「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(30ページ目) - Weblio英語例文検索

A resist pattern formation method forms a resist pattern 2, forms a protection film 3 for protecting the resist from ozone ashing on the resist pattern, irradiates the resist pattern with electron beam 4 via the protection film in an atmosphere in which oxygen exists like in the air, and then forms the resist pattern where dry etching resistance is improved by removing the protection film.例文帳に追加

レジストパターン２を形成した後に、前記レジストパターンの上に、オゾンアッシングからレジストを保護する保護膜３を形成し、次に、大気中のように、酸素が存在する雰囲気中において、前記保護膜を介して前記レジストパターンに電子線４を照射し、その後、前記保護膜を除去してドライエッチング耐性が向上した前記レジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition which improves pattern rectangularity in addition to LWR for a line-and-space pattern, as well as circularity for a contact hole pattern and circularity holding capability for a narrow pitch pattern, suitable for liquid immersion process for a line width of 45 nm or less; and a pattern formation method using the same.例文帳に追加

本発明の目的はラインアンドスペースパターンでのＬＷＲに加え、パターン矩形性を改良し、またコンタクトホールパターンでの円形性や狭ピッチでの真円性保持能力が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合した感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

This pattern formation method further includes: a step of applying the inverted resin material onto the substrate after irradiating the upper part of the first pattern with the ultraviolet light; a step of removing the first pattern after applying the inverted resin material and forming a second pattern including the inverted resin material; and a step of processing the substrate using the second pattern as a mask.例文帳に追加

さらに、このパターン形成方法は、紫外線の照射後に、前記基板上に前記反転樹脂材料を塗布する工程と、前記反転樹脂材料の塗布後に前記第１パターンを除去し、前記反転樹脂材料を含む第２パターンを形成する工程と、前記第２パターンをマスクとして、前記基板を加工する工程と、を備える。 - 特許庁

A potential control unit controls the driver IC as to provide a positive potential to electrode pieces 13 corresponding to a formation patter, and to provide the ground potential to the other electrode pieces 13 laying outside of the formation pattern, in a state that a conductive liquid 3 is arranged above the insulating layer of the pattern forming base 10.例文帳に追加

そして、電位制御部が、パターン形成基材１０の絶縁層上に導電性液体３が配置された状態で、形成パターンに対応する電極片１３の電位を正電位とし、形成パターンから外れた電極片１３の電位をグランド電位とするようにドライバＩＣを制御する。 - 特許庁

Then an electrode film 10 is plated on the surface of the dielectric block in an electrode film formation process, and in a facing process, a projected part other than the electrode pattern formation programming area is removed by removing the prescribed thickness from the surface of the dielectric block to pattern the electrode film 10.例文帳に追加

その後、電極膜形成工程で誘電体ブロック表面に電極膜１０をメッキし、面出し工程で誘電体ブロック表面の所定厚み分の除去によって電極パターン形成予定領域以外の突出部を除去して電極膜１０をパターンニングする。 - 特許庁

In the method for manufacturing a solar cell 100, a metal mask M3 has two openings H3 corresponding to a formation pattern of two island-shaped n-type amorphous semiconductor layers 12n_1, and an opening H4 corresponding to a formation pattern of a p-type amorphous semiconductor layer 12p.例文帳に追加

本実施形態に係る太陽電池１００の製造方法において、メタルマスクＭ３は、２本の島状ｎ型非晶質半導体層１２ｎ_１の形成パターンに応じた２つの開口部Ｈ３と、ｐ型非晶質半導体層１２ｐの形成パターンに応じた開口部Ｈ４とを有する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having appropriate properties to be used for a circuit formation substrate, from which a good pattern with excellent sensitivity and resolution can be formed even when the composition contains a polymer having a rigid structure, and to provide a pattern formation method and electronic parts using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

剛直な構造を有するポリマーを含んでも感度、解像度に優れた良好なパターンを形成でき、回路形成用基板用途として適切な諸特性を有する感光性樹脂組成物、この感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

The photo mask device 20 has a pattern formation mask 21 with a translucent pattern formation area where translucent patterns 26 are placed in grids, and a lighting area partitioning mask 22 with a lighting area 27 formed at the center and a light shielding part 28 surrounding the lighting area 27.例文帳に追加

フォトマスク装置２０は、マトリックス状に透光パターン２６が配置された透光パターン形成領域を有するパターン形成用マスク２１と、中央に形成された採光領域２７と採光領域２７を囲む光遮断部２８とを有する採光領域区画用マスク２２とを備える。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device such that when two coating patterns crossing each other are formed, at least one of the coating patterns is a thick film (with a high aspect ratio) and unevenness of a surface of a crossing part thereof is suppressed.例文帳に追加

互いに交差する２つの塗布パターンを形成する際に、少なくとも一方の塗布パターンを厚膜（高アスペクト比）に形成することができるとともに、その交差部における表面が凸凹になることを抑制することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer paper on which a pattern formation layer having excellent use efficiency of a conductive material can be efficiently formed and which can have the pattern formation layer and an overcoat layer transferred to a flexible film substrate, to provide a manufacturing method of the transfer paper, and to provide a manufacturing method of a functional thin film using the transfer paper.例文帳に追加

導電性材料の利用効率が良好なパターン形成層を効率よく形成でき、該パターン形成層とオーバーコート層をフレキシブルフィルム基板に転写可能な転写用紙及び該転写用紙の製造方法、並びに該転写用紙を用いた機能性薄膜の製造方法の提供。 - 特許庁

In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.例文帳に追加

レーザ加工工程で誘電体ブロック１の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁

To provide a formation method of resist pattern which suppresses the decrease of concentrations of an acid generator or an acid generated from the acid generator in a resist film and is capable of forming a resist pattern having a rectangular shape, and to provide a manufacture method of a semiconductor device using the formation method.例文帳に追加

レジスト膜中での酸発生剤や酸発生剤から生じた酸の濃度が小さくなることを抑制し、矩形形状を有するレジストパターンを形成することのできるレジストパターン形成方法およびこれを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the formation of a so-called island in a TFT manufacturing process of a liquid crystal display apparatus, both of a resist pattern 62 based on exposure and a resist pattern 71 based on ink jet application are used for half-tone exposure.例文帳に追加

液晶表示装置のＴＦＴ製造工程における、所謂アイランド形成時に、ハーフトーン露光として、露光によるレジストパターン６２とインクジェット塗布によるレジストパターン７１とを併用する。 - 特許庁

To provide an Unryu Japanese paper having adjustable Unryu pattern size and enabling to suppress the formation of an undesirable large block pattern and provide a method for producing the paper.例文帳に追加

雲竜紙の模様の大きさが調節可能で、模様として好ましくない、大きな塊状の模様の発生の抑制が可能な雲竜紙及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The pattern generating circuit 119 generates the pattern data recorded in the respective regions according to the formation of a magneto-optical recording medium in accordance with the timing signals from a counter value comparing circuit groups 1153.例文帳に追加

パターン発生回路１１９は、カウンタ値比較回路群１１５３からのタイミング信号に基づいて、光磁気記録媒体のフォーマットに従って各領域に記録すべきパターンデータを発生する。 - 特許庁

Furthermore, photosensitive conductive paste is applied to the surface of the insulating layer 23 like a film, then exposed to light through a photomask and is developed for the formation of an upper conductor pattern layer 1b on the lower conductor pattern layer 1a.例文帳に追加

さらに、感光性導電ペーストを膜状に付与した後、再びフォトマスクを使用して露光及び現像して下部導体パターン層１ａの上に上部導体パターン層１ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has excellent resolution and with which pattern rectangularity is not deteriorated even in a subsequent step of post baking in pattern formation with low exposure (in particular, less than 200 mJ/cm^2).例文帳に追加

低い露光量（特に２００ｍＪ／ｃｍ^２未満）でパターン形成された際も、解像性に優れ、かつ後工程のポストベークでもパターン矩形性が劣化しない感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board and its manufacturing method by which the interlayer continuity of a conductor pattern can be given by a simple method and a uniform thickness be realized without controlling plating thickness for pattern formation.例文帳に追加

導体パターンの層間導通性を簡易な方法により付与することができ，かつパターン形成用のメッキ厚みの制御が不要で均一な厚みのプリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The shape of the mirror surface is deformed into a desired shape capable of correcting a spherical aberration by means of the formation pattern of the strength distribution pattern 2a on the flexible member 2.例文帳に追加

このとき、上記可撓性部材２の強度分布パターン２ａの形成パターンによってミラー面の形状を球面収差を補正することのできる所望の形状に変形させることができる。 - 特許庁

Meanwhile, the CPU forms the tracking pattern image and an image, corresponding to the image data (SB6), when is determined that the indication for releasing the formation of the tracking pattern image is not to be detected (SB4: NO).例文帳に追加

一方、ＣＰＵは、追跡用パターン画像の形成を解除する指示を検出しないと判定すると（ＳＢ４；ＮＯ）、追跡用パターン画像と、画像データに応じた画像とを形成させる（ＳＢ６）。 - 特許庁

To obtain a process for producing a multilayer printed wiring board for use in various electronic apparatus, communication apparatus, and the like, wherein a wiring pattern exhibits excellent adhesion to a substrate and suitable for formation of fine pattern.例文帳に追加

各種電子機器、通信機器等に用いられる多層プリント配線板の製造方法に関するものであり、配線パターンが基材との密着性に優れ、ファインパターン形成に適したものである。 - 特許庁

To attain the function improvement and cost reduction of electrical conductive powder and electrical conductive ink, as material for the formation of electronic and electrical circuit pattern and electrical conductive pattern for semiconductor including solar cell.例文帳に追加

電子・電気回路パターンや太陽電池をはじめとする半導体用導電パターンの形成材料である導電性粉体及び導電インクの機能向上とコストダウンを実現すること。 - 特許庁

To attain the efficient and further accurate formation of a fine magnetizing pattern, in the technology to form the magnetizing pattern on a magnetic disk by combining the local heating and the application of external magnetic field.例文帳に追加

局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気ディスクに磁化パターンを形成する技術において、微細な磁化パターンを効率よく更に精度よく形成することができるようにする。 - 特許庁

In the opening formation step, an opening which exposes the pattern 111 for measuring shift in position and a second pattern 102 are formed in a second layer 103, which is stacked so as to be higher than the first layer.例文帳に追加

開口部形成工程では、前記第１層よりも上層に積層した第２層１０３に前記位置ズレ計測用のパターン１１１を露出させる開口部と第２パターン１０２とを形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition excellent in a pattern profile, reproducibility of a beam form and resolution relating to pattern formation by irradiation of active rays or radiation, particularly electron beams, X-rays or EUV light.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光の照射によるパターン形成に関して、パターンプロファイル、ビーム形状再現性、解像力に優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the wiring layer formation area 63, a wiring pattern 64 for sampling signal input, a wiring pattern 65 for image signal sampling and an image signal line 66 are utilized to configure a cell gap control area.例文帳に追加

この配線層形成領域６３では、サンプリング信号入力用配線パターン６４、画像信号サンプリング用配線パターン６５、画像信号線６６を利用してセルギャップ制御領域を構成する。 - 特許庁

According to this structure, partial shrinkage of a pattern which is caused by the electron beam emitted for measurement or inspection can be suppressed to improve the overall accuracy of pattern formation in the semiconductor wafer.例文帳に追加

当該構成によれば、測定や検査のために行われる電子ビームによって生ずる部分的なパターンのシュリンクを抑制し、半導体ウェーハ全体でパターンの形成精度を向上することが可能となる。 - 特許庁

When a display electrode 4 is formed on a front side substrate 1, a dimension control pattern 21 is formed and, by the variation of the pattern, formation status of the components at each process is grasped.例文帳に追加

前面側基板１上に表示電極４形成時に寸法管理パターン２１を形成し、そのパターンの変化により各工程における構成要素の形成状況を把握するものである。 - 特許庁

(1) In the formation of the resist pattern by using the direct resist plotting method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays simultaneously with or immediately after the ink adheres to a substrate.例文帳に追加

（１）レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、基板に付着すると同時または直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁

Further, ink 13 is dripped in the pattern formation region 9 from an ink jet head 12 to form a pattern 14 comprising the ink 13 and the aggregate (wetting spread suppression part 11) of the metal particulates 10 (c).例文帳に追加

次いで、インクジェットヘッド１２からパターン形成領域９内にインク１３を滴下させ、インク１３及び金属微粒子１０の集合体（濡れ拡がり抑制部１１）からなるパターン１４を形成する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern groove, the method facilitating groove formation even for a narrow pattern groove having a groove width of ≤80 μm, and also to provide a method for manufacturing a glass waveguide type optical circuit using the same.例文帳に追加

溝幅が80μｍ以下の狭いパターン溝であっても容易に溝形成が可能なパターン溝の形成方法及びそれを用いたガラス導波路型光回路の製造方法を提供するものである。 - 特許庁

A face detection pattern formation part 5 determines a face detection pattern to be used for next detection from a group of face detection patterns preliminarily prepared by face direction using face direction information.例文帳に追加

顔検出パターン作成部５は、顔向き情報を用いて、顔の方向別にあらかじめ用意してある顔検出パターンの集合の中から、次に検出を行う顔の検出パターンを決定する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of plotting a photosensitive material for an ultraviolet ray in a pattern with high throughput by a mask-less direct plotting exposure device having an irradiating light source being an h-line in a main wavelength.例文帳に追加

主波長がｈ線である照射光源を持つマスクレス直接描画露光装置で紫外線用の感光性材料を高スループットにパターン描画可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A part except for a division comprising heater pattern out of SOI layers in the SOI substrate used for formation of a thermal type flow sensor S1 is selectively oxidized to form silicon oxide film 13 around the heater pattern.例文帳に追加

熱式流量センサＳ１を形成するために用いるＳＯＩ基板のＳＯＩ層のうちヒータパターンとなる部分以外を選択酸化し、ヒータパターンの周囲にシリコン酸化膜１３を形成する。 - 特許庁

A light quantity control part reduces the light quantity of a beam at least during formation of the security pattern in the case that it is determined that the security pattern cannot be formed so as to be readable by the reader.例文帳に追加

光量制御部は、セキュリティパターンを読み取り装置により読取可能に形成できないと判定されると、少なくともセキュリティパターンを形成する際のビームの光量を低下させる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of easily and exactly forming a pattern on a substrate by comparting and forming recessed parts in a matrix shape on the substrate, arranging liquid droplets into the recessed parts properly selected and spreading the liquid droplets therein.例文帳に追加

基板にマトリクス状に凹部を区画形成し、液滴を適切に選択した凹部に配置して広げることにより、基板に容易に正確なパターンを形成する、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a recording method of pattern formation to a printed circuit board for electric circuit which allows electric impedance to be constant upon the use of high frequency signal, causes no stripping of pattern and, moreover, does not require exposure time so much.例文帳に追加

高周波信号使用時に電気的インピーダンスが一定になる、パターン剥がれのない、しかも露光時間をそれほど要しない、電気回路用プリント基板へのパターン形成の記録方法を提供する。 - 特許庁

To form an ink pattern highly accurately at a specified spot of a base material at the formation of an image pattern made of ink on the base material by a highly definite reversing printing method.例文帳に追加

本発明は、解像度の高い反転印刷法用いて基材上へインキからなる画像パターンを形成するにあたり、基材の特定の箇所へ精度良くインキパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition used in production of semiconductor devices, etc., giving a fine pattern of a good profile even on a special substrate, excellent in storage stability, and capable of pattern formation with high sensitivity.例文帳に追加

半導体素子等の製造に於て用いられる、特殊基板上でも形状の良好な微細パターンが得られ、保存安定性に優れ、且つ高感度でパターン形成可能なレジスト組成物の提供。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has hydrophobicity suitable for the formation of a fine resist pattern and ensures excellent solubility of its exposed part in an alkali developer in development, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

微細なレジストパターンの形成等に好適な疎水性を有し、現像処理時には、露光部がアルカリ現像液に対する溶解性に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The use of a semiconductor microfabrication technology for manufacturing enables a low-cost resonator to be manufactured, and the formation of a resonator by the use of an arbitrary pattern reduces the number of external optical parts for forming a laser beam pattern.例文帳に追加

半導体微細加工技術を利用して製造するため、廉価であり、共振器部が任意パターンで形成されているためレーザ光パターン形成のための外部光学部品が少なくてすむ。 - 特許庁

This method for forming a polymer pattern comprises selectively irradiating the pattern formation-predetermined regions 57 of a substrate 51 containing a radical-polymerizable monomer 53 and a free radical-generating agent 53 with light.例文帳に追加

ラジカル重合性モノマー５３およびラジカル発生剤５５を含む基材５１の、高分子パターン形成予定領域５７に光を選択的に照射することにより、この領域５７にラジカルを発生させる。 - 特許庁

To provide a method for forming conductive pattern without deterioration in shape accuracy of printing patterns with initial formation of printing when selectively forming conductive patterns on the printing pattern.例文帳に追加

印刷パターン上に選択的に導電性パターンを成膜する際、初期の印刷形成による印刷パターンの形状精度を損なうことなく導電性パターンを形成可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for improving uniformity in adherence and ensuring formation of a pattern with less defects without generating an acid at the adherence portion of fine particles, and to provide a device production process.例文帳に追加

微粒子の付着部分に酸を発生させることがなく、付着の均一性を向上させ、低欠陥なパターンを形成することが可能となるパターン形成方法、デバイス作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by using proximity exposure which enables formation of high-density exposure pattern arranged two-dimensionally by proximity exposure using non-resonant light.例文帳に追加

非共鳴光を用いた近接場露光によって、２次元的に配列された高密度な露光パターンを形成することが可能となる近接場露光によるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁