「FORMATION PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

An oxygen deposition nucleus formation process is carried out to form oxygen deposition nuclei in high concentration in the BMD layer 34 of a wafer material 33 after going through IG.例文帳に追加

ＩＧを経たウェーハ素材３３のＢＭＤ層３４に酸素析出核を高密度に形成する酸素析出核形成処理（酸素析出核形成工程）を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device whose film peeling in formation of a film peeling preventing film is less and the number of non-defective products is larger in a dicing process than before.例文帳に追加

ダイシング工程において、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lubricant, an image formation apparatus and a process cartridge capable of outputting an image stably for a long period of time, without inducing image blur, under a high temperature-high humidity environment.例文帳に追加

高温高湿環境下、画像ボケを発生することなく、長期間安定して画像を出力できる潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a film formation method which can directly form a ceramic, metal or semi-metal film on the surface of a soft resin substrate using an AD (aerosol deposition) process.例文帳に追加

柔らかい樹脂基板の表面にＡＤ法を用いてセラミックス、金属、半金属膜を直接形成できる製膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

To apply a coating soln. to a film uniformly in the lateral direction thereof even if there is the distribution of tension in the film as seen in a film during film formation process in a floatation type film coating apparatus.例文帳に追加

浮上方式のフィルムの塗布装置において、製膜中のフィルムのようにフィルムに張力の分布があっても幅方向に均一に塗布できるフィルムの塗布装置。 - 特許庁

To provide a recording method by which optional luster is imparted on a metallic luster surface with a simple process in the formation of the metallic luster surface of the recording medium.例文帳に追加

記録媒体上に金属光沢面を形成する際に、簡易な工程で該金属光沢面に任意の光沢度を付与することができる記録方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a laminated substrate having an insulating layer reconciling strength as a structure constituting a part of the laminated substrate and easiness to process such as the formation of a viahole.例文帳に追加

積層基板の一部をなす構造体としての強度と，バイアホールの形成等の加工のしやすさとを両立した絶縁層を有する積層基板を提供すること。 - 特許庁

To protect a memory cell from the application of a high voltage due to the charging of a word line even in a process after accumulating conductive layers for word line formation.例文帳に追加

ワード線形成用の導電層を堆積した後の工程においても、ワード線の帯電による高電圧の印加からメモリセルを保護することができるようにする。 - 特許庁

To make it possible to cut a desired fuse securely and very simply without causing the increase of process despite the sufficiently thick formation of a protecting film covering a fuse.例文帳に追加

ヒューズを覆う保護膜を十分な膜厚に形成するも、工程増を招くことなく極めて簡易にしかも確実に所望のヒューズを切断することを可能とする。 - 特許庁

To obtain a recording paper that suppresses a temporary reduction in signal strength caused by a magnetic fiber even immediately after image formation by an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真法により画像を形成した直後においても、磁性繊維に起因する信号強度の一時的な低下を抑制することができる記録用紙を提供すること。 - 特許庁

Therefore, the atmosphere around a silicon wafer A is constant throughout all the steps of an oxide film formation process, and an oxide film formed over the silicon wafer A is of high quality.例文帳に追加

したがって、シリコンウエハＡの周囲の雰囲気は酸化膜形成プロセスの全工程を通じ一定し、シリコンウエハＡに形成される酸化膜は高品位なものとなる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of minimizing the operation time of an imaging process when a delay is generated owing to change in operation condition of image formation.例文帳に追加

画像形成の動作条件の変化によって遅延が発生する場合に、作像プロセスの動作時間を最小化することのできる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In a reformed region formation process, a cutting predetermined line DL is set along a (111) surface forming an angle of 54.7° from a substrate surface 21a which is a (100) surface.例文帳に追加

改質領域形成工程において、割断予定ラインＤＬは、（１００）面である基板面２１ａから５４．７°の角度をなす（１１１）面に沿って設定される。 - 特許庁

In that case, a preliminary formation (S1) for chamfering the blank pellet and forming a recessed part at the center of a surface to be worked is performed prior to the impact pushing-out forming process.例文帳に追加

この際、衝撃押出成形工程に先立って、素材ペレットに面取り加工や被加工加工面の中央に凹部を形成する予備成形（Ｓ１）を実施する。 - 特許庁

To provide the element isolation formation method of a semiconductor device for achieving an element isolation process with high productivity by minimizing the travel of a wafer and eliminating time loss.例文帳に追加

ウェハの移動を最小限にし、時間的なロスをなくした高生産性の素子分離工程を実現する半導体装置の素子分離形成方法を提供する。 - 特許庁

To enable a shaping by one molding process containing also a formation of a relatively complicated shape such as an engaging shape of an external wall material, and to increase the productivity of a molding.例文帳に追加

外壁材の係合形状のような比較的複雑な形状の形成も含めて一度の成形工程で成形可能とし、成形品の生産性を高める。 - 特許庁

Forming locally modified regions may prevent under-etching of the at least one structure during further process steps in the formation of a semiconductor device 10.例文帳に追加

部分的に変更された領域の形成工程は、半導体デバイス１０の作製中の更なる処理工程中に、少なくとも１つの構造のアンダーエッチングを防止できる。 - 特許庁

Then, when the MOS transistor formation region is subjected to sacrifice oxidation and a sacrificial oxide film 5 is formed (process (c)), the factor 3 for preventing oxidation is taken into the sacrificial oxide film 5.例文帳に追加

次に、ＭＯＳトランジスタ形成領域を犠牲酸化して犠牲酸化膜５を形成する（（ｃ）工程）と、酸化を阻害する要因３が犠牲酸化膜５中に取り込まれる。 - 特許庁

To provide a process which achieves a simple and stable layer formation in the method for manufacturing an ink-jet head with an orifice plate on which an ink-repellent layer is formed.例文帳に追加

撥インク層を形成したオリフィスプレートを有するインクジェットヘッドの製造方法において、簡略かつ安定した層形成を達成する方法を提供する。 - 特許庁

To shorten a producing process without necessitating a post-processing by integrally forming a shaft and a pulley with a forging formation, in the shaft pulley for belt type continuously variable transmission.例文帳に追加

ベルト式無段変速機用シャフトプーリにおいて、シャフトとプーリとを鍛造成形により一体的に形成し、後加工を不要として製造工程を短縮する。 - 特許庁

Next, a liquid 3 containing a function material is applied to a surface 2a of the metal film 2 and the liquid 3 is solidified to form a function film 3A (function film formation process).例文帳に追加

次いで、金属膜２の表面２ａに機能材料を含有する液体３を付与し、液体３を固化させて機能膜３Ａを形成する（機能膜形成工程）。 - 特許庁

To provide a method for forming the metallic wiring of a semiconductor memory device capable of effectively preventing irregular reflection caused by a metal contact at the time of an exposure process for a trench mask formation.例文帳に追加

トレンチマスク形成のための露光工程時に金属コンタクトによる乱反射を有効に防止できる半導体メモリ素子の金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

The formation method has a process of coating a buffer material 6A containing a conductive polymer of non-fluidity by extrusion by a dispenser 5 along a light-emitting region 1A.例文帳に追加

発光領域１Ａに沿って、ディスペンサ５による押し出しにより非流動性の導電性高分子を含む緩衝層材料６Ａを塗布する工程を有する。 - 特許庁

Thereafter, film formation is carried out by a CVD process using an WF6-H2-based gas to form a W film 15 having a uniform thickness all over the entire film.例文帳に追加

その後、ＷＦ_6 −Ｈ_2 系のガスを用いたＣＶＤ法により成膜を行なうことによって全体に渡って均一な膜厚を有するＷ膜１５が形成される。 - 特許庁

This manufacturing method characteristically comprises a process in which high density is realized by adding a compressive strength to the recording medium during or after the formation of the recording medium.例文帳に追加

前記光記録媒体の成形中または成形後に、前記媒体に圧力を加えることにより高密度化を図る工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In addition, the manufacturing process of the substrate can be simplified, because the burying of the wires 13 and 14 in the resin layer 3 and the formation of the conductor paths can be performed in the same step even when the electronic parts have different thicknesses.例文帳に追加

また、厚さの異なる部品同士であっても、同一の工程で埋め込みおよび導体路の形成を行うことができ、製造工程を簡略化できる。 - 特許庁

To provide a trimming fuse structure which excels in humidity resistance, its formation method, and a trimming method, without causing complication of a manufacturing process or the increase of manufacturing cost to be generated.例文帳に追加

、製造工程の複雑化、および製造コストの増大を生じることなく、耐湿性に優れたトリミングヒューズ構造とその形成方法、およびトリミング方法を提供する。 - 特許庁

In this process, oxide groups in the oxide compound selectively react with amino groups in the amines for the formation of oxide-added amines to reduce amine activity.例文帳に追加

これによって、オキサイド化合物の有するオキサイド基が、アミン類の有するアミノ基と選択的に反応してアミン類のオキサイド付加体が生成され、アミン類の活性が低減される。 - 特許庁

To provide a film formation process of a polymer thin film by which a thin film with a thickness of less than 10 μm is easily formed while securing surface flatness, and a polymer thin film thereof.例文帳に追加

１０μｍ未満の薄膜であってもその形成が容易であり、かつ表面平坦性が確保されている高分子薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To develop a method which enables neat mounting and moreover, achieves a method with a simple making process without discrepancy between mesh and blank parts in the formation of the mesh and blank parts.例文帳に追加

目部をブランク部に形成するにあたって目部とブランク部との違和感が無く、きちんと取付けが可能で、しかも製作工程の簡単な方法を開発する。 - 特許庁

To prevent a forming failure caused by existence of foreign matters on an element membrane during the conduction treatment of electron emitting part formation process.例文帳に追加

表面伝導型の電子放出素子において、電子放出部形成工程の通電処理において、素子膜上の異物の存在により生じるフォーミング不良を防止する。 - 特許庁

The asteroid is a remnant of the Solar System's birth about 4.6 billion years ago, so rock samples should help scientists study the process of the Solar System's formation. 例文帳に追加

その小惑星は約46億年前の太陽系誕生の遺物なので，岩石のサンプルは科学者たちが太陽系の形成過程を研究するのに役立つはずだ。 - 浜島書店 Catch a Wave

In the process, not short-time heating by lamp anneal but furnace anneal is added as heat treatment after formation of an NSG layer 16 which is an uppermost layer of the first interlayer insulation film 10.例文帳に追加

このとき第１の層間絶縁膜１０の最上層であるＮＳＧ層１６の形成後の熱処理として、ランプアニールによる短時間加熱ではなく炉アニールを加える。 - 特許庁

It is also possible to simplify a manufacturing process by forming a channel formation region simultaneously with a low concentration side isolation layer, and an island lower region simultaneously with a high concentration side isolation layer.例文帳に追加

チャネル形成領域を低濃度側分離層と、島下部領域を高濃度側分離層と同時に形成し、製造プロセスの簡単化を図ることもできる。 - 特許庁

To provide a surface protective member that has improved productivity by facilitating formation and peeling of a protective film in a process of etching a crystalline semiconductor substrate.例文帳に追加

結晶系半導体基板のエッチング工程における保護膜の形成と剥離を簡略化し、生産性を向上させることができる表面保護部材を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus configured such that a replacement timing for a process cartridge may be stably and precisely detected and stable image formation is attainable for a long period.例文帳に追加

プロセスカートリッジの交換時期を安定して精度よく検出することができ、長期にわたって安定して画像形成が可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

A groove formation process is performed to form a groove (18) deeper than the prescribed finished thickness (H) along a dividing line on one surface (16) of the metal plate (2) by a cutting blade (10).例文帳に追加

切削ブレード（１０）によって金属板（２）の片面（１６）に分割ラインに沿って所定仕上がり厚さ（Ｈ）より深い溝（１８）を形成する溝形成工程を行う。 - 特許庁

To provide toner for image formation excellent in thermal property, heat resistance storage stability and transparency, an image forming device using the toner, an image forming method, and a process cartridge.例文帳に追加

熱特性、耐熱保存安定性、および透明性に優れた画像形成用トナー、並びに該トナーを用いた画像形成装置、画像形成方法、およびプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

To provide a magnetron by which a period of time until spoke formation is shortened although an extra manufacturing process is not required, and provide a radar device using the magnetron.例文帳に追加

余分な製造工程が不要でありながら、スポーク形成までの時間を短縮することができるマグネトロン、および当該マグネトロンを用いたレーダ装置を提供する。 - 特許庁

Since the coil is formed by winding wire rod, the coil does not need a lathe machining process with a cutting blade different from the formation of the feed screw in the conventional configuration.例文帳に追加

コイルの形成は線材の巻き上げで形成されるため、従来の構成における送りねじの形成と異なり、切削刃物による旋盤加工工程を必要としない。 - 特許庁

To provide an organic wastewater aerobic treatment method which involves a process for more simply and efficiently treating sludge without requiring any ozone treatment and enables drastic reduction of excess sludge formation.例文帳に追加

オゾン処理を必要とせず、より簡便に効率の良い汚泥の処理方法であって、余剰汚泥の生成を著しく低減し得る有機性排水の好気性処理方法。 - 特許庁

The process for including the formation of the thin diamond film on a getter 30 at a temp. lower than the activation temp. of the getter is used in order to produce the device described above.例文帳に追加

この装置を製造するために、ゲッタ３０の活性化温度より低い温度でゲッタ上へ薄いダイヤモンドの被膜を形成させることを包含する方法が用いられる。 - 特許庁

The formation of the BiFeO_3 crystal film 102 is performed by an ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma sputtering process using a target of a sintered compact mainly composed of the oxide of bismuth and iron.例文帳に追加

ここで、ＢｉＦｅＯ_3結晶膜１０２の形成は、主として、ビスマスと鉄との酸化物からなる焼結体のターゲットを用いたＥＣＲプラズマスパッタ法により行う。 - 特許庁

To provide a low-priced/stable display element by simplifying the formation process of a thin film transistor using an oxide semiconductor and a method for forming the same.例文帳に追加

酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタの形成プロセスの簡略化により低コストで安定な表示素子及びその形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁