「Multiple Exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a mask for manufacturing a semiconductor device, and its manufacturing method and exposing method which improve exposure characteristics by performing multiple exposure under the best lighting conditions for a rough pattern and a fine pattern when exposure to a pattern having both the rough pattern and fine pattern is carried out.例文帳に追加

疎のパターンと密のパターンが混在するパターンを露光する場合に、疎のパターン及び密のパターンそれぞれに最適な照明条件で多重露光することにより露光特性を向上させた半導体装置製造用マスク、その製造方法及び露光方法を提供する。 - 特許庁

The secondary part of the insulator is arranged on the primary surface of the patterned metallic layer 202 and multiple windows are formed to prevent the exposure of metal used for external connection.例文帳に追加

パターン化金属層２０２の第１面に絶縁材の第２部分を設け、外部接続用の金属を露出させるための複数の窓を形成する。 - 特許庁

A method for conducting multiple-exposures comprises the steps of mounting a first mask 33 having openings 33A, 33B, and so on, arranged at a pitch of a distance 2x on a photoresist layer 38, and subjecting to primary exposure.例文帳に追加

距離２ｘのピッチで配列した開口３３Ａ、３３Ｂ…を有する第一マスク３３をフォトレジスト層３８に載置して一次露光を行う。 - 特許庁

In multiple element main bodies 10 formed on a substrate 11, exposure areas 102 are installed with a separation position 101 when they are divided into bar shapes as a center.例文帳に追加

基板１１の上に形成した多数の素子本体１０において、バー状に分割する際の分離位置１０１を中心に露出領域１０２を設ける。 - 特許庁

The overlapping position can be corrected independently for each of the sub-layouts, so that the accuracy of the overlapping position of each of the layouts in the multiple exposure is improved.例文帳に追加

各サブレイアウト別に重ね合わせ位置を独立的に補正できるので、多重露光における各レイアウトの重ね合わせ位置の正確度が向上する。 - 特許庁

When a required dot pitch in the subscanning direction is r and a pitch of scanning lines is R, multiple exposure frequency N is made to be N=(R/r)×m.例文帳に追加

副走査方向の必要なドットピッチがｒであるとき、走査線のピッチがＲであれば、多重露光回数Ｎを、Ｎ＝（Ｒ／ｒ）×ｍとする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask, which improves the dimensional accuracy on a wafer while avoiding occurrence of faults after multiple exposure.例文帳に追加

多重露光後の欠陥発生を回避しつつウェハ上での寸法精度を改善できるフォトマスクの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of easily and stably achieving high image quality, even in an inner-surface exposure multiple-developing system where changes in the optical distance tends to occur.例文帳に追加

光学距離の変化が発生しやすい内面露光の多重現像方式でも、容易に高画質を安定的に達成できる画像形成装置とする。 - 特許庁

Accordingly, exposure control of multiple variables (exposing time, gain value and numeric value F) can be easily attained to realize high-speed convergence of the optimal automatic exposing index.例文帳に追加

したがって、多変数（露出時間、利得値およびＦ数値）露出制御を容易に達成でき、最適自動露出指数の高速収束が実現される。 - 特許庁

To enable a general user to easily actualize image effects similar to image effects of long-time exposure, leading-curtain synchronization, trailing-curtain synchronization, multiple light emission, etc.例文帳に追加

一般ユーザが、長時間露光／先幕シンクロ／後幕シンクロ／マルチ発光などの画像効果と同様の画像効果を容易に実現できるようにする。 - 特許庁

To eliminate image breaking in digital image processing of electronic zoom or the like, when the image is digitally added to realize multiple exposure photographing by each photographing.例文帳に追加

撮影ごとに画像をデジタル加算処理して多重露光撮影を実現する際に、電子ズーム等のデジタル画像処理において画像破綻しないようにする。 - 特許庁

To expose a specific region with high dimension precision, and to expose the other region with high position precision in accordance with the combination of a single shot and multiple exposure.例文帳に追加

単一ショットと多重露光との組み合わせにより、特定領域を高い寸法精度で露光し、他の領域を高い位置精度で露光する。 - 特許庁

At least one of the dotted pattern parts 30 formed on a plurality of colored layers 20 is equipped with the multiple exposure part 34 exposed several times.例文帳に追加

複数の着色層２０に形成された点状パターン部３０の少なくとも１つは、複数回露光された多重露光部３４を備えている。 - 特許庁

To provide an electron beam measuring technique for inspecting the shape, dimensions, presence of an defect, and the like in regard to a pattern formed on a sample through a multiple exposure method.例文帳に追加

多重露光法により試料上に形成されたパターンの形状、寸法、または欠陥の有無等の検査を行う電子ビーム測定技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method of setting the number of formed patterns to a number other than a multiple of 4 although the method is to form a pattern having a pitch 1/4 time as large as the pitch of an exposure pattern.例文帳に追加

露光パターンのピッチの１／４のピッチのパターンを形成する方法でありながら、形成されたパターンの本数を４の倍数以外の数にする。 - 特許庁

In the multiple exposure method for at least one substrate covered with a photosensitive layer, first exposure is performed in a first projection system (17) according to an exposure parameter of a first group, and second exposure is performed in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17).例文帳に追加

感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法において、第１の露光は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の投影系（１７）において行なわれ、第２の露光は、第２組の露光パラメータを用いて、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離される第２の投影系（１８）において行なわれる。 - 特許庁

To provide an excellent optical information recording method, an optical information recording apparatus and an optical information recording medium in which no excessive exposure fixing occurs but necessary and sufficient fixing can be obtained by irradiation at a fixing exposure level corresponding to the recording exposure level in shift multiple recording, and no deterioration in sensitivity of a non-recorded region by fixing exposure is caused.例文帳に追加

シフト多重記録における記録露光量に対応した定着露光量の照射により、過剰に定着露光することなく、必要かつ十分な定着が得られ、該定着露光による未記録部分の感度劣化が起きない優れた光情報記録方法、光情報記録装置及び光情報記録媒体の提供。 - 特許庁

An image processing circuit 6 sets a digital gain of each image imaged by an imaging element 2 in the multiple exposure mode depending on the number of frames imaged in the multiple exposure mode and composes the images by reducing the gain of each image on the basis of the set digital gain and thereafter summating pixel data at the same positions of each image.例文帳に追加

画像処理回路６は、撮像素子２によって多重露出により撮像された各画像のデジタルゲインを多重露出によって撮像されたコマ数に応じて設定し、設定されたデジタルゲインに基づいて各画像をゲインダウンしてから画像上の同一位置の画素データを加算することによって合成する。 - 特許庁

An image processing circuit 6 sets a digital gain of each image imaged by an imaging element 2 by multiple exposure depending on the number of frames imaged by the multiple exposure and composes the images by summating pixel data at the same positions on the images after reduction of the gain of the images on the basis of the set digital gain.例文帳に追加

画像処理回路６は、撮像素子２によって多重露出により撮像された各画像のデジタルゲインを多重露出によって撮像されたコマ数に応じて設定し、設定されたデジタルゲインに基づいて各画像をゲインダウンしてから画像上の同一位置の画素データを加算することによって合成する。 - 特許庁

The beam which performs the multiple exposure on a same pixel on a photoreceptor drum 102 is composed of the beams emitted from the same semiconductor laser array light sources 301 and 302 and the total light quantity of the combination of the beams which perform the multiple exposure is detected with a single sensor included in the respective semiconductor laser array light sources 301 and 302.例文帳に追加

感光体ドラム１０２上の同一画素を多重露光するビームを同一の半導体レーザアレイ光源３０１，３０２から放射されるビームにて組み合わせ、かつ、多重露光するビームの組の総和光量を各半導体レーザアレイ光源３０１，３０２に内蔵した単一のセンサにて検出する。 - 特許庁

When a multiple exposure mode is set by the operation of a control switch 24, a main CPU 22 inhibits changes in the magnification of the electronic zoom, white balance, number of pixels, compression rate, gradation characteristics and sharpness, and fixes the magnification of the electronic zooming or the like to a plurality of images to be picked up in the multiple exposure mode under the same conditions.例文帳に追加

操作スイッチ２４の操作により多重露光モードが設定されると、メインＣＰＵ２２は、電子ズーム倍率、ホワイトバランス、画素数、圧縮率、階調特性及びシャープネスの変更を禁止し、多重露光モードで撮影する複数枚の画像に対し、電子ズーム倍率等を同条件に固定する。 - 特許庁

To adequately form prescribed patterns by multiple exposure in accordance with pattern data even if the pixel sizes of the pattern data are any sizes by using exposure units having a multiplicity of modulating elements arrayed in a matrix form.例文帳に追加

マトリクス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて、パターンデータの画素サイズがどのような大きさのものであってもそのパターンデータに基づいて所定のパターンを適正に多重露光により描画する。 - 特許庁

To provide a method of accurately and swiftly measuring a resistance of a conductive sheet having on the surface thereof a conductive layer exposure region which includes multiple island-shaped exposure portions where the conductive layer is exposed in an island shape.例文帳に追加

表面にそれぞれ島状に導電層が露出した多数の島状露出部からなる導電層露出領域を有する導電性シートの抵抗測定を精確且つ迅速に行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

To appropriately plot a prescribed pattern by multiple exposure on the basis of pattern data regardless of a pixel size of the pattern data by using an exposure unit provided with many modulation elements arranged in a matrix shape.例文帳に追加

マトリックス状に配置された多数の変調素子を持つ露光ユニットを用いて、パターンデータの画素サイズがどのような大きさのものであってもそのパターンデータに基づいて所定のパターンを適正に多重露光により描画する。 - 特許庁

A circuit pattern is drawn partially in beltlike regions Ra_01, Ra_02, Ra_03,... with multiple exposure light beams of the respective exposure units and the beltlike regions Ra_01, Ra_02, Ra_03,... are connected partially overlying one another in the Y direction to obtain the whole circuit pattern.例文帳に追加

各露光ユニットの多重露光により回路パターンを部分的に帯状領域Ｒａ_01、Ｒａ_02、Ｒａ_03・・・に描画し、帯状領域Ｒａ_01、Ｒａ_02、Ｒａ_03・・・をＹ方向に一部重ね合わせて繋ぐことにより回路パターン全体を得る。 - 特許庁

This system enables any licensee to know the history of exposure dose record of radiation workers if they work in multiple nuclear installations, and helps the licensees to implement appropriate exposure control.例文帳に追加

これにより、放射線業務従事者が複数の原子炉施設で作業を行う場合に、どの原子炉設置者でもその放射線業務従事者の被ばく前歴を知ることができることから、適切な被ばく管理を行うことが可能となる。 - 経済産業省

When the pitch R of the scanning line is 10μm and the dot pitch r in the subscanning direction is 5μm, N=(R/r)×m=(10/5)×100=50 and multiple exposure will be carried out 50 times.例文帳に追加

走査線のピッチＲが１０μｍ、副走査方向のドットピッチｒを５μｍとすると、（１０／５）×１００＝５０となり、５０回多重露光することになる。 - 特許庁

First, in the long-term exposure, multiple pieces of division bright image data is obtained by bright photographing in a time divison manner, and an addition average of the division bright image data is calculated.例文帳に追加

長時間露光において、まず時分割で明時撮影を行って複数の分割明時画像データを取得し、該分割明時画像データの加算平均を演算する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that exchanges multiple original plates to expose the patterns of the original plates on a substrate, improves the accuracy of alignment between the original plates and the substrate, and improves a throughput.例文帳に追加

複数の原版を交換して原版のパターンを基板に露光し、原版と基板との位置合わせ精度を向上し、スループットを向上する露光装置を提供する。 - 特許庁

In order to assure stability in an atmosphere of photosensitive insulating film and also to suppress multiple interference in exposure, an antireflection/ protective film 405 is used as a top coating material.例文帳に追加

感光性絶縁膜の大気安定性を確保するためと、露光における多重干渉を抑制するため、トップコート材として、反射防止兼保護膜４０５を使用する。 - 特許庁

The composition suitable for use in a multiple exposure lithographic process includes: a matrix polymer; a crosslinker; a tri- or higher order-functional primary amine; and a solvent.例文帳に追加

マトリックスポリマー、架橋剤、トリ−もしくはより高次の官能性の第一級アミン、および溶媒を含む、多重露光リソグラフィープロセスに使用するのに好適な組成物。 - 特許庁

To improve the rounding of gradation by enhancing the contrast of an exposure image without modulating the strength of laser beam in multiple stages without making the beam diameter small and without generating ripples.例文帳に追加

レーザ光の強度を多段階に変調することなく、ビーム径を小さくせず、リップルを発生させないようにして、露光像のコントラストを高くし、階調のなまりを改善する。 - 特許庁

An anti reflection and protection film 405 is used as a topcoat for ensuring the stability of the photoactive insulation film in air, and for suppressing multiple interferences in exposure.例文帳に追加

感光性絶縁膜の大気安定性を確保するためと、露光における多重干渉を抑制するため、トップコート材として、反射防止兼保護膜４０５を使用する。 - 特許庁

Due to the multiple exposure, the light intensity of the respective patterns is the same even if the phase absolute value in the mask varies, thereby improving the dimensional accuracy of the transferred pattern.例文帳に追加

多重露光により、マスクにおける位相の絶対値が変動しても、それぞれのパターンの光強度は同一となり、転写されたパターン寸法精度が向上する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which can perform a multiple exposure with a plurality of light beams related to pulse width modulation without deteriorating the image quality of a line image and a character image.例文帳に追加

ライン画像や文字画像の画質の低下を招くことなく、パルス幅変調に係る複数の光ビームで多重露光を行える画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a laser scanning optical apparatus capable of controlling light quantity with a simple structure and in a short period of time, when performing multiple exposure by combining a plurality of light sources.例文帳に追加

複数の発光源を組み合わせて多重露光する場合に、簡単な構成でかつ短時間で光量制御を行うことのできるレーザ走査光学装置を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask, by which dimensional accuracy on a final pattern after multiple exposure processes can be improved, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

多重露光後の最終パターン上での寸法精度を改善することが可能なフォトマスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multiple lamp exposure device capable of irradiating a large area with high-luminance light by using many lamps, as an exposure device irradiating a panel coated with photosensitive material with the light so as to form a fixed pattern on the panel.例文帳に追加

感光材料が塗布されたパネルに光を照射してこのパネルに一定のパターンが形成されるようにする露光装置において、多数のランプを使用して大面積に高輝度の光を照射できる多重ランプ露光装置を提供する。 - 特許庁

Because a board holder storing multiple above-mentioned boards is placed in a decompressed atmosphere so that the target board can be selected from the board holder for exposure, wafer temperature can be stabilized and set with high precision during exposure.例文帳に追加

前記基板を複数枚格納する基板ホルダを減圧雰囲気中に備え、前記基板ホルダから処理する基板を選択して露光するため、ウエハの温度の安定化が図られ、露光時におけるウエハの温度を高精度に設定することができる。 - 特許庁

To provide an X-ray mask which can be manufactured by relatively simple facilities, is not strained against heat generation in exposure to hardly have its X-ray absortpion pattern broken, and optical transparent to facilitate multiple exposure.例文帳に追加

比較的簡単な設備で作製でき、露光時の発熱によっても歪むことがなく、Ｘ線吸収体パターンが破壊され難く、光学的に透明で多重露光を容易に行なうことができるＸ線マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

By adding (m) (m=1 to n) of continuous unit images 21, an image 22 for composition with which the exposure time is an (m) multiple of the unit exposure time (t) and an image pickup period becomes a total of image pickup periods of the added unit images 21 is obtained.例文帳に追加

連続する単位画像２１のｍ枚（ｍ＝１〜ｎ）を加算することによって、露光時間が単位露光時間ｔのｍ倍で、撮像期間が、加算した単位画像２１の撮像期間の合計となる合成用画像２２が得られる。 - 特許庁

If an angle between a first exposure position d and a second exposure position e, which are on the photoreceptor drum, is α, the number of the teeth of the drum gear 31 corresponding to the angle α is 40, an integral multiple (four times) of the ten teeth of the motor gear 32.例文帳に追加

感光体ドラム上の２つの露光位置である第１露光位置ｄと第２露光位置ｅ間の角度をαとするとき、その角度αに対応するドラムギヤ３１の歯数は、モータギヤ３２の歯数１０の整数倍（４倍）である４０とする。 - 特許庁

When a plurality of laser beams are selected and multiple exposure is carried out many times while shifting one unit pattern so that mutual scanning positions of the laser beams are made different from each other, multiple exposure is carried out at least twice with mutually different laser beams among the selected laser beams while shifting one unit pattern so that the positions are made different from each other only in the scanning direction.例文帳に追加

レーザービームを複数選択しその相互の走査位置がずれるように多数回一単位パターンの位置をずらして重ねて露光するうち、複数選択したうち相異なるレーザービームをそれぞれ少なくとも二回、相互に走査方向のみ位置がずれるように一単位パターンの位置をずらして重ねて露光することを特徴とする。 - 特許庁

To simultaneously realize exposure processing for the width of a film carrier tape for mounting multithread electronic parts even on the carrier pattern of the same width or the carrier pattern of different width in accordance with the product wiring patterns of the multiple carrier patterns without exchanging an exposure device.例文帳に追加

露光装置を取り替えることなく、複数のキャリアパターンの製品配線パターンの種類に応じて、同じ幅のキャリアパターンであっても、異なる幅のキャリアパターンであっても、同時に多条電子部品実装用フィルムキャリアテープの幅にわたって露光処理を可能とする。 - 特許庁

The method comprises: producing a master hologram recording medium AM by actual imaging using one optical interference exposure means 10; producing a hologram recording medium DM by a digital process using the other optical interference exposure means 20; duplicating the first master hologram recording medium AM; replacing the master hologram recording medium DM in the other exposure means by the duplicated hologram recording medium AM to carry out multiple exposure.例文帳に追加

一の光干渉型露光手段１０として実写によりマスタホログラム記録媒体ＡＭを作製し、他の光干渉型露光手段２０としてデジタルを介したホログラム記録媒体ＤＭを作製して、一方のマスタホログラム記録媒体ＡＭについて複製を作製するとともに、複製済みのホログラム記録媒体ＡＭを他の露光手段におけるマスタホログラム記録媒体ＤＭと置き換えて、多重露光を行う。 - 特許庁