「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the LCD device includes a process for preparing first and second substrates 240 and 220 and a process for spraying spacers 400 on the first or second substrate 240 or 220 through an ink-jet process is characterized in that the spacers 400 includes both positively charged spacers 410 and negatively charged spacers 420 which are mixed.例文帳に追加

第１基板及び第２基板２４０，２２０を準備する工程と、インクジェット工程を用いて第１基板２４０または第２基板２２０上にスペーサー４００を噴射する工程と、を含み、スペーサー４００は、正の電荷に帯電したスペーサー４１０と負の電荷に帯電したスペーサー４２０とが混合されていることを特徴とする液晶表示素子の製造方法を構成する。 - 特許庁

The method for producing a colored composition includes: a first process of mixing and dispersing pigment (A), pigment dispersant (C) and organic solvent (D) to prepare a pigment dispersion liquid; and a second process of mixing the pigment dispersion liquid obtained in the first process, an oil-soluble pigment aggregation inhibitor (B) containing a block having a functional group containing nitrogen atom, and the organic solvent (D).例文帳に追加

（Ａ）顔料、(Ｃ)顔料分散剤、および（Ｄ）有機溶剤を混合分散し、顔料分散液を調製する第一の工程と、第一の工程で得られた顔料分散液、（Ｂ）窒素原子を含む官能基を有するブロックを含む油溶性の顔料凝集防止剤、および（Ｄ）有機溶剤を混合する第二の工程と、を含む着色組成物の製造方法。 - 特許庁

The second surface treatment is preferably a process to remove the anionic component remaining on the surface of the copper film by the first surface treatment.例文帳に追加

第２の表面処理は、第１の表面処理によって銅膜の表面に残留した陰イオン成分を除去する処理であることが好ましい。 - 特許庁

The first processing is a process for lowering a target operation frequency of a humidity-conditioning compressor, and lowering a target evaporation temperature in a user side heat exchanger.例文帳に追加

第１処理は、調湿用圧縮機の目標運転周波数を下げ、かつ、利用側熱交換器における目標蒸発温度を下げる処理である。 - 特許庁

The conductive layer 4B of the first laminate 60 is laminated to the polymeric material dielectric layer 3A of the second laminate 70 (a lamination process) (3).例文帳に追加

（３）第一積層体６０の導体層４Ｂと第二積層体７０の高分子材料誘電体層３Ａとを貼り合わせる（貼り合わせ工程）。 - 特許庁

To provide an image forming method capable of preventing the occurrence of a void phenomenon in images on a first surface and second surface of a transfer material undergoing a fixing process.例文帳に追加

定着工程を経た転写材における第１面および第２面での画像中抜け現象の発生を防止できる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

In a first process, preheated large pieces of scrap held in the shaft furnace 30 is charged and also, bulky coke is charged from a chute 17.例文帳に追加

第１工程では、シャフト炉３０に収容されていた予熱済みの大片スクラップが装入されるとともに、塊コークスがシュータ１７から装入される。 - 特許庁

In a first process, a motor constituted of a coil 10 is driven, using a method of outputting a phase to the coil 10 connected with a drive unit 20.例文帳に追加

第１の工程は駆動ユニット２０が接続するコイル１０に位相を出力する方法を用いて、コイル１０が構成するモータを駆動させる。 - 特許庁

First, in the setting process, the frequency of practice for each measure constituting a musical piece is counted in accordance with the repeats contained in music data.例文帳に追加

先ず設定処理では、曲データに含まれる反復記号に従って当該曲データを構成する各小節毎の練習回数を計数する。 - 特許庁

The connecting means 20 connects the first damper 21A to the shaft 14 when the panel 3 is brought into a predetermined closing attitude in a process of fully closing the vent hole 1.例文帳に追加

接続手段２０は、パネル３が通気口１を全閉する過程で所定の閉じ姿勢なったときに第１ダンパー２１Ａをシャフト１４に接続する。 - 特許庁

In the bonding process, the first bonding member 3 and second bonding member 1 are heated and fused with scanning local heating light 41 to achieve bonding.例文帳に追加

接合工程では、局所加熱光４１を走査して、第１の接合材３および第２の接合材１を加熱溶融させて接合を行う。 - 特許庁

When a second multifunctional machine 200 can execute a specific process, a first multifunctional machine 10 transmits specific data to the second multifunctional machine 200 (S118).例文帳に追加

第１多機能機１０は、第２多機能機２００が特定の処理を実行可能である場合に、特定のデータを第２多機能機２００に送信する（Ｓ１１８）。 - 特許庁

In the chemical mechanical polishing process, the surface of the polishing pad is conditioned with at least by first and second conditioning disks whose surface conditions are different from each other.例文帳に追加

化学機械研磨工程の際、研磨パッドの表面を表面状態の異なる少なくとも第1および第２のコンディショニングディスクによりコンディショニングする。 - 特許庁

In a first process, an upper die 11 and a lower die 12 of a V shape in section recessed with respect to a round steel pipe 30 are installed to the press apparatus.例文帳に追加

第１の工程では、丸鋼管３０に対して、凹んでいる断面Ｖ字形状の上型１１および下型１２がプレス装置１０に据え付けられる。 - 特許庁

A first sidewall layer 24, including a material for the mask layer 23 at side faces of the interdigital electrode portions 13 and 14 is attached and formed in this process.例文帳に追加

この工程において、くし歯状電極部１３、１４の側面にマスク層２３の材料を含む第１側壁層２４が付着形成される。 - 特許庁

In this encoding rate detecting method, a received encoded signal is decoded while using a clock signal corresponding to an encoding rate ri in a first Viterbi decoding process ST11.例文帳に追加

第１のビタビ復号工程ＳＴ１１において、符号化率ｒi と対応するクロック信号を用いて受信した符号化信号を復号する。 - 特許庁

At a first stage, the initial solution of the optimal manipulated variable is retrieved using a simplified process model or the initial solution is searched for using driving operation data.例文帳に追加

第１段階では簡易プロセスモデルを用いて最適な操作量の初期解を検索し、または運転操作データを用いて初期解を求める。 - 特許庁

Then, a first plating process is conducted, and an intermediate copper plated layer 21 is formed on the region excluding the part covered by the masks 20 as shown in (c).例文帳に追加

次いで、第１のめっき工程を実行し、導体パターン１２の表面に、マスク２０で覆われた部分を除いて中間銅めっき層２１を形成する（ｃ）。 - 特許庁

A parallelization part divides a loop into a first and a second processes based on an inputted conversion object program and division information showing division of a process within the loop.例文帳に追加

並列化部は、入力された、変換対象プログラムとループ内の処理の分割を示す分割情報からループを第１および第２の処理に分割する。 - 特許庁

An intermediate molded body 9 constituted by integrally molding a first part body scheduled part 91 and a connecting part 93 is blow-molded in the intermediate molding process.例文帳に追加

中間成形工程では、第１分体予定部９１と、連結部９３とが一体に成形されてなる中間成形体９をブロー成形する。 - 特許庁

When an exposure time at photographing reaches a first threshold or smaller, it is determined that short-time exposure, and a process for the short-time exposure is carried out.例文帳に追加

その撮影時の露光時間が、第１の閾値以下である場合、短時間露光で撮影されたと判断され、短時間露光時の処理が実行される。 - 特許庁

In a first conversion process, it is possible to estimate how the colors of an image displayed on a display 60 are perceived under the observation environment.例文帳に追加

第一変換工程においてはディスプレイ６０に表示された画像の色を、その観察環境下においてどのように知覚されるかを推定することができる。 - 特許庁

The process for producing free-standing III-N layer comprises depositing at least one first III-N layer 15 by means of molecular beam epitaxy on an Li(Al, Ga)O_x substrate 7, where 1≤x≤3.例文帳に追加

Li(Al, Ga)O_X基板（１≦ｘ≦３）７上に、分子線エピタキシ法により少なくとも１つの第一のIII-N層１５を堆積させる工程を備える。 - 特許庁

This plurality of grinding wheel 21, 22, 23 process the display panel 40 formed of a first substrate 41 and a second substrate 42 which overlap each other forming steps.例文帳に追加

この複数の砥石２１、２２、２３は、第一基板４１と第二基板４２が段差を有するように重ね合わされた表示パネル４０を処理する。 - 特許庁

When the exposure time of the photographing time reaches a first threshold or larger, it is determined that long-time exposure, and a process for the long-time exposure is carried out.例文帳に追加

その撮影時の露光時間が、第１の閾値以上である場合、長時間露光で撮影されたと判断され、長時間露光時の処理が実行される。 - 特許庁

In the first assembly process, sleeves 7 and 7 are temporarily inserted and the sleeves 7 and 7 are inserted to the middle of holding cylinders 19 and 19 of a housing 2.例文帳に追加

第一組み付け工程では、スリーブ７、７の仮挿入が行われ、ハウジング２の受承筒１９、１９の途中までスリーブ７、７が挿し込まれる。 - 特許庁

A ditch (1) for a guide composed of vertical walls (11 and 11) capable of resisting large load is formed to a diaphragm-wall construction predetermined land as the first process.例文帳に追加

第一工程として、地中壁構築予定地に、大きな荷重に抗することのできる立壁（１１，１１）によって構成されるガイド用溝（１）を設ける。 - 特許庁

The first body frame 4 selected is cut at parts Ch1 to Ch6 based on the plan, whereby a part including a head tube 6 is cut off (a second process).例文帳に追加

選択された第１の車体フレーム４を、上記プランに基づいてヘッドパイプ６を含む一部を部位Ｃｈ１〜Ｃｈ６でカットして切り離す（第２の工程）。 - 特許庁

A process which prepares a gap area for a buffer accompanying correction of the program and determines an address is performed, corresponding to each object at the first time of execution.例文帳に追加

実行初回時において各オブジェクトに対応づけて、プログラムの修正に伴う緩衝用の隙間領域を設けてアドレスを決定する処理を行う。 - 特許庁

In a first process step, an intermediate of the acetic acid is formed by decomposing organic matter by a hydrothermal reaction under the conditions under which the feeding of oxygen is limited.例文帳に追加

第１工程で酸素の供給を制限した条件下で有機物を水熱反応により分解して酢酸の中間体を生成する。 - 特許庁

A low order latch 105 latches a low order logical state which is a logical state of the plurality of delay units at a first timing that is related to the finishing of the comparing process.例文帳に追加

下位ラッチ部105は、比較処理の終了に係る第１のタイミングで、複数の遅延ユニットの論理状態である下位論理状態をラッチする。 - 特許庁

When the OPC process is conducted, at first an optical recording medium is loaded into a recording device, then the recording device confirms if the setting information on the optical recording medium as recording target is present.例文帳に追加

ＯＰＣ実行機会には、まず装填され、記録対象としている光記録媒体についての設定情報が存在するかを確認する。 - 特許庁

In the cavity forming process, a first step and a second step for growing a semiconductor film at different growing speeds are alternately executed a plurality of times.例文帳に追加

空洞形成工程は、互いに異なる成長速度で半導体膜の成長を行う第１ステップおよび第２ステップを交互に複数回実施する。 - 特許庁

The porous core, the first and second hollow tubes, and the heat conductor are mortised together to simplify a manufacturing process, and reducing costs.例文帳に追加

製造工程を簡略化し、費用を削減するため、前記多孔質コアと、前記第１、第２の中空管と、前記熱導体とが同時にくり抜きされる。 - 特許庁

The first layer may be deposited using a non-plasma process in which the substrate is not exposed to plasma or plasma-generated radicals.例文帳に追加

第１の層は、基板がプラズマ又はプラズマ発生ラジカルに露出されないプラズマ無しプロセス（ｎｏｎ−ｐｌａｓｍａ ｐｒｏｃｅｓｓ）を用いて堆積される。 - 特許庁

ECU 100 executes start injection control process to determine a fuel injection quantity of first cycle in starting in each cylinder of an engine 200.例文帳に追加

ＥＣＵ１００は、エンジン２００の気筒各々における始動一サイクル目の燃料噴射量を決定すべく、始動時噴射制御処理を実行する。 - 特許庁

The water wash process uses a cleaning system 10 which reserves well water L1 in a first water wash tank 12 and pure water L2 in a second water wash tank 14.例文帳に追加

この水洗工程は、第１水洗槽１２には井水Ｌ１を貯留し、第２水洗槽１４には純水Ｌ２を貯留した洗浄システム１０を用いる。 - 特許庁

First, the photographer turns on a zoom lock button 44 and obtains an initial image by fixing an angle of view when subjecting the image displayed in a display section 41 at the point of this time to a zooming process.例文帳に追加

まず、ズームロックボタン４４をオンして、この時点のディスプレイ部４１に表示される画像を、ズーミング処理する際の画角を固定し初期画像を得る。 - 特許庁

A in-situ cooling process is carried out inside cooling chambers C1, C2 provided between first and second transfer chambers T1, T2, which are separated from each other.例文帳に追加

インサイチュー冷却工程は、相互隔離された第１と第２トランスファーチャンバーＴ１，Ｔ２の間に設けられた冷却チャンバーＣ１，Ｃ２内で実施される。 - 特許庁

After discharging the chemical liquid by the rotation of the substrate, a first rinse process is carried out by charging up pure water on the substrate from a pure water nozzle 6.例文帳に追加

基板の回転によって薬液を排液した後、純水ノズル６から基板上に純水を液盛りして１回目のリンス工程が行われる。 - 特許庁

When the answer is YES, the acid is injected to the circulation water (S4) after the lapse of a first prescribed period of time N1 (for example, one day), and a process is returned to S2.例文帳に追加

その答が肯定（Ｙｅｓ）のときは第１の所定期間Ｎ１（例えば、１日）経過後に次亜を循環水に注入し（Ｓ４）、Ｓ２に戻る。 - 特許庁

In a third forming process, portion c1 and portion d1 of the first coil wire rod 1 are bent to a prescribed direction to form a second slot housing part B1.例文帳に追加

第３成形工程では、第１コイル線材１の部位ｃ１、ｄ１を所定の方向へ屈曲させて第２スロット収容部Ｂ１を形成する。 - 特許庁

Then the first and second shaft members 5, 6 fitted and fixed to the universal joint yokes 11, 13 are spline-fitted to each other in a spline-fitting process.例文帳に追加

その後、スプライン嵌合工程で、各自在継手ヨーク１１，１３にそれぞれ嵌合固定された第１および第２の軸部材５，６を、互いにスプライン嵌合させる。 - 特許庁

The process (C) is carried out by measuring display characteristics of pixels in a first region R1 and display characteristics of pixels in a second region R2.例文帳に追加

工程（Ｃ）は、第１の領域Ｒ１内の画素の表示特性と、第２の領域Ｒ２内の画素の表示特性とを測定することによって行われる。 - 特許庁

A slider 70 for assisting fitting movement of first and second housings 10, 40 in a process heading to a mounting completion position is mounted on the second housing 40.例文帳に追加

第２ハウジング４０には、装着完了位置へ向かう過程で第１、第２ハウジング１０、４０の嵌合動作を助勢するスライダ７０が装着されている。 - 特許庁