「FORMATION PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

For continuous formation, a temp.-holding and solidification-adjusting chamber for holding and adjusting the gas dissolved metallic material is arranged in the intermediate process between the heating chamber and the continuous cooling chamber.例文帳に追加

連続形成には、加熱室と連続冷却室との中間工程にガス溶解金属材料を保留調整する保温凝固調整室を設ける。 - 特許庁

In a process of forming a resist thin film on a substrate to be processed, a resist film of 0.3 μm or smaller is formed by the film formation in two or more steps.例文帳に追加

被加工基板上にレジスト薄膜を形成する工程において、２回以上の膜形成により、膜厚０．３μm以下のレジスト膜を形成する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a transistor of such a structure as having a large gate width and preventing formation of a parasitic channel can be fabricated.例文帳に追加

ゲート幅が大きく、且つ寄生チャネルの形成を防止した構造のトランジスタを作成できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In case the pattern formation has not been completed, a stage 5 is transferred to a predetermined position under a drawing unit 3 by step S9 as a stage transfer process.例文帳に追加

パターンが完成していない場合は、ステージ移動工程としてのステップＳ９によって、ステージ５を描画ユニット３の下の所定の位置に移動する。 - 特許庁

As for the pin 9 of the connector 2, any other working is not required other than formation of the V-shaped part 9a, and the working process can be facilitated.例文帳に追加

コネクタ２のピン９に関しては、Ｖ字状部９ａを形成する以外に特に加工の必要もないため、加工工程の容易化を図ることが可能となる。 - 特許庁

To provide a complementary memory cell in which occurrence of variation in the electric characteristics can be suppressed even upon occurrence of misalignment during formation process.例文帳に追加

形成過程における位置合わせずれが生じた場合であっても、電気的特性のばらつきの発生を抑制できる相補型メモリセルを提供する。 - 特許庁

In the process according to the invention, the reaction is carried out in a temperature range of from 20 to 250°C for a sufficient time needed for the formation of the hydrophobic non-aggregated colloidal silica.例文帳に追加

本発明の方法では、反応は２０〜２５０℃の範囲の温度で、疎水性非凝集コロイドシリカを形成するのに十分な時間行われる。 - 特許庁

To provide a method for upgrading the throughput of a block copolymer for self-formation by annealing it as used in creating a pattern of manufacturing process, etc. of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造プロセス等のパターン形成に用いられるブロックコポリマーのアニーリングによる自己組織化のスループットを向上できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a specific film formation process which is hardly affected by external environment, for example, by using a droplet discharge method or the like.例文帳に追加

液滴吐出法等を用いることにより、例えば外部環境の影響を受けにくいなどの効果を奏する特異な成膜プロセスを提供する。 - 特許庁

To simplify a formation process of a retardation layer, in a liquid crystal display panel which constitutes a semi-transmissive liquid crystal display, with a built-in the retardation layer.例文帳に追加

位相差層を内蔵した半透過型液晶表示装置を構成する液晶表示パネルにおける該位相差層の形成プロセスを簡略化する。 - 特許庁

According to the process, width of the wafer becoming useless due to formation of the isolation trench, and the like, can be reduced by at least 30-40 μm.例文帳に追加

この様な工法により、分離溝の形成等によって無駄になるウエハの幅を少なくとも３０〜４０μｍ程度は削減することができる。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a device which can eject droplets onto predetermined positions in the formation of a predetermined pattern on a substrate using a multi-nozzle head.例文帳に追加

マルチノズルヘッドを用いて基板上に所定のパターンを形成する際、所望の位置に液滴を吐出できるデバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a film formation process, at least part of an interconnection and/or an electronic element and/or an electrode for display is formed on a transparent substrate.例文帳に追加

成膜工程において、透明基板上に、配線、電子素子及び表示用電極の少なくともいずれかにおける少なくとも一部を形成する。 - 特許庁

To provide a production process of a semiconductor device that controls deterioration of yield related to formation of a via hole and furthermore, improves throughput.例文帳に追加

ビアホールの形成に関連する歩留まりの低下を抑制し、また、スループットを向上することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this case, the manufacturing method may additionally include a methaloxane polymer formation furthering process for furthering hydrolysis by the water and dehydration condensation of the precursor monomer.例文帳に追加

この場合、前記前駆体モノマの前記水による加水分解及び脱水縮合を促進させるメタロキサンポリマ形成促進工程をさらに備えていても良い。 - 特許庁

Then, each crystal wafer is classified into the frequency groups G1, G2, G3 based on central frequency of the crystal wafers measured after the electrode formation process.例文帳に追加

そして、電極形成工程後に測定した水晶ウエハの中心周波数に基づいて、各水晶ウエハを周波数グループＧ１、Ｇ２、Ｇ３に分類する。 - 特許庁

In addition, since formation of the end electrode 6 and connection to the end electrode 6 of the lead member 4 are performed in the same process, manufacturing cost can be lowered.例文帳に追加

また、端部電極６の形成と、リード部材４の端部電極６への接続とが同一工程で行われるので、製造コストを低減できる。 - 特許庁

ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND IMAGE FORMING METHOD, IMAGE FORMING DEVICE AND PROCESS CARTRIDGE FOR IMAGE FORMATION USING THE ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR例文帳に追加

電子写真感光体及びその製造方法、並びに該電子写真感光体を用いた画像形成方法、画像形成装置、及び画像形成用プロセスカートリッジ - 特許庁

The defect and damage of the coated hard material at the edge part due to plasma generated in the formation process of the coated hard material are avoided to maintain the sharp edge of the blade part.例文帳に追加

被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避し、シャープエッジの刃部を維持できる。 - 特許庁

In addition, for the formation of the heat-resistant lubricative layer and the easily adhesive layer which meet the described conditions, it is useful to adopt a die coating process.例文帳に追加

また、上記条件を満たす耐熱滑性層及び易接着層の形成にダイコート法を採用することが有用であることを見出した。 - 特許庁

The heating processes can be provided only after the respective grating formation process SN2 and Si2 of the grating 20N lastly manufactured and at least one other grating 20i.例文帳に追加

最後に作製されるグレーティング２０_Nおよび他の何れか１以上のグレーティングそれぞれのグレーティング形成工程の後に加熱工程を設けるだけでもよい。 - 特許庁

An etching resistant mask TiN film 42a for upper electrode formation is formed on the upper surface of the Ir layer 40a and a first dry etching process is carried out.例文帳に追加

このＩｒ層４０ａの上面に上部電極形成のための耐エッチングマスクＴｉＮ膜４２ａを形成して、第１のドライエッチング工程を実施する。 - 特許庁

The resist layer 8 is removed continuously from the formation of the via hole 9, while keeping the semiconductor substrate 1 arranged inside an etching device used in an etching process.例文帳に追加

次に、当該エッチング工程で利用したエッチング装置内に半導体基板１を配置したまま、ビアホール９形成と連続的にレジスト層８を除去する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for ion plating whereby the evaporation surface of a vapor deposition material is almost uniformly decreased in a film formation process.例文帳に追加

蒸着材料の蒸発面を成膜過程において略均一に減少させることができるイオンプレーティング方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

A semiconductor device, wherein an interlayer insulation film comprising boron nitride films 7, 9, 11 whose dielectric is less than 4 is formed in a wiring formation process, is manufactured.例文帳に追加

配線形成工程において、誘電率が４未満の窒化ホウ素膜７，９，１１からなる層間絶縁膜を形成する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device carries out the formation of a dam 21 for damming the outflow of underfill material simultaneously with the forming process of an electrode pad 4.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、アンダーフィル材の流出を堰き止めるダム２１の形成を電極パッド４の形成工程と同時に行う。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same, which enable the formation of an MIM capacitor together with a metal wiring without using additional complicated process.例文帳に追加

複雑な工程を追加することなく、金属配線とともにＭＩＭ型キャパシタを形成することが可能な、半導体装置及びその製造方法を得る。 - 特許庁

In the light-sensitive polyimide, a mask process due to a projection aligner can be made as in resist, and film thickness formation of 10 to 40 μm can also be made easily.例文帳に追加

この感光性ポリイミドは，レジストと同様露光装置によるマスクプロセスが可能であり，１０〜４０μｍの厚膜形成も容易に行うことができる。 - 特許庁

A parallel algorithm for saving discontinuity by avoiding crack formation caused in a process of independent lattice division of each lattice element is also included.例文帳に追加

また、各格子要素がそれぞれ独立に格子分割を行う過程で発生するクラックの形成を回避し、不連続性を保存する並列アルゴリズムも開発した。 - 特許庁

To improve the yield of wiring by preventing faulty connection, while increasing the EM resistance and SM resistance during the formation of a multilayer wiring structure by damascene process.例文帳に追加

ダマシン法で多層配線構造を形成する際に、ＥＭ耐性およびＳＭ耐性を高めつつ、接続不良を防いで配線の歩留まりを向上させる。 - 特許庁

In the image forming processing, the pretreatment is performed or omitted according to the set state of the flag before the electrostatic latent image formation process on the photoreceptor drum.例文帳に追加

画像形成処理の際は、感光体ドラムへの静電潜像形成処理前に、フラグのセット状態に応じて前処理を実行したり省略したりする。 - 特許庁

In a first discharge process, liquid droplets are discharged with a pitch larger than the diameter of a liquid droplet after landing at a substrate over the whole wiring formation region.例文帳に追加

第１吐出工程では、液滴を配線形成領域全体に前記基板上に着弾した後の液滴の直径よりも大きいピッチで吐出する。 - 特許庁

A printing method comprises a process of forming dot data showing the formation state of a dot to each printing pixel by performing half-tone processing.例文帳に追加

本発明の印刷方法は、ハーフトーン処理を行うことによって各印刷画素へのドットの形成状態を表すドットデータを生成する工程を備える。 - 特許庁

To provide a process which produces a light hydrocarbon oil by the thermal decomposition of a heavy oil at a relatively low pressure while inhibiting the formation of coke.例文帳に追加

比較的低圧において、コークスの発生を抑制しつつ、重質油を熱分解してより軽質な炭化水素油を製造する方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the formation of the electrostatic latent images with two laser beams accelerates the process speed without increasing the rotation number of a polygon mirror.例文帳に追加

このように、２本のレーザビームによって静電潜像を形成するので、ポリゴンミラーの回転数を増加させずに、プロセススピードを増加させることができる。 - 特許庁

A capacitor formation region 14 includes a wiring layer 13 in other vias and wiring regions formed in the same process as a lower electrode 131.例文帳に追加

容量形成領域１４は、同一工程で形成される他のビアや配線領域における配線層１３を下部電極１３１として含む。 - 特許庁

Alternatively, a method comprises a heat treatment process which is performed at temperature higher than film formation temperature of the amorphous oxide layer after forming the amorphous oxide layer on the substrate.例文帳に追加

または、基板上に、非晶質酸化物層を形成する後に、非晶質酸化物層の成膜温度よりも高い温度で熱処理する工程を含む。 - 特許庁

In the process C, the metastable cubic GaN layer is formed, by suppressing the formation of a stable hexagonal GaN layer by introducing an argon-containing gas.例文帳に追加

アルゴンを含むガスをプロセスＣにおいて導入することで、安定な六方晶ＧａＮの形成を抑制し、準安定な立方晶ＧａＮを形成する。 - 特許庁

In addition, the annealing temperature optimum to the formation of the alloy can be set, so the semiconductor process can be made efficient, and a yield can be improved.例文帳に追加

さらに、その合金の形成に最適なアニール温度を設定することができるので、半導体プロセスの効率化や歩留まりの向上を図れる。 - 特許庁

Accordingly, a semiconductor laser with high ESD resistance can be obtained because of the film formation process of the semiconductor laser manufacturing method.例文帳に追加

したがって、本発明に係る半導体レーザ製造方法における成膜工程によれば、ＥＳＤ耐性の高い半導体レーザを得ることができる。 - 特許庁

A process where a mesa 5 is formed on a semiconductor substrate 1 and the formation of an entire oxide film 13 and the etching of the entire face are repeated at least not less than twice is provided.例文帳に追加

半導体基板上にメサを形成後、酸化膜の全面成膜と全面エッチングとを少なくとも２回以上繰り返す工程を設ける。 - 特許庁

According to this process, satisfactory punch pushing is attainable without causing the buckling of the pipe, the deformation in the end face or the crack formation.例文帳に追加

この加工法によれば、金属パイプを座屈させたり端面を変形させたり、あるいは割れを発生させる事なく、良好に軸押しするがことできる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electronic device which effectively prevents the formation of voids in an underfill and shortens a manufacturing process and a time required for manufacturing.例文帳に追加

アンダーフィル内のボイドの発生を効果的に防止し、かつ、製造工程および製造にかかる時間を短縮した電子デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent vapor of a solvent from being brought to a succeeding process after a thin film layer is made from a solution containing a film formation constituent and the solvent.例文帳に追加

膜形成成分と溶媒を含有する溶液から薄膜層を形成した後、この溶媒の蒸気を後工程に持ち込まないようにする - 特許庁

To provide an image formation device capable of carrying out image forming motion under a process condition most suitable for a recording medium without troubling a user.例文帳に追加

ユーザーの手を煩わせることなく記録媒体に最適なプロセス条件で画像形成動作を行うことが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁