「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a formation process of the sealing member 55 against the first member 50 and hydrolysis process against the electrolyte precursor resin are simultaneously carried out in the molding dies 60, 60 to obtain the fuel cell-constituting material A.例文帳に追加

そして、第１部材５０に対するシール部材５５の形成処理と電解質前駆体樹脂に対する加水分解処理とを成形型６０，６０内で同時に行って、燃料電池構成材Ａとする。 - 特許庁

The method comprises a first process of applying a droplet containing a liquid repellent material to the substrate having the lyophilic part to form the liquid repellent part, and a second process of applying the functional fluid to the lyophilic part between the liquid repellent parts.例文帳に追加

親液部を有する基板に対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部を形成する第１工程と、撥液部の間の親液部に機能液を塗布する第２工程とを有する。 - 特許庁

Each of the first and the second processes has end control information that shows an end control process of the loop is included and change information showing change of data referred in a subsequent process of the loop.例文帳に追加

第１及び第２の処理は、それぞれループの終了制御処理を含むことを示す終了制御情報と、ループの後続処理で参照されるデータの変更を示す変更情報とを持つ。 - 特許庁

As a first process before a second process to blank a product 2 from a metal plate stock 1, a notch 5 is formed between the outer edge of the metal plate stock 1 and the outer edge plane line of the product 2.例文帳に追加

金属材料板１から製品２を打抜く第二工程の前に、第一工程として、金属材料板１の外縁と製品外縁予定線との間に切込み５を形成する。 - 特許庁

The first resin charging process includes the process of using a mask 1 that has through-holes 1a in positions corresponding to regions surrounded by the casings 8, to charge the resin 10 into the regions surrounded by the casings 8.例文帳に追加

第１樹脂充填工程は、ケース部８に囲まれる領域に対応する位置に通孔１ａを有する孔版１を用いて、前記領域に樹脂１０を充填する工程を含む。 - 特許庁

A method for printing the image comprises the first process wherein the image of the latent image with a fluorescent dye is formed by thermal diffusion transfer, and the second process wherein the visible dye is formed on the image of the latent image by the thermal diffusion transfer.例文帳に追加

熱拡散転写により蛍光染料の潜像画像を形成する第１工程と、前記潜像画像上に可視染料を熱拡散転写する第２工程を有する印画方法。 - 特許庁

According to the detection result of the detection part 22, a control part 23 instructs the input part 21 to input new lots so that lots from the first process 1 to the last bottleneck process q3 are constant.例文帳に追加

制御部２３は、検出部２２の検出結果に基づいて、最初の工程１から最終ボトルネック工程ｑ３までにあるロットが一定になるように、投入部２１に新しいロットを投入させる。 - 特許庁

A first analysis process 104 is a process for advancing the numerical analysis of the flow field FLF without advancing the numerical analysis of the temperature field FLT in the rotating state of a motor rotor 34.例文帳に追加

第１解析工程１０４は、モータ回転子３４が回転している状態において温度場FLTの数値解析を進行させずに流れ場FLFの数値解析を進行させる工程である。 - 特許庁

In the dehumidifying process, a first motion and a second motion are alternately repeated at a prescribed switching time interval, and in the humidifying process, a third motion and a forth motion are alternately repeated at a prescribed switching time interval.例文帳に追加

除湿工程は、第１動作と第２動作とを所定の切換時間間隔で交互に繰り返し、加湿工程は、第３動作と第４動作とを所定の切換時間間隔で交互に繰り返す。 - 特許庁

When the utilization of bath water is set in the rinsing process, the water-saving rinsing is executed in a first rinsing process after water is supplied by a pump under-saving water to a rinsing water level (Step 19).例文帳に追加

すすぎ工程時に風呂水利用が設定されている場合には、第１すすぎ工程で、ポンプ給水によりすすぎ水位迄の水が洗濯槽に溜まったあと、ためすすぎが実行される（ステップＳ１９）。 - 特許庁

A method is constituted of a first process producing U3O8 monocrystal and a second process producing UO2 sintered body with large grain by using mixed powder of U3O8 monocrystal and UO2 powder.例文帳に追加

Ｕ_３Ｏ_８単結晶を製造する第１の工程と、Ｕ_３Ｏ_８単結晶とＵＯ__２粉末との混合粉末を使用し結晶粒が大きいＵＯ_２焼結体を製造する第２の工程とよりなる。 - 特許庁

As just described, at the initial stage of growth, a good single crystal is grown in the first process, and thereafter the single crystal is further grown at a higher growth speed in the second process.例文帳に追加

このように、成長初期においては、第１工程によって良好な単結晶を成長させ、その後は、第２工程によって速い成長速度で単結晶を成長させるようにする。 - 特許庁

In the deposit removal process, deposits P generated in a first growth process S1 are removed by performing mirror polishing, for example, on chamfered parts 10C of the silicon single crystal substrate 10.例文帳に追加

この堆積物除去工程では、シリコン単結晶基板１０の面取り部１０ｃを、例えば鏡面研磨することによって、第一の成長工程Ｓ１で生じた堆積物Ｐを除去する。 - 特許庁

The method consists of a first process for forming an almost concentric circle like a mark on the surface of a substrate 21 and a second process for forming the texture streak on the surface of the substrate with this mark as a base.例文帳に追加

基板２１の表面に略同心円状の条痕を形成する第一の工程、及び基板の表面にこの条痕をベースとしたテクスチャ条痕を形成する第二の工程から成る。 - 特許庁

Afterwards, the first process and the second process are successively performed upward from a layer just above the lowest layer of the face 3, and these processes are successively repeated stepwise up to reaching the uppermost layer.例文帳に追加

この後、切羽面３の最下層の直上の層から上方に向かって順に上述する第１の工程及び第２の工程を実施し、最上層に至るまでこれを段階的に順次繰り返す。 - 特許庁

In a second inspection process following the first inspection process, the liquid crystal panel is illuminated from the rear for a prescribed period just after turning off the application of the source signal and the gate signal to inspect lighting (steps #20 to #30).例文帳に追加

第２検査工程では、第１検査工程に続いて、ソース信号及びゲート信号の印加をオフした直後から所定期間、液晶パネルを背面から照明して検査を行う（ステップ＃２０〜＃３０）。 - 特許庁

In relation to that, is the process of review already underway, or is the process of selecting members taking time? I am asking this because you said that the first meeting will be held by the end of the month. 例文帳に追加

今の関連ですけれども、それは既に検証作業が始まっているのですか、それともメンバーを選ぶのに（時間がかかっているのですか）。第1回会合が月内というお話だったので。 - 金融庁

The electrode machining apparatus measures the lengths of the respective bumps 4, which are cut totally in a first process, in a second process, and sets a necessary cut amount in an X-coordinate and Y-coordinate respectively so as to uniformize the lengths.例文帳に追加

一次工程で全体的に切削された各バンプ４の長さを二次工程において測定するとともに、均一長さにするための必要切削量を各Ｘ・Ｙ座標に設定する。 - 特許庁

A helium-containing liquid having hyperfine bubbles of an average particle size of at most 25 μm, which include helium gas, is prepared (the first process), and the helium-containing liquid is added to contaminated soil (the second process).例文帳に追加

ヘリウムガスからなる平均径２５μｍ以下の超微細気泡を有するヘリウム含有水を作り（第１工程）、そのヘリウム含有水を汚染土壌に与える（第２工程）ことを特徴としている。 - 特許庁

The first process includes freewheeling the winding, while the second process includes continuing to excite the winding for an overrun period and freewheeling the winding at the end of the overrun period.例文帳に追加

第１の処理は、巻線をフリーホイールさせる段階を含み、一方、第２の処理は、オーバーラン期間にわたって巻線を励起し続けてオーバーラン期間の終了時に巻線をフリーホイールさせる段階を含む。 - 特許庁

Specifically, a lower magnetic substrate 2 is formed in the first process S1 and in the second process S2, an electrode sheet 3 having the coil electrode 30 and a lower resin sheet 31 integrated is formed.例文帳に追加

具体的には、第１の工程Ｓ１において、下部磁性基板２を形成し、第２の工程Ｓ２において、コイル電極３０と下の樹脂シート３１とが一体となった電極シート３を形成する。 - 特許庁

After the first bonding process, a second bonding process is performed in which the package lid 5 is superimposed on the package body 4 in a specified atmosphere so that the package lid 5 and the package body 4 are bonded in an airtight manner.例文帳に追加

第１の接合工程の後、所定雰囲気中において、パッケージ蓋５をパッケージ本体４に重ねて、パッケージ蓋５とパッケージ本体４とを気密的に接合する第２の接合工程を行う。 - 特許庁

Thereafter, the laminated body 1 is cut and separated into each liquid crystal panel by subjecting each of the first and second substrates 10, 20 constituting the laminated body 1 to a scribing process and a breaking process.例文帳に追加

次に、スクライブ工程及びブレイク工程を、積層体１を構成する第１及び第２のガラス基板１０，２０のそれぞれに対して行って、積層体１を個々の液晶パネルに切断分離する。 - 特許庁

A retrieval part 305 retrieves action data in the past operation process data retrieved by the retrieval part 303 from among action data decided by an action decision part 304 based on the first process data.例文帳に追加

検索部３０５では、第１のプロセスデータに基づきアクション判定部３０４で判定されたアクションデータの中から、検索部３０３で検索された過去の操業プロセスデータにおけるアクションデータを検索する。 - 特許庁

A subtractor 4 outputs a signal, given by subtracting the process result of the second signal processing unit 3, from the process result of the first signal processing unit 2 as an oscillation component extracted from the internal state quantities.例文帳に追加

減算器４は、第１の信号処理部２の処理結果から第２の信号処理部３の処理結果を減算した信号を前記内部状態量から抽出した発振成分として出力する。 - 特許庁

Data stored in an information recording medium are configured to be data subjected to encryption processing of two different modes comprising a first encryption process and a second encryption process that is applied to a particular region.例文帳に追加

情報記録媒体の格納データを、第１の暗号化処理と、特定領域に対する第２の暗号化処理との２つの異なる態様の暗号化処理を施したデータとして構成した。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold for imprint processing includes a first process for washing the surface of the mold for imprint processing and a second process for exposing the mold for imprint processing to perfluoropolyether.例文帳に追加

インプリント加工用金型の表面を洗浄する第一の工程と、前記インプリント加工用金型を前記パーフルオロポリエーテルに暴露する第二の工程を含む、インプリント加工用金型の製造方法。 - 特許庁

In addition, the preparation method of the pharmaceutical comprises: a process which makes a cyclodextrin derivative internally clathrate the first active ingredient; and a process which makes a cyclodextrin derivative externally clathrate the second active ingredient.例文帳に追加

または、シクロデキストリン誘導体に第一の有効成分を内部包接させる工程、シクロデキストリン誘導体に第二の有効成分を外部包接させる工程と、を有する薬剤の製造方法とする。 - 特許庁

(b): The process in which a reinforcing layer 24 (34) is arranged on the coating liquid layer formed in the process (a), then the first catalyst layer 22 (the second catalyst layer 32) is formed by drying the coating liquid layer.例文帳に追加

（ｂ）工程（ａ）で形成された塗工液層の上に、補強層２４（３４）を配置した後、前記塗工液層を乾燥させて第１の触媒層２２（第２の触媒層３４）を形成する工程。 - 特許庁

When the weight detecting result Wo exceeds 350 g, a first heating course wherein after a heating process by magnetron is executed, a heating process by a heater is executed is executed at S5 and S6.例文帳に追加

重量検出結果Ｗｏが「３５０ｇ」以上であると、マグネトロンによる加熱行程を実行した後前記ヒータによる加熱行程を実行する第１の加熱コースを実行する（ステップＳ５、Ｓ６）。 - 特許庁

In the second etching process, a resist film is formed to cover the upper and the side surfaces of the second and the third conductive wiring layers which have already been patterned in the first etching process.例文帳に追加

第２のエッチング工程では、第１のエッチング工程においてすでにパターニングされた第２及び第３の導電性配線層の上面及び側面を被覆するようにレジスト膜が形成される。 - 特許庁

The method includes a diffusion plane formation process wherein a diffusion plane 3 is formed on a first plane of the translucent substrate 1S, and a mark formation process wherein a mark 2 is formed on a second plane of the translucent substrate 1S.例文帳に追加

該方法は、光透過性基板１Ｓの第１面に拡散面３を形成する拡散面形成工程と、光透過性基板１Ｓの第２面にマーク２を形成するマーク形成工程とを含む。 - 特許庁

A sequence building unit 205 combines the item of the on-first-image position specification process and the item of the three-dimensional measurement process to set the sequence for three-dimensional measurement by selection of the user.例文帳に追加

シーケンス組立部２０５は、ユーザの選択により第１画像上位置特定処理の項目と３次元計測処理の項目とを組み合わせて、３次元計測のためのシーケンスを設定する。 - 特許庁

A load lock valve between the process chamber and the dust collection chamber is opened, and a first dust collection mechanism comprising an electrostatic chuck is inserted, under a state supplied with power, into the process chamber from the dust collection chamber by means of a handling arm.例文帳に追加

プロセスチャンバと集塵チャンバ間のロードロックバルブを開き、静電チャックで構成した第１の集塵機構を給電した状態で集塵チャンバ内からプロセスチャンバ内にハンドリングアームで挿入する。 - 特許庁

The coating dregs processed to the specified liquid content in the first stage drying process are agitated by an agitation dryer 21B while being heated in under vacuum in the second stage drying process to be dried up to a specified liquid content.例文帳に追加

一次乾燥工程において所定の含液率とした塗料粕を、二次乾燥工程において攪拌乾燥機２１Ｂにより真空条件下で加熱しながら攪拌し、所定の含液率まで乾燥させる。 - 特許庁

A web 22 fed from the rewinder 20 of the first module 12, after being subjected repeatedly to the application process and the drying process in each module, is taken up by the winder 68 of the second module 14.例文帳に追加

第１モジュール１２の巻き戻し機２０から送り出されたウエブ２２は、各モジュールで塗布工程と乾燥工程が繰り返し施された後、第２モジュール１４の巻き取り機６８に巻き取られる。 - 特許庁

This method is provided with a first process, in which the gold-foil is peeled from the surface of the gold-foil attached article 5 as the small gold-foil pieces dispersed in the water, and a second process, in which the gold-foil dispersed in the water is separated.例文帳に追加

金箔貼付品５の表面から金箔を水に分散した小さな金箔片にして剥離する第１工程と、水に分散した金箔を分離する第２工程とを備えている。 - 特許庁

In reconstruction of the radiation shielding wall 100 after the dismantlement, the radiation shielding wall 100 can be easily reconstructed by nearly the same process as the first construction process.例文帳に追加

更に、解体後に放射線遮蔽壁１００を再構築する際には、最初に構築した構築工程と略同様の工程で、放射線遮蔽壁１００を容易に再構築することができる。 - 特許庁

If it is not the first use, the apparatus displays and warns it and if the operation is permitted by the user, the image forming process is performed and when the operation is forbidden, the image forming process is stopped.例文帳に追加

ここで、１回目の使用ではない場合は、表示・警告を行い、ユーザにより動作が許可された場合は画像形成処理を実行し、動作が禁止された場合は画像形成処理を中止する。 - 特許庁

Thereafter, the elements of the first extension process graph and the nodes of the second extension process graph are paired, and a pair-wise connection graph describing a relation each between pairs by labeling is generated on data.例文帳に追加

この後、第１の拡張プロセスグラフの要素と第２の拡張プロセスグラフの節とでペアを形成すると共に、各ペア間の関係をラベルで記述するペアワイズ接続グラフをデータ上で生成する。 - 特許庁

An alkali metal, a halogenated hydrocarbon and a secondary amine, for example, a polycyclic perhydro secondary amine compound are made to react in the first process, and the obtained reaction liquid is made to react with an alkoxysilane in the second process.例文帳に追加

第一工程で、アルカリ金属、ハロゲン化炭化水素、第２級アミンとを反応させ、第二工程で該反応溶液とアルコキシシランとを反応させることを特徴とするアミノアルコキシシランの製造方法。 - 特許庁

When the second multifunctional machine 200 can not execute the specific process, the first multifunctional machine 10 transmits specific firmware for executing the specific process to the second multifunctional machine 200 (S116).例文帳に追加

第１多機能機１０は、第２多機能機２００が特定の処理を実行不可能である場合に、特定の処理を実行するための特定のファームウェアを、第２多機能機２００に送信する（Ｓ１１６）。 - 特許庁

A light emitting semiconductor device forming method comprises a first process of forming a stack of layers that include an active region, and a second process of wafer-bonding a structure that includes a carrier trapping semiconductor to the above stack.例文帳に追加

発光半導体デバイスを形成する方法は、活性領域を含む層のスタックを作成する工程と、キャリア閉じ込め半導体を含む構造を上記スタックにウェハボンディングする工程とを含む。 - 特許庁

Then, the second thermal diffusion process is executed for more deeply thermally diffusing boron, which is thermally diffused inside the monocrystalline silicon wafer 1 by the first thermal diffusion process, inside the monocrystalline silicon wafer 1.例文帳に追加

次に、前記第１の熱拡散工程により前記シリコン単結晶基板１内に熱拡散されたボロンを該シリコン単結晶基板１内により深く熱拡散させる第２の熱拡散工程を行う。 - 特許庁

However, the alkylene oxide represented by the general formula (1) used in the second reaction process may be the same as or may be different from that of the alkylene oxide represented by the general formula (1) used in the first reaction process.例文帳に追加

但し、第二の反応工程で用いる一般式（１）で表されるアルキレンオキシドは、第一の反応工程で用いる一般式（１）で表されるアルキレンオキシドと同一であっても異なっていてもよい。 - 特許庁