて求められる。 - 特許庁

Then, a direct pushing-out process is executed, wherein a second carrying means (12) sequentially pushes out articles of the second article layered body (B) with the article at the bottom first to the exit (4) when the indirect pushing-out process is repeated to cause shortage of articles of the first article layered body (A).例文帳に追加

その後、間接押出工程を繰り返し第一物品積層体(A)の物品が欠乏すると、第二ストッカー(3b)における第二物品積層体(B)の物品を第二移送手段(12)により最下位の物品から順に出口(4)に向けて押し出す直接押出工程が実行される。 - 特許庁

In the intercoating process 14, a first intercoating station 30a-a fourth intercoating station 30d are provided in parallel to each other and, in the topcoating process 16, a first topcoating station 34a-a sixth topcoating station 34f are provided in parallel to each other.例文帳に追加

中塗り塗装工程１４は、第１中塗り塗装ステーション３０ａ〜第４中塗り塗装ステーション３０ｄを互いに並列して設けるとともに、前記上塗り塗装工程１６は、第１上塗り塗装ステーション３４ａ〜第６上塗り塗装ステーション３４ｆを互いに並列して設ける。 - 特許庁

A first buffer layer 32 composed of amorphous A1N is grown on the (100) face of an Si substrate 31 by a first buffer-layer growth process, and a second buffer layer 33 composed of A1N as a single crystal is grown on the layer 32 by a second buffer-layer growth process.例文帳に追加

第１バッファ層成長工程によって、Ｓｉ基板３１の（１００）面上にアモルファスのＡｌＮからなる第１バッファ層３２を成長させた後、第２バッファ層成長工程で、第１バッファ層３２の上に単結晶のＡｌＮからなる第２バッファ層３３を成長させる。 - 特許庁

The data processing apparatus includes an interleaver operable to perform an odd interleaving process which interleaves the first sets of input data symbols onto sub-carrier signals of first OFDM symbols and an even interleaving process which interleaves the second sets of input data symbols onto sub-carrier signals of second OFDM symbols.例文帳に追加

データ処理装置は、第１のセットの入力データシンボルを、第１のＯＦＤＭシンボルのサブキャリア信号にインタリーブする奇数インタリーブ処理と、第２のセットの入力データシンボルを、第２のＯＦＤＭシンボルのサブキャリア信号にインタリーブする偶数インタリーブ処理とを実行するインタリーバを具備する。 - 特許庁

The controlled variable is processed subjected to lower limit process with using a first lower limit value based on gradient of road surface, and is subjected to lower limit process with using a second lower limit value based on accelerator opening and is output to an engine control part 2 when road surface gradient can not be acquired and the first lower limit value can not be set.例文帳に追加

そして、この制御量を、路面勾配に基づく第１の下限値を用いて下限処理し、また、路面勾配が取得できず第１の下限値が設定できない場合は、アクセル開度に基づく第２の下限値を用いて下限処理し、エンジン制御部２に出力する。 - 特許庁

The junction article 1 is produced through the first process in which the first resin member 2 and the second resin member 3 are arranged to overlap each other while a solvent 41 intervenes between them and the second process in which the resin members 2 and 3 are heated/pressurized to be joined together.例文帳に追加

樹脂製接合品１を製造するには、第１の樹脂部材２と第２の樹脂部材３とを間に溶剤４１が介在する状態で重なり合った状態とする第１工程と、樹脂部材２、３を加熱、加圧して樹脂部材２、３を接合させる第２工程とを行う。 - 特許庁

The pre-molding material (13) is a one-piece product formed by jointing a first molding part (14) for making the inside member (10) by a deep-drawing process and a second molding part (15) for making the outside member (11) by the deep-drawing process through a coupling part (16) with the surface of the first molding part (14) roughened.例文帳に追加

プレ成形材料(13)は、深絞り加工により内側部材(10)を作るための第１成形部分(14)と、深絞り加工により外側部材(11)を作るための第２成形部分(15)を連結部分(16)によって連ねた１ピース品であり、第１成形部分(14)が粗面化されている。 - 特許庁

This method for reusing a powder coating includes a process (S5) to blend a plurality of different kinds of the primary color coatings to manufacture the first toning coating and a process (S7) to store the blending ratio or the composition ratio of the primary color coatings of the first toning coating material into computer-readable memory.例文帳に追加

この方法は、複数種類の原色塗料を配合して第１調色塗料を作成する工程（Ｓ５）と、前記第１調色塗料に於ける原色塗料の配合比或いは組成比をコンピュータ読み取り可能メモリへ記憶する工程（Ｓ７）とを有する。 - 特許庁

In the intercoating process 14, a first intercoating station 20a to a fourth intercoating station 20d are provided in parallel to each other and, in the topcoating process 16, a first topcoating station 24a to a sixth topcoating station 24f are provided in parallel to each other.例文帳に追加

中塗り塗装工程１４は、第１中塗り塗装ステーション２０ａ〜第４中塗り塗装ステーション２０ｄを互いに並列して設けるとともに、前記上塗り塗装工程１６は、第１上塗り塗装ステーション２４ａ〜第６上塗り塗装ステーション２４ｆを互いに並列して設ける。 - 特許庁

This manufacturing method comprises a first process of heating a first semiconductor layer 12 of III nitride compound semiconductor in an atmosphere of gas containing nitrogen atoms, and a second process of growing a second semiconductor layer 13 of III nitride compound semiconductor in crystal.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体からなる第１の半導体層１２を、窒素原子を含む気体中で加熱する工程と、その後、第１の半導体層１２上に、III族窒化物系化合物半導体からなる第２の半導体層１３を結晶成長させる工程とを含む。 - 特許庁

A control unit of a power conversion device subjects a first duty command signal D11 for a voltage applied to a first winding pair to a lower solid two-phase modulation process, and a second duty command signal D12 for a voltage applied to a second winding pair to an upper solid two-phase modulation process.例文帳に追加

電力変換装置の制御部は、第１巻線組に印加される電圧に係る第１デューティ指令信号Ｄ１１を下べた二相変調処理し、第２巻線組に印加される電圧に係る第２デューティ指令信号Ｄ１２を上べた二相変調処理する。 - 特許庁

The method for manufacturing an optical glass includes a process of producing a preparatory glass by melting plural kinds of glass raw materials and a process of manufacturing an optical glass by melting the preparatory glass, wherein a first preparatory glass and one or more kinds of preparatory glasses having Abbe's numbers different from that of the first preparatory glass are mixed.例文帳に追加

複数種類のガラス原料を溶解して予備ガラスを得る工程と、予備ガラスを溶解して光学ガラスを製造する工程を有する光学ガラスの製造方法であって、第１の予備ガラスと、第１の予備ガラスとアッベ数が異なる１種以上の予備ガラスとを混合する。 - 特許庁

The OFDM signal receiver 100 includes an arithmetic means process processing part 1 for executing an arithmetic means process between a first symbol range in a guard interval signal and a second symbol range being a duplicate source of a first symbol range in an effective symbol signal.例文帳に追加

本発明に係るＯＦＤＭ信号受信装置１００は、ガードインターバル信号における第一のシンボル範囲と、有効シンボル信号における第一のシンボル範囲の複製元である第二のシンボル範囲との加算平均処理を実施する、加算平均処理処理部１を、備えている。 - 特許庁

A light emitting diode 1 is easily manufactured through a method which comprises a first process of placing a pair of plane leads 3a and 3b in a site first, an a second process of mounting a light emitting element 2 on the lead 3a and bonding it to the other lead 3b with a bonding wire 4, while the processes are carried out keeping components horizontal.例文帳に追加

発光ダイオード１は、最初はそれぞれ平板の１対のリード３ａ，３ｂを作業場所に静置して一方のリード３ａに発光素子２をマウントし、発光素子２を他方のリード３ｂとワイヤ４でボンディングする作業を全て水平な状態で行えるので製造が容易である。 - 特許庁

The method for producing a porous body containing a dry gel has a dry gel production process comprising a step for preparing a first gel 2 having a first solid skeleton and first micropores and a reconstruction step for decomposing at least a part of the first solid skeleton and forming a second skeleton thicker than the first solid skeleton.例文帳に追加

乾燥ゲルを含む多孔体の製造方法であって、乾燥ゲルを製造する工程が、第１固体骨格と第１細孔とを有する第１ゲル２を用意する工程と、第１固体骨格の少なくとも一部を分解するとともに第１固体骨格よりも太い第２固体骨格を形成する再構築工程とを包含する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the wiring board 100, a first small diameter charge via conductor 110b having a small diameter via projecting part 116b is formed in a first small diameter via hole 111b, and a first large diameter charge via conductor 110c having a large diameter via recessed part 116c is formed in a first large diameter via hole 111c in a first charge via conductor forming process.例文帳に追加

本発明の配線基板１００の製造方法は、第１充填ビア導体形成工程で、第１小径ビアホール１１１ｂに小径ビア凸部１１６ｂを有する第１小径充填ビア導体１１０ｂを形成すると共に、第１大径ビアホール１１１ｃに大径ビア凹部１１６ｃを有する第１大径充填ビア導体１１０ｃを形成する。 - 特許庁

A first and second assembly sections 15, 19 having first and second body fixtures 13, 17 for a wide use and positionable a door inner panel 3 that is the body component are provided in a component setting process 1.例文帳に追加

部品セット工程１には、本体部品であるドアインナパネル３を位置決め可能な汎用治具である第１，第２本体治具１３，１７を備える第１，第２組み付け部１５，１９を設ける。 - 特許庁

In the manufacturing process of the phase change memory using chalcogenide type material, after depositing chalcogenide and after processing a desired shape, the substrate is first washed by a first clearing solvent containing hydrogen fluoride, nitric acid or hydrogen fluoride and nitric acid, and an acetic acid.例文帳に追加

カルコゲナイドを成膜後及び所望の形状に加工した後に、まずフッ化水素と硝酸またはフッ化水素と硝酸と酢酸を含有した第１の洗浄液により基板を洗浄する。 - 特許庁

The process of fabricating the slip ring component includes forming a first shot (404), forming a second shot (402), and immersion bathing the first shot (404) and the second shot (402).例文帳に追加

スリップリング部品の製造方法は、第１ショット（４０４）を形成する工程と、第２ショット（４０２）を形成する工程と、第１ショット（４０４）及び第２ショット（４０２）を浸漬する工程とを具備する。 - 特許庁

The first and second linear portions 40a and 40b of the shading coil 40 are fixed to the first and second grooves 15 and 17 of the fixed iron core 10, respectively, by swaging process.例文帳に追加

シェーディングコイル４０の第１の直線部４０ａ及び第２の直線部４０ｂは、固定鉄心１０の第１の溝部１５及び第２の溝部１７に対して加締加工によって固定されている。 - 特許庁

(2) At the first process, the temperature of the first area of the inner surface of the mold distant from the injection gate 55 is made higher than the temperature of the second area of the inner surface of the mold near to the injection gate 55.例文帳に追加

（２）第１の工程で、金型内部表面の射出ゲート５５から遠い第１の領域の温度を前記金型内部表面の射出ゲート５５に近い第２の領域の温度より高くする。 - 特許庁

When the adhesion of the laundry cannot be avoided by only one repetition of the first and second processes, the first and second processes are repeated a plurality of times and then the dehydration in the third process is performed.例文帳に追加

第１工程と第２工程との一回の繰返しだけでは洗濯物の付着を回避できないときは、第１工程と第２工程とを複数回繰返した後、第３工程の脱水を行なう。 - 特許庁

At first, in the first growth process, NH_3 and TMG are turned on (supplied) in the chamber of an MOCVD device and TMA is turned off (stopped) in order to grow an electron traveling layer (GaN layer).例文帳に追加

まず、第１成長工程においては、電子走行層（ＧａＮ層）を成長させるため、ＭＯＣＶＤ装置のチャンバ内に、ＮＨ_３とＴＭＧがオン（供給）され、ＴＭＡはオフ（停止）とされる。 - 特許庁

Thereafter, an insertion force is applied to the Z-pin at a first level which is sufficient to commence an insertion process wherein the Z-pin is driven into the composite laminate at a first insertion speed.例文帳に追加

その後、第１の挿入速度にて複合材料積層材の中へＺピンを押し進める挿入プロセスを開始するのに充分な第１のレベルの挿入力がＺピンに対し加えられる。 - 特許庁

In the laminates forming process, a laminated substrate 12 is formed by bonding to a tabular first ceramic layer 22, a second ceramic layer 23 which is tabular and more excellent in a machinability than the first ceramic layer 22.例文帳に追加

積層体形成工程では、平板状の第１のセラミックス層２２に、第１のセラミックス層２２よりも被削性の良い平板状の第２のセラミックス層２３を接着して積層基板１２を構成する。 - 特許庁

During the above process, respective page buffers charge previously a first contact through the latches connected to a sense node, and the page buffers connect electrically a second contact connected to a sense circuit and the first contact.例文帳に追加

この時、それぞれのページバッファは感知ノードに連結されたラッチを通じて第１接点を先に充電した後、感知回路に連結された第２接点と前記第１接点とを電気的に連結する。 - 特許庁

Substrates in a reaction chamber are sequentially exposed to at least three gas atmospheres: a first atmosphere of a first purge gas, a second atmosphere of a process gas and a third atmosphere of a second purge gas.例文帳に追加

反応チャンバ内の基板を、第１パージガスからなる第１雰囲気、プロセスガスからなる第２雰囲気及び第２パージガスからなる第３雰囲気の、少なくとも３種類のガス雰囲気に順次露出する。 - 特許庁

A pair of right and left side members is positioned in an under body 1 with a first jig, and the lower portion welding edges are fit to the right and left welding edges of the under body 1 (a first process).例文帳に追加

アンダーボディ１に対して左右一対のサイドメンバー３を第１治具を使用して位置決めすると共にその下位溶接縁をアンダーボディ１の左右溶接縁に合わせて取付ける（第１工程）。 - 特許庁

A process for adjusting includes rotation of the exposure head 16, which is used in at least one of the first exposure and the second exposure, in the direction to eliminate a difference between the first angle and the second angle.例文帳に追加

調整の工程は、第１角度及び第２角度の差をなくす方向に、第１露光及び第２露光の少なくとも一方で使用される露光ヘッド１６を回転させることを含む。 - 特許庁

After exposure of a resist film for EUV on a wafer W but before a development process, the PEB device 83 firstly heats the wafer W at a first heating temperature using the first thermal plate 140.例文帳に追加

ウェハＷ上のＥＵＶ用レジスト膜の露光処理後であって現像処理前において、ＰＥＢ装置８３では、先ず、第１の熱板１４０によって第１の加熱温度でウェハＷを加熱する。 - 特許庁

A first defective image formation element compensation process is performed (308) for portions of the image data (120) that are associated with a first predetermined number or fewer adjacent defective image formation elements (30).例文帳に追加

第１の所定数のまたはそれより少ない数の隣接する欠陥画像形成素子(30)に関連する画像データ(120)の部分に対して、第１の欠陥画像形成素子補償処理が実施される(308)。 - 特許庁