「FIRST PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

This position detection process contains: a first detection step S1 to detect a first paper end; a second detection step S2 to detect a second paper end; and a third detection step S2 to detect a third paper end.例文帳に追加

この位置検出工程は、第１のエッチを検出する第１の検出ステップＳ１と、第２のエッチを検出する第２の検出ステップＳ２と、第３のエッチを検出する第３の検出ステップＳ３と、を含む。 - 特許庁

The second double-side recording process is selected when the rear-side ink volume is larger than the front-side ink volume, the first image is rotated by 180° and the recording of the first image is started from the rear half region.例文帳に追加

第２両面記録工程は、後端側インク打滴量が先端側インク打滴量よりも多いときに選択され、第１画像を１８０°回転させ、後端側半分領域から第１画像の記録が開始される。 - 特許庁

In the data mining process, a first data mining step (1006) is, when necessary, followed by a second data mining step (1007) of data mining of results of the first data mining step.例文帳に追加

また、データマイニング工程として、必要な場合には、第１のデータマイニング工程の（１００６）後に当該第１のデータマイニング工程による結果をデータマイニングの対象とする第２のデータマイニング工程を採用する（１００７）。 - 特許庁

In a second transferring method, the process for enhancing the peeling property of a first substrate and the adhesive means 2 and/or that of the adhesive means 2 is executed for the first substrate 1 and/or adhesive means 2.例文帳に追加

第２の転写方法では、第１の基板１及び／又は粘着手段２に対して、第１の基板１と粘着手段２との離型性及び／又は粘着手段２の剥離性を高める処理を行う。 - 特許庁

Subsequent to the process, a second insulating film is formed to coat the first insulating film to obtain a semiconductor device 204 with a gate-insulated film laminated with the first and the second insulating films.例文帳に追加

その後、第１絶縁膜２０２を覆うように第２絶縁膜２０３を成膜して第１絶縁膜２０２及び第２絶縁膜２０３が積層されたゲート絶縁膜を形成し、半導体装置２０４を製造する。 - 特許庁

During the process, motion of the mold 102 is transmitted to the first clamp member 201 through a support member 106, a base member 204, a slide body 207, etc. and the first clamp member 201 moves to distort the resin sheet 117.例文帳に追加

この過程で、成形金型１０２の動きがサポート部材１０６、ベース部材２０４、スライド体２０７等を介して第１のクランプ部２０１に伝達し、第１のクランプ部２０１が動いて樹脂シート１１７が変形する。 - 特許庁

The recording apparatus carries out a first ejection state sensing process 7B for sensing an ejection state in which ink is ejected through a first ejection port that has the smallest opening area among the ejection ports formed in the recording head.例文帳に追加

記録装置は、記録ヘッドに形成された吐出口のうち、最も開口面積の小さい第一の吐出口に対して、吐出されるインクの吐出状態を検知する第一の吐出状態検知処理７Ｂを行う。 - 特許庁

In the display control process, a second pattern which is the same as or similar to the first pattern and also can be identified from the first pattern is superimposed on the image and displayed at the display part beforehand.例文帳に追加

前記表示制御工程では、前記第一の模様と同一又は類似し、かつ前記第一の模様と識別可能な第二の模様を、あらかじめ、前記画像に重ねて前記表示部に表示させておく。 - 特許庁

In a process of vertically moving only a head guide 50, a wiper cleaner 58 provided in the head guide 50 is brought into sliding contact with from a tip 631 to a side face of a first wiper 63, so as to perform cleaning operation of the first wiper 63.例文帳に追加

ヘッドガイド５０だけを上下動させる過程では、ヘッドガイド５０に設けられたワイパークリーナー５８が第１ワイパー６３の先端６３１から側面にかけて摺接し、第１ワイパー６３のクリーニング動作が行われる。 - 特許庁

After the tire composing member is totally unwound from the first reel 1, the liner 4 that has been wound round the second reel 2 is rewound round the reel 1 and only this first reel 1 is returned to the previous process.例文帳に追加

第１のリール１からタイヤ構成部材がすべて巻出された後、第２のリール２に巻取られているライナー４を上記第１のリール１に巻戻し、この第１のリール１だけを前工程に返却する。 - 特許庁

The diversity receiver is provided with a switch control means 30 that controls switching of the first and second sector antenna pairs 11, 12 and each process in the first and second branch systems 21, 22 and the diversity section 23 attended with the switching.例文帳に追加

第１および第２セクターアンテナ対１１，１２の切替えと、その切替えに伴う第１および第２ブランチ系２１，２２とダイバーシティ部２３とにおける各処理を制御する切替え制御手段３０を備える。 - 特許庁

When a cache mistake occurs in the process of the first virtual machine 131, a switching part 11b switches a performing virtual machine from the first virtual machine 131 to the second virtual machine 132 during the cache processing.例文帳に追加

切替部１１ｂは、第１の仮想マシン１３１の処理においてキャッシュミスが発生した場合、キャッシュ処理が実行される間、実行仮想マシンを第１の仮想マシン１３１から第２の仮想マシン１３２に切り替える。 - 特許庁

Next, after the first inter-layer insulation film is partially removed with the isotropic etching process, the second inter-layer insulation film is evaporated on the first inter-layer insulation film to perfectly embed the gap between the gates 120.例文帳に追加

次に、第１層間絶縁膜を等方性エッチング法により部分的に除去した後、ゲート１２０間のギャップを完全に埋め込むように第１層間絶縁膜上に第２層間絶縁膜を蒸着する。 - 特許庁

A diffusion process for keeping an ambient temperature at a temperature at which metal atoms of the second metal film are diffused into the first metal film and the surface thereof is executed during or after formation of the first metal film.例文帳に追加

そして、第１金属膜の形成中または形成後に、第２金属膜の金属原子が第１金属膜の膜中および膜表面に拡散するような温度に雰囲気温度を保持する拡散工程を実施する。 - 特許庁

In a process of forming a first conductive wiring layer 11A by etching the first thin conductive film 11, an etching depth can be controlled by stopping the etching with the third conductive film 13.例文帳に追加

第１の導電膜１１をエッチングすることにより第１の導電配線層１１Ａを形成する工程では、第３の導電膜１３でエッチングがストップすることにより、エッチングの深さを制御することができる。 - 特許庁

In the inside of the chamber 1 of an etching apparatus, a first step of performing H2O plasma processing and following the first step, and a second step of performing Cl2 plasma processing, are executed after executing an Al dry etching process.例文帳に追加

プラズマエッチング装置のチャンバー内部１において、Ａｌドライエッチング工程を行った後、Ｈ_2Ｏプラズマ処理を行う第１工程と、第１工程に続いて、Ｃｌ_2プラズマ処理を行う第２工程とを実施する。 - 特許庁

In a fitting process, a fuel passage member 30 and a first cylindrical portion 41 are fitted together such that an outer wall of the fuel passage member 30 made of metal and an inner wall of the first cylindrical portion 41 made of metal are opposed to each other.例文帳に追加

嵌合工程では金属製の燃料通路部材３０の外壁と金属製の第１筒部４１の内壁とが対面するよう燃料通路部材３０と第１筒部４１とを嵌合する。 - 特許庁

The electrical connection process includes a step of connecting the first internal electrode group to the second electrode group by allowing the first internal electrode group to pass through the insulating resin layer.例文帳に追加

前記電気的に接続する工程は、前記第１内部電極群が前記絶縁樹脂層を貫通することにより、前記第１内部電極群と前記第２電極群とを接続させる工程を含んでいる。 - 特許庁

A second epitaxial layer is formed on the first epitaxial layer and an implanting process is repeated to form a second plurality of buried layers in stacked parallel relationship to the first plurality of buried layers.例文帳に追加

第２エピタキシャル層は前記第１エピタキシャル層の上に形成され、打込みは、前記第１の複数の埋込層に平行にスタックされる関係で第２の複数の埋込層を形成すべく繰返し処理される。 - 特許庁

The displacement mechanism (50) is constituted such that the direction of the abutting surface abutting the vessel member (31) in the first pinch member (26) be kept constant in the process that the first pinch member (26) moves toward the vessel member (31).例文帳に追加

そして、変位機構（50）を、第１挟込部材（26）が容器部材（31）に向かって移動する過程では第１挟込部材（26）における容器部材（31）に当接する当接面の向きを一定に保つように構成する。 - 特許庁

This method of etching applies a predetermined etching process to a substrate (10) having a first layer (13) formed of a resist film, and a second layer (12) formed underneath the first layer (13) and formed of an anisotropic material.例文帳に追加

レジスト膜よりなる第１の層（１３）と、第１の層（１３）の下層に形成され異方性部材よりなる第２の層（１２）とを有する基材（１０）に対して所定のエッチング処理を施すエッチング方法である。 - 特許庁

A hard mask pattern is formed on the protective film, and a first trench 225a is formed by etching one portion of the protective film and one portion of the insulation film by a first etching process with the hard mask pattern 224 as a mask.例文帳に追加

ハードマスクパターンを前記保護膜上に形成し、ハードマスクパターン２２４をマスクとした第１エッチング工程によって前記保護膜の一部および前記絶縁膜の一部をエッチングして第１トレンチ２２５ａを形成する。 - 特許庁

At least one of the first models (2 and 3) or at least one first part of the digital circuit is provided in at least one high order hardware description language that supports a simultaneous process for mutually performing communications.例文帳に追加

少なくとも１つの第１のモデル（２，３）、またはデジタル回路の少なくとも１つの第１の部分が、相互にコミュニケーションを行う同時プロセスを支持する少なくとも１つの高位ハードウェア記述言語で提供される。 - 特許庁

Further, according to a readout demand from the host computer, the second block set corresponding to the first block set including the demanded first block is readout, inversion conversion process is performed, and the data are sent to the host computer.例文帳に追加

さらに、ホストコンピュータからの読み出し要求に応じて、要求された第１ブロックを含む第１ブロックセットに対応する第２ブロックセットを読み出し、逆変換処理を実行して、ホストコンピュータにデータを送信する。 - 特許庁

The method includes a process for producing a vegetable composition having a first outside layer, wherein enzyme is applied to the first outside layer for a period enough to produce vegetable decomposed with the enzyme.例文帳に追加

この方法は、第一の外側層を有する野菜組成物を提供する工程を包含し、この第一の外側層に、酵素で分解された野菜を形成するために十分な時間にわたって、酵素が適用される。 - 特許庁

The first polysilicon layer and the second polysilicon layer having different crystal properties has been converted from an amorphous silicon layer of the first region and an amorphous silicon layer of the second region by a single crystallization process.例文帳に追加

違う結晶特性を有する第１多結晶シリコン層と第２多結晶シリコン層は、単一結晶化工程により、第１領域の非晶質シリコン層と第２領域の非晶質シリコン層から転化された。 - 特許庁

The first dicing division is the half dicing, the second dicing is the full dicing, and after the first dicing and the second dicing, the etching process is conducted using the mixtured solution of sulfuric acid + aqueous solution of hydrogen peroxide + water.例文帳に追加

１回目のダイシング分断がハーフダイシングであり、２回目のダイシングがフルダイシングであり、１回目のダイシング及び２回目のダイシング後に、それぞれ硫酸＋過酸化水素水＋水の混合液を用いてエッチング処理を行う。 - 特許庁

A data processing apparatus, when first data to be embedded is image data, subjects the image data as the first data to be embedded to a embedding process (A) which is operated with respect to characteristic data using, for example, a line rotation technique.例文帳に追加

第１の被埋め込みデータが画像データであるとすると、その第１の被埋め込みデータとしての画像データを、例えば、ラインローテーション方式により、特徴データに対応して操作する埋め込み処理が行われる。 - 特許庁

The game apparatus performs a game control process based on first operation data representing the operation of a first player, who operates the operating device, and second operation data representing the operation of a second player who operates the hand-held device.例文帳に追加

ゲーム装置は、操作装置を操作する第１プレイヤの操作を表す第１操作データと、ハンドヘルドデバイスを操作する第２プレイヤの操作を表す第２操作データとに基づいてゲーム制御処理を実行する。 - 特許庁

To present a driver with the instruction that it is the road to travel for the first time and the information on the road, in the case where the road after the turning is the road to travel for the first time, at the time when approaching the turning point, in the process for performing the route guidance.例文帳に追加

経路案内する過程において曲折後の道路が初めて通る道路であった場合にはその曲折地点に接近した時にその旨とその道路に関する情報を運転者に提示する。 - 特許庁

Time which a user usually has in notion such as 13:00 for the first in the afternoon or 10:00 for the first in the morning is registered in advance in an alarm time registration file 41 by an alarm register (process) 43.例文帳に追加

「昼一番」は１３時００分とか「朝一番」は１０時００分とか利用者が時刻概念として持っている時刻をアラーム登録部（工程）４３によりアラーム時刻登録ファイル４１に予め登録する。 - 特許庁

At the start of crimping process, the second upper die 42 is shifted downward against the first upper die 41 so that the one end part 11a and the other end part 11b may simultaneously touch the first caulking part 31 and the second caulking part 32.例文帳に追加

圧着工程の開始時に、一端部１１ａ及び他端部１１ｂが第１加締め部３１及び第２加締め部３２に同時に当たるように、第２上型４２を第１上型４１に対して下方向にずらす。 - 特許庁

To provide a cleaning method for subjecting the surplus sludge produced in a first process for carrying out a cleaning treatment of organic wastewater in a first biological treating vessel to a biological treatment in a second biological treating vessel.例文帳に追加

有機質排水を第一生物処理槽で浄化処理する第一工程において、生じた余剰汚泥を次の第二工程の第二生物処理槽等で生物処理をする浄化方法を提供する。 - 特許庁

In a transfer sheet arrangement process, a transfer sheet 10 is partially arranged on first cavity surfaces 22 by adjusting positions of ends 10a of the transfer sheet 10 on second cavity surfaces 23a, 23b with respect to a first die 20.例文帳に追加

転写シート配置工程では、第１型２０に対して、第２キャビティ面２３ａ，２３ｂの上に転写シート１０の端部１０ａの位置を合わせて転写シート１０が第１キャビティ面２２に部分的に配置される。 - 特許庁

First, as a first winding process W1, during the back-and- forth movement M3 of the nozzle 4 between the outside winding position P and the inside winding position Q, a winding operation at e.g. about 10 to 90% of the total winding amount is performed.例文帳に追加

まず第１巻線工程Ｗ１として、ノズル４を外側巻線位置Ｐと内側巻線位置Ｑとの間で前後動Ｍ３させながら、例えば総巻線量の１０〜９０パーセントの巻線を行う。 - 特許庁

To suppress the pressure rise of a connecting space between a first member and a second member in a process of insert-fitting a boot adaptor to the first member when sealing the connecting space with the boot adaptor and a boot.例文帳に追加

第１の部材と第２の部材の接続空間をブーツアダプタとブーツにより密封するに際し、ブーツアダプタを第１の部材に挿着する過程での上記接続空間の圧力上昇を抑制すること。 - 特許庁

By doing so, the first and second polarizing hologram devices 25 and 26 are adjusted independently of each other, so that the offset adjustment of servo error signals for the first and second semiconductor lasers 20 and 21 can be easily achieved in assembly process.例文帳に追加

こうすることによって、第１，第２偏光ホログラム素子２５，２６を個別に調整して、第１，第２半導体レーザ２０，２１に関するサーボ誤差信号のオフセット調整を組み立て時に簡単に行うことができる。 - 特許庁

An HO quality evaluation program makes an information processing device execute a process of acquiring reception statuses of first and second wireless signals at a plurality of reference points between first and second base stations (S101).例文帳に追加

ＨＯ品質評価プログラムは、情報処理装置に、第１および第２の基地局間の複数の参照点における、第１および第２の無線信号の受信状況を取得する処理を実行させる（Ｓ１０１）。 - 特許庁

The method of manufacturing the solar cell module includes mounting the light-receiving surface-side protective material 101 on a first projection portion 33 provided on an opposite surface 3S of a first support portion 3 in a laminating process for a laminate 100.例文帳に追加

太陽電池モジュールの製造方法では、積層体１００のラミネート工程において、第１支持部３の対向面３Ｓに設けられる第１突起部３３上に、受光面側保護材１０１を載置する。 - 特許庁

To provide a self-synchronizing FIFO (First In First Out) memory device which can substantially increase a physical memory capacity without increasing the delay time and can process two asynchronous requests of writing and reading in parallel.例文帳に追加

遅延時間を増大させずに実質的に物理的な記憶容量を増やすことができると共に書き込みと読み出しの２つの非同期な要求を並行に処理できる自己同期型ＦＩＦＯメモリ装置を提供する。 - 特許庁

Even if the groove is not perfectly filled by the first insulating film due to the presence of a foreign matter, the groove is perfectly filled by the subsequent formation of the second insulating film after removing the foreign matter by the first CMP process.例文帳に追加

異物の存在によって第１の絶縁膜で溝を完全に埋設できない場合でも、第１のＣＭＰ工程により異物を除去し、その後における第２の絶縁膜によって溝を完全に埋設する。 - 特許庁

To provide: a game system configured to give, in a game for connecting a second object to a first object, a change in the process of connecting the first object to the second object; a program; and an information storage medium.例文帳に追加

第１のオブジェクトに第２のオブジェクトを結合させるゲームにおいて、第１のオブジェクトと第２のオブジェクトを結合させるまでの過程に変化を与えるゲームシステム、プログラム及び情報記憶媒体を提供すること。 - 特許庁

The incubation process repeats a first step for introducing monosilane gas for a specified time, and a second step for introducing tungsten fluoride gas and monosilane gas for a specified time following to the first step a plurality of times.例文帳に追加

このインキュベーション工程は、モノシランガスを所定時間導入する第１工程と、この第１工程の後にフッ化タングステンガスとモノシランガスを所定時間導入する第２工程と、を複数回繰り返す工程である。 - 特許庁

In the display substrate for improving the reliability of manufacturing process and the method of manufacturing the display substrate, the display substrate includes a first metal pattern, a second metal pattern, a first transparent conductive layer and a second transparent conductive layer.例文帳に追加

製造工程の信頼性向上のための表示基板及びその製造方法において、表示基板は、第１金属パターン、第２金属パターン、第１透明導電層、及び第２透明導電層を含む。 - 特許庁

The process comprises a step in which the sieve is allowed to come into contact with purge stream at first, and the first effluent from the guard bed is sent to a raffinate tower 26 to recover the olefinic hydrocarbons trapped in the spaces of the guard bed.例文帳に追加

この方法は最初にふるいをパージストリームと接触させ、ガード床からの最初の流出液をラフィネート塔２６に送り込んで、前記床の空隙内のオレフィン炭化水素を回収するステップを含んでいる。 - 特許庁