「Multiple Exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an imaging apparatus which can reduce non-uniform exposure that may occur in performing exposure by a combination of an electronic front-curtain shutter and a mechanical rear-curtain shutter in units of multiple lines.例文帳に追加

複数ライン単位の電子先幕シャッタとメカニカル後幕シャッタとを組み合わせて露光を行うことにより発生する露光ムラを低減し得る撮像装置を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, when amount of exposure "A" is equal to or larger than the predetermined value "B" (No in S108), combining process of the images <1> and <2> obtained with the multiple exposure is conducted (S112).例文帳に追加

一方、露光量“Ａ”が所定値“Ｂ”以上の場合（ステップＳ１０８のＮｏ）、多重露光により得られた画像〈１〉と〈２〉の合成処理が行われる（ステップＳ１１２）。 - 特許庁

When the multiple-exposure mode is selected, exposure conditions are determined on the basis of a program diagram different from that when the normal mode is selected and a plurality of images photographed with different exposure based upon the exposure conditions are put together to generate a composite image with a wide dynamic range.例文帳に追加

複数回露光モード選択時には、通常モード選択時とは異なるプログラム線図を基に露光条件を決定し、その露光条件に基づく異なる露光で撮影した複数の画像を合成処理して広ダイナミックレンジの合成画像を生成する。 - 特許庁

When multiple exposure imaging is carried out, the number of images to be picked up and combined is set by imaging setting means.例文帳に追加

多重露出撮影を行う際に、撮影設定手段で何枚の画像を撮影し合成するかを設定する。 - 特許庁

After completion of read of the image <1>, multiple exposure is conducted with the [1] system CCD 32-1 (S106).例文帳に追加

そして、画像〈１〉の読み出し終了後に、［１］系ＣＣＤ３２−１において多重露光が行われる（ステップＳ１０６）。 - 特許庁

By one time of scanning of the head, multiple exposure of dot lights of RGB colors is executed on the identical position on the recording medium.例文帳に追加

このヘッドの一回の走査により記録媒体の同一箇所にＲＧＢの各色のドット光が多重露光される。 - 特許庁

When multiple exposure is carried out, organic EL elements Ra corresponding to the non-print parts are turned on during one horizontal scan in (a).例文帳に追加

多重露光を行う際に、（ａ）では１主走査中に非印字部に対応する有機ＥＬ素子Ｒａを点灯する。 - 特許庁

Fine exposure by small σ oblique illumination and rough exposure by large σ vertical illumination are conducted on a wafer by changing the spatial frequency transmission spectrum band of a projection optical system, without developing the wafer in the medium with the gate pattern of a mask set at a projection aligner, so that multiple exposure can be attained.例文帳に追加

投影露光装置に設置したマスクのゲートパターンで、ウエハに対して、途中で現像することなく、小σの斜め照明によるファイン露光と大σの垂直照明によるラフ露光の多重露光を行なう。 - 特許庁

To compose multiple blurring images that are obtained by deconvolution operation using multiple exposure conditions, thereby preventing the occurrence of ringing generated after blurring correction.例文帳に追加

複数の露光条件を用いたデコンボリューション演算によって得られる複数のぶれ補正画像に対して画像合成を実施することにより、ぶれ補正後に発生するリンギングを抑制する。 - 特許庁

To provide a light beam scanning optical device restraining a synchronizing signal of the main scanning direction from shifting to generate jitter when the image is formed by multiple exposure by multiple beams.例文帳に追加

マルチビームによる多重露光で画像を形成する際に、主走査方向の同期信号がずれて画像にジッタが発生することを抑制できる光ビーム走査光学装置を得る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a substrate for an electrooptical device in which exposure masks never shift in position from each other even when multiple exposure is performed, and a manufacturing method for the electrooptical device.例文帳に追加

多重露光を行う際でも、露光マスク同士の位置ずれが発生しない電気光学装置用基板の製造方法、および電気光学装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Concerning a CCD 303, exposure is controlled by a timing generator(TG) 308 corresponding to an exposure control time Tv' [Ev] as the integer multiple of a scanning time tr0 (sec) for one horizontal line in a video image.例文帳に追加

ＣＣＤ３０３はＴ．Ｇ３０８によりビデオ画像における水平１ラインの走査時間ｔro（秒）を整数倍してなる露光制御時間Ｔｖ′〔Ev〕で露光が制御される。 - 特許庁

To provide an exposure wavelength adjustment device that allows easy selection of light with a desired wavelength among light with multiple wavelengths emitted from a light source, and an exposure machine utilizing the same.例文帳に追加

光源から出る多波長光のうち、所望の波長の光を容易に選択することができるようにした露光波長調節装置及びそれを利用した露光機を提供する。 - 特許庁

Preferably, the optical head applies multiple exposure to one pixel by making the plurality of light-emitting devices 79 sequentially emit the light.例文帳に追加

当該光学ヘッドは、複数の発光素子７９を順次発光させることにより、１画素を多重露光することが好ましい。 - 特許庁

To provide a camera capable of multiple exposure photography by which a natural composite photograph intended by a photographer can be taken.例文帳に追加

本発明は、撮影者の意図にあった自然な合成写真を撮影可能な多重露光撮影可能なカメラを提供する。 - 特許庁

An overlay parameter per sub-layout is calculated for each sub-layout for multiple exposure and inputted in an aligner (500).例文帳に追加

多重露光のためのそれぞれのサブレイアウトに対してサブレイアウト別オーバレイパラメータを算出し、露光装置に入力する（５００）。 - 特許庁

To provide a camera used both for silver salt photographing and electronic image picking which is excellent in operability and provided with a multiple exposure mode.例文帳に追加

使い勝手の良好な多重露出モードを備えた銀塩撮影および電子撮像兼用カメラを提供すること。 - 特許庁

To provide an exchangeable object handling apparatus suited to the streaming of continuous multiple exposure jobs in a lithographic apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置において、連続する多重露光ジョブのストリーミングに適した交換可能オブジェクト取扱装置を提供すること。 - 特許庁

After the processing of this multiple-exposure state, development is carried out to obtain the micro optical element which has a saw-tooth type diffraction grating 6.例文帳に追加

この多重露光工程の処理後に現像すると、鋸歯状回折格子６を有する微細光学素子が得られる。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

This lithography system can be configured such that a pitch of the lines exposed by the interference exposure unit is an integer multiple of a size of an exposure area of the lithography unit corresponding to a single individually controllable element in the exposure on a substrate by the lithography unit.例文帳に追加

このリソグラフィーシステムは、干渉露光ユニットにより露光されるラインのピッチが、リソグラフィーユニットによる基板への露光において１つの個別制御可能素子に対応する露光区域の大きさの整数倍となるように構成されている。 - 特許庁

The position of the exposure point 122 is set so that the distance from the exposure point 122 to the primary transfer point 128 may be the integral multiple of the the variation cycle of the rotational speed of the photoreceptor 108, and the variation in exposure and transfer may be negated each other.例文帳に追加

露光ポイント１２２の位置は、露光ポイント１２２から一次転写ポイント１２８までの距離が感光体１０８の回転速度の変動周期の整数倍となり、露光、転写における変動が打ち消しあうように設定される。 - 特許庁

Thus, the image subject to synthesization is photographed at a dark place by strobe light emission, to easily enjoy the synthesization of the image by multiple exposure.例文帳に追加

暗い所でストロボ発光により合成対象画像を撮影することで、多重露光により簡単に画像合成が楽しめる。 - 特許庁

To set appropriate development parameters for an image synthesized with a plurality of images that are photographed using multiple exposure.例文帳に追加

多重露光撮影により得られた複数枚の画像を合成した画像に対して、適切な現像パラメータを設定できるようにする。 - 特許庁

To provide a multiphoton interference aligner capable of creating various exposure patterns using interference of multiple photons without requiring a reticle.例文帳に追加

様々な露光パターンを、レチクルを使用せず、多光子の干渉を使用して作り出すことが可能な多光子干渉露光装置を提供する。 - 特許庁

In an automatic multiple exposure mode, a picture captured by a CCD 1 is fed to a picture memory 4 via a YUV processor 3.例文帳に追加

自動多重露光モードではＣＣＤ１によって取り込まれた画像はＹＵＶプロセッサ３を通して画像メモリ４へと送られる。 - 特許庁

The system and the method utilize calibration data along multiple dimensions of parameter variations, in particular within an exposure-defocus process window space.例文帳に追加

システムおよび方法は、特に露光デフォーカスプロセスウィンドウ空間内で、パラメータ変動の複数の次元に沿ってキャリブレーションデータを使用する。 - 特許庁

To well perform multiple exposure even if the positions of the image planes of respective projection optical modules fluctuate in consequence of the thermal deformation of, for example, lenses.例文帳に追加

たとえばレンズの熱変形に起因して各投影光学モジュールの像面の位置が変動しても良好な重複露光を行う。 - 特許庁

To provide a digital camera by which framing of a composite image to be subjected to multiple exposure can be performed in advance without restarting nor retaking a photograph.例文帳に追加

やり直し、撮りなおしをせずに、予め、多重露光される合成画像のフレーミングを行うことができるデジタルカメラを提供する。 - 特許庁

METHOD, PROGRAM PRODUCT AND APPARATUS FOR PERFORMING MODEL BASED COLORING PROCESS FOR PATTERN DECOMPOSITION FOR USE IN MULTIPLE EXPOSURE PROCESS例文帳に追加

多重露光プロセスにおいて用いるパターン分解のためのモデルベースのカラーリングプロセスを実行するための方法、プログラム製品、及び装置 - 特許庁

These display devices 5 differ in the positioning direction by an integral multiple of 90 degrees, and patterning by exposure is carried out by turning the same photomask by an integral multiple of 90 degrees.例文帳に追加

これらの表示装置は基板上で９０度の整数倍だけ位置取りの方向が異なり、同一のフォトマスクを９０度の整数倍だけ回転させて露光することによりパターニングを行う。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus for adjusting the landing angle in higher accuracy so as to form multiple beams perpendicular to the front surface of a sample, and to provide a method for manufacturing a device that uses the exposure apparatus.例文帳に追加

マルチビームが試料面に対して垂直になるようにランディング角を高精度に調整することができる露光装置、及びその露光装置を用いたデバイス製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging device and an imaging method by which favorable image data can be obtained when exposure operation is performed more than once to perform multiple exposure imaging operation for creating a piece of image data.例文帳に追加

複数回露光動作を行い一つの画像データを作成する多重露光撮像動作を実行する際に、良好な画像データが得られる撮像装置及び撮像方法を提供すること。 - 特許庁

One of a normal mode wherein while a photographic range is divided into a plurality of areas, light is measured to calculate luminance values corresponding to the respective divided areas and normal photography is carried out according to the calculated luminance and a multiple-exposure mode wherein multiple-exposure photography is carried out, is selected.例文帳に追加

撮影範囲を複数の領域に分割して測光し、各分割領域に対応した輝度を算出し、算出された輝度に基づいて通常撮影を行わせる通常モードと複数回露光撮影を行わせる複数回露光モードのいずれかを選択する。 - 特許庁

Exposure with a shifted position of a pattern for exposure is introduced in multiple exposure to form a level of dose for the pattern without affecting the accuracy of the position and to enable to conduct pattern size control in accordance with dose and the extent of pattern shift.例文帳に追加

多重露光において露光パターンの位置をシフトさせた露光を導入することにより位置精度に影響を与えること無くパターンの照射量水準を生成させパターン寸法制御を照射量とパターンシフト量によって制御可能となる。 - 特許庁

The baseline is determined by initially exposing the monitor wafers using the lithographic apparatus to perform multiple exposure passes on each of the monitor wafers.例文帳に追加

ベースラインは、最初リソグラフィ装置を用いてモニタウェーハを露光してモニタウェーハの各々の上で複数の露光パスを実行することで決定される。 - 特許庁

Transfer regions 4C, 4D formed on a different flat surface positions of the same surface of the same masks 2 are multiple exposed by scanning exposure.例文帳に追加

同一マスク２の同一面の異なる平面位置に形成された転写領域４Ｃ，４Ｄをスキャンニング露光によって多重露光する。 - 特許庁

As a proper exposure time Tv [Ev], a time as the integer multiple of unit time tr (sec) shorter than the scanning time tr0 can be set.例文帳に追加

適正露光時間Ｔｖ〔Ev〕として走査時間ｔroよりも短い単位時間ｔr（秒）を整数倍してなる時間が設定可能になっている。 - 特許庁

To simplify constitution of a circuit and to speed up control of light emission in a multiple exposure type image forming apparatus capable of outputting gradation.例文帳に追加

階調出力が可能な多重露光方式の画像形成装置において、回路構成の簡素化と発光制御の高速化を図ること。 - 特許庁

Since pit width or groove width is made narrow when a shallow rugged pattern is recorded, multiple exposure with a wobble signal is performed.例文帳に追加

浅い凹凸パターンを記録する場合は一般的にピット幅またはグルーブ幅が狭くなってしまうため、ウォブル信号との多重露光を行う。 - 特許庁

To provide a photomask by which throughput of a multiple exposure process can be improved, administrative cost can be reduced and area can be utilized effectively.例文帳に追加

多重露光工程のスループットを向上させ、管理コストを削減させ、かつ、面積を有効利用することができるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide an exposure system of multiple-charged particle beam, which readily and accurately corrects electronic-optical characteristics of individual columns constituting an electronic-optical system.例文帳に追加

電子光学系を構成する各カラムの電子光学特性を容易に精度良く補正できるマルチ荷電粒子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

When a plurality of images are superposed on one another for multiple exposure imaging, a signal of an image already captured is stored in a memory 12.例文帳に追加

多重露光撮影のために、複数枚の画像が重ねられる場合、メモリ１２には、既に撮像されている画像の信号が記憶される。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING AND METHOD OF INSPECTING BASE MATERIAL FOR PRINTED WIRING BOARD HAVING MULTIPLE DEVELOPMENT PATTERNS FORMED, METHOD OF MANUFACTURING AND METHOD OF INSPECTING MULTIPLE-PATTERNED PRINTED WIRING BOARD, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

多面付け現像パターン形成済プリント配線板用基材の製造方法および検査方法、多面付けプリント配線板の製造方法および検査方法、半導体装置の製造方法、ならびに露光マスク - 特許庁

Since exposure which does not affect the finally obtained accuracy of the pattern position is enabled by adjusting the center of gravity in multiple exposure to zero by positive and negative mixed shifts, a mask is efficiently and accurately produced.例文帳に追加

また正負混合のシフト量で多重露光時の重心を０にすることで最終的に得られるパターン位置精度に影響を与えない露光が可能であるため効率的で高精度なマスク作製が可能である。 - 特許庁