「FORMATION PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

The p type diffusion layer formation composition is applied to a substrate and heat diffusion process is performed thereon to produce a p type diffusion layer and solar cells having the p type diffusion layer.例文帳に追加

このｐ型拡散層形成組成物を塗布し、熱拡散処理を施すことで、ｐ型拡散層、及びｐ型拡散層を有する太陽電池セルが製造される。 - 特許庁

The n type diffusion layer formation composition is applied to a substrate and heat diffusion process is performed thereon to produce an n type diffusion layer and solar cells having the n type diffusion layer.例文帳に追加

このｎ型拡散層形成組成物を塗布し熱拡散処理を施すことで、ｎ型拡散層、及びｎ型拡散層を有する太陽電池セルが製造される。 - 特許庁

Except for the back-etch and the gas-sensitive layer formation, all other layers including the tungsten resistive heater 6, are made using a CMOS process employing tungsten metallization.例文帳に追加

当該エッチバック工程及びガス感受性層の形成工程を除いて、タングステンヒーター６を含む他のすべての層は、タングステン金属化を用いたＣＭＯＳプロセスが利用される。 - 特許庁

To provide a toner, developer, process cartridge and device for image formation to form an image of high quality without being influenced by the environment in the development of an electrostatic charge image.例文帳に追加

静電荷像現像において環境に左右されることなく高品質の画像を形成するトナー、現像剤、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method in which formation of a step in an element isolated region is suppressed and high reliability can be attained in a short process.例文帳に追加

素子分離領域での段差の形成を抑制して高い信頼性を短い工程で得ることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Also, the resistor is formed with the same process as that of the formation of the contact electrode layer of the HBT, and the resistor is prepared by realizing a high resistor of the contact electrode layer.例文帳に追加

また、抵抗体を、ＨＢＴのコンタクト電極層の成膜と同一工程で成膜すると共に、コンタクト電極層を高抵抗化処理して抵抗体を作製する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and device in which porosity formation is made compatible with contraction control in a flocculation process of a thin film-like polymer.例文帳に追加

本発明は、薄膜状のポリマーの凝固プロセスにおいて、多孔質化と収縮制御を両立させることができる製造方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a triarylamine polymer having excellent mobility characteristics, capable of being subjected to wet film formation, capable of being suited to a low-cost process, and useful for organic electronics.例文帳に追加

優れた移動度特性を有すると共に湿式成膜が可能で、低コストプロセスに適応できる有機エレクトロニクス用として有用なトリアリールアミン重合体を提供する。 - 特許庁

Similarly, an image formation device 1 selects any one image processing server as a process execution server from among a plurality of image processing servers of the final stage.例文帳に追加

画像形成装置１は、同様にして最終段の複数の画像処理サーバーの中から、いずれか１つの画像処理サーバーを処理実行サーバーとして選択する。 - 特許庁

The composition for the formation of an antireflection film can be used for the lithographic process in the manufacture of a semiconductor device containing a polymer compound having a carbon-carbon triple bond.例文帳に追加

炭素炭素三重結合を含有する高分子化合物を含む半導体装置製造のリソグラフィープロセスにおいて使用できる反射防止膜形成組成物。 - 特許庁

To provide the copper metal wiring formation method of a semiconductor device that can reproduce copper deposition process, and at the same time, can obtain a copper thin film having superior film quality.例文帳に追加

銅蒸着工程の再現性を実現すると共に優れた膜質の銅薄膜を得ることが出来る半導体素子の銅金属配線形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for oxide dielectric layer formation by a sol-gel process is characterized by comprising the following steps (a) to (c).例文帳に追加

ゾル−ゲル法による酸化物誘電層の形成方法において、以下の（ａ）〜（ｃ）の工程を備えることを特徴とする酸化物誘電層の形成方法等を採用する。 - 特許庁

In the one embodiment, it is possible to expose the surface of the diffusion barrier layer to an adhesion promoting agent before the foregoing formation process or during at least its part.例文帳に追加

一部の態様では、この形成工程の前か少なくともその一部分の最中に、拡散バリア層の表面を密着促進剤に暴露することができる。 - 特許庁

To provide the formation method of an interlayer insulation film, especially for shortening chemical mechanical polishing process time in the manufacturing method of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子の製造方法に関し、特に化学的機械研磨工程時間を短縮させるための半導体素子の層間絶縁膜の形成方法に関するものである。 - 特許庁

A contact layer 5 exposed between source/drain electrode wirings 7 is oxidized by anode formation process, forming an oxidized insulating film 9 comprising many holes in film-thickness direction.例文帳に追加

ソース・ドレイン電極配線７間に露出したコンタクト層５を陽極化成処理により酸化させ、膜厚方向に多数の孔を有する酸化絶縁膜９を形成する。 - 特許庁

To provide a process capable of avoiding the formation of soot in the production of a gas enriched of hydrogen and/or carbon monoxide by the partial oxidation of hydrocarbon raw materials.例文帳に追加

炭化水素供給原料の部分酸化によって水素および／または一酸化炭素の豊富なガスを製造する際に煤が生じるのを抑制する方法の提供。 - 特許庁

A silane passivation process, carried out in-situ together with the formation of a subsequent dielectric film, converts the exposed Cu surfaces of the Cu interconnect structure, to copper silicide.例文帳に追加

その後の誘電体フィルムの形成とともに原位置に実行されるシラン・パッシベーション・プロセスは、Ｃｕ相互接続構造の露出したＣｕ表面をケイ化銅に転化する。 - 特許庁

In this process, isocyanate groups in the isocyanate compound selectively react with amino groups in the amines for the formation of polyurea substances to inactivate the amines.例文帳に追加

これによって、イソシアネート化合物の有するイソシアネート基が、アミン類の有するアミノ基と選択的に反応してポリ尿素体が生成され、アミン類が不活性化される。 - 特許庁

After this, in an electrode formation process, electrodes 4 and 5 are formed on surfaces of both sides in the thickness direction of the semiconductor wafer 2 on which the semiconductor impurities are diffused.例文帳に追加

この後、電極形成工程で、前記半導体不純物が拡散された半導体ウエハ２の厚み方向両側の表面に電極４，５をそれぞれ形成する。 - 特許庁

What should not be forgotten in a formation process of 'tsuwamono-no-ie' (house of soldiers) as the family line was that 'choka no soga' mobilized in the late tenth century without the presence of a military officer. 例文帳に追加

家系としての「兵の家」の形成過程で忘れてはならないのが、10世紀後半に現役武官ではないのに「朝家の爪牙」として動員されたことである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a development apparatus where the formation of an image with a uniform density free from the generation of density spots and density reduction in the edge parts is made possible, to provide a process cartridge, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加

端部に濃度斑や濃度低下の発生がない、均一な濃度の画像形成が可能となる現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the abnormality of alignment layers and to stably obtain uniform and good alignment layers by shortening the production process and reducing the cost of projecting part formation.例文帳に追加

製造工程を短縮化するとともに、突設部形成のコストダウンを図り、配向膜の異常を抑制し、均一かつ良好な配向膜を安定して得るようにする。 - 特許庁

During conducting of this process, an application type film formation apparatus is used which is provided with a gas blow nozzle 7 having the function of blowing gas composed of the air or nitrogen against a specified region.例文帳に追加

この処理を行うに際して、所定の領域に気体吹き付ける機能を持ったエアー又は窒素からなる気体ブローノズル７を具備する塗布型成膜装置を用いる。 - 特許庁

To provide a film formation method which can directly form a ceramic, metal or semi-metal film on the surface of a soft resin substrate using an AD (aerosol deposition) process.例文帳に追加

柔らかい樹脂基板の表面にＡＤ法を用いてセラミックス、金属、半金属膜を直接形成できる製膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

To provide a new method enabling automatic recognition of data for calibrating a biosensor by an extremely simple manufacturing process, and a formation method of an identification mark therefor.例文帳に追加

極めて簡単な製造工程により、バイオセンサの校正用データを自動認識させる新たな方法及びそのための識別標識の形成方法を提供する。 - 特許庁

An oxygen deposition nucleus formation process is carried out to form oxygen deposition nuclei in high concentration in the BMD layer 34 of a wafer material 33 after going through IG.例文帳に追加

ＩＧを経たウェーハ素材３３のＢＭＤ層３４に酸素析出核を高密度に形成する酸素析出核形成処理（酸素析出核形成工程）を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device whose film peeling in formation of a film peeling preventing film is less and the number of non-defective products is larger in a dicing process than before.例文帳に追加

ダイシング工程において、膜剥れ防止膜を形成する際に膜剥れが従来より少なく良品の多い半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lubricant, an image formation apparatus and a process cartridge capable of outputting an image stably for a long period of time, without inducing image blur, under a high temperature-high humidity environment.例文帳に追加

高温高湿環境下、画像ボケを発生することなく、長期間安定して画像を出力できる潤滑剤、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a film formation process of a polymer thin film by which a thin film with a thickness of less than 10 μm is easily formed while securing surface flatness, and a polymer thin film thereof.例文帳に追加

１０μｍ未満の薄膜であってもその形成が容易であり、かつ表面平坦性が確保されている高分子薄膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photo-setting composition being excellent in heat resistance and low in the contractility during photo-setting, and a pattern formation process by light imprinting method using the composition.例文帳に追加

光硬化時の収縮度が低く耐熱性に優れた光硬化性組成物及び該組成物を用いる光インプリント法によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A substrate 2 is transferred to a film-forming chamber side by a delivery holder 60, is subjected to film formation by a sputtering process, and is again returned to a load lock chamber 30 side.例文帳に追加

受渡ホルダ６０によって、基板２が成膜処理室側に受け渡され、スパッタリングによる成膜処理が施された後、再びロードロック室３０側に戻される。 - 特許庁

This process is applicable to the field of damascene structure and can be used for forming a variety of capacitor structures while decreasing the number of mask layers required for formation.例文帳に追加

さらに、このプロセスはダマシン適用分野で使用でき、形成に要するマスク層の数を削減しながら多種多様な容量構造を形成するために使用できる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for cold-forged formation of a bevel gear, excellent in the productivity by which an intermediate annealing lubrication process can be saved.例文帳に追加

中間焼鈍潤滑工程が省略できる生産性に優れた傘歯車の冷間鍛造成形方法及び傘歯車の冷間鍛造成形装置を提供する。 - 特許庁

To enable an electronic part to be mounted on a substrate with a sufficient strength only by means of a solder dip process, even if there is a burr caused during formation on the lead frame of the electronic part.例文帳に追加

電子部品のリードフレームに成形時のバリがあっても、単にはんだディップ処理により基板に十分な強度で取り付けることができるようにする。 - 特許庁

Thus, in an embedded wiring formation process S8, the side-wall deposit 118a prevents, together with a protective film 112, erosion of the low-k film 104.例文帳に追加

したがって，埋込配線形成工程Ｓ８において，側壁堆積物１１８ａは，保護膜１１２とともにＬｏｗＫ膜１０４の腐食を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a substrate for mounting a semiconductor, a semiconductor device, and a process for fabricating excellent in a gate break nature, preventing the occurrence of a void, and suitable for multi-array formation.例文帳に追加

ゲートブレーク性に優れ、ボイドの発生の防止、かつマルチアレイ化に適した半導体搭載用基板と半導体装置および製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent the occurrence of cracks in an insulating film which functions as an etching stopper without inhibiting the accomplishment of the purpose of a hydrogen annealing process which is executed after the formation of memory cells.例文帳に追加

メモリセル形成後に実行される水素アニール工程の目的達成を阻害することなく、エッチング・ストッパとして機能する絶縁膜におけるクラックの発生を防止する。 - 特許庁

To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加

本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which formation of a recess in the periphery of the surface of an isolation film buried in a semiconductor substrate is controlled.例文帳に追加

半導体基板に埋め込まれた素子分離膜の表面周辺部に、窪みが形成されることを抑制する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY, ELECTROPHOTOGRAPHIC SENSITIVE BODY MANUFACTURED USING THE SAME, IMAGE FORMING APPARATUS USING THE SAME, IMAGE FORMATION METHOD AND PROCESS CARTRIDGE例文帳に追加

電子写真感光体の製造方法及びそれにより製造された電子写真感光体、それを用いた画像形成装置、画像形成方法並びにプロセスカートリッジ - 特許庁

To provide a semiconductor device that has less number of processes such as film formation and etching, can control each process easily, and reliably and electrically join members.例文帳に追加

成膜、エッチング等の工程数が少なく、各工程のコントロールが容易で、部材間の電気的接合が確実な半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method characteristically comprises a process in which high density is realized by adding a compressive strength to the recording medium during or after the formation of the recording medium.例文帳に追加

前記光記録媒体の成形中または成形後に、前記媒体に圧力を加えることにより高密度化を図る工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In addition, the manufacturing process of the substrate can be simplified, because the burying of the wires 13 and 14 in the resin layer 3 and the formation of the conductor paths can be performed in the same step even when the electronic parts have different thicknesses.例文帳に追加

また、厚さの異なる部品同士であっても、同一の工程で埋め込みおよび導体路の形成を行うことができ、製造工程を簡略化できる。 - 特許庁

To provide a trimming fuse structure which excels in humidity resistance, its formation method, and a trimming method, without causing complication of a manufacturing process or the increase of manufacturing cost to be generated.例文帳に追加

、製造工程の複雑化、および製造コストの増大を生じることなく、耐湿性に優れたトリミングヒューズ構造とその形成方法、およびトリミング方法を提供する。 - 特許庁