「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

When a recessed part formation area for shifter part formation is patterned, photoresist is applied on one surface of a substrate directly or via a metal film, the recessed part formation area of the photoresist is selectively exposed by a photorepeater, and further development processing is carried out to form a resist pattern having the recessed part formation area opened.例文帳に追加

シフター部形成用の掘り込み部形成領域のパタンニングの際、フォトレジストを、基板の一面上に、直接あるいは金属膜を介して塗布形成し、フォトリピータで、前記フォトレジストの掘り込み部形成領域を選択的に露光し、更に現像処理を施し、掘り込み部形成領域を開口したレジストパタンを形成するレジストパタン形成工程を有す。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern simultaneously satisfying high sensitivity, high resolution and good dry etching resistance even in the formation of an isolated pattern, to provide a resist film using the composition, and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

孤立パターンの形成においても、高感度、高解像性、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜、及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When a false pattern is generated in pattern formation, since the transmittance of the organic film pattern can easily be varied by irradiation with light, fine adjustment of the quantity of phase shift can easily be performed by varying the transmittance without varying the film thickness.例文帳に追加

そしてパターン形成に際して、疑似パターンが発生する場合は、光照射によって容易に透過率を変更可能であるため、膜厚を変更することなく、透過率を変更することにより、容易に、位相シフト量の微調整を行うことが可能となる。 - 特許庁

When combination shape of the conductive part 12 and the opening 14 has a mesh one (mesh pattern 22), formation position of the moire preventing part 18 may be substantially at the center of the opening 14 of the mesh pattern 22 or may be at positions which are intersected parts 24 of the mesh pattern 22.例文帳に追加

導電部１２と開口部１４の組み合わせ形状がメッシュ形状（メッシュパターン２２）である場合、モアレ抑止部１８の形成位置としては、メッシュパターン２２の開口部１４のほぼ中心部でもよいし、メッシュパターン２２の交差部２４と重なる位置でもよい。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive film having a gap retention layer capable of forming a pattern by the exposure through a photomask followed by a development treatment and further exhibiting a high adhesiveness while maintaining a pattern by heating even after the formation of pattern.例文帳に追加

フォトマスクを介して露光させ、現像処理することによってパターン形成をすることができ、しかも、パターン形成した後においても、加熱すれば、そのパターンを維持したまま高い接着性を発揮し、ギャップ保持層を有する感光性の接着フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing a pattern-formed structure in which a high-precision pattern formation is possible in the production of the pattern-formed structure and the cost and environmental load are reduced.例文帳に追加

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、かつコスト負荷および環境負荷が小さいパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

In the formation of the design pattern, the design, device, or the like for expressing the machine type information so as to be discriminable from various images of the design pattern and harmonized with a natural state can be reduced to facilitate the designing, and the design pattern is mad able to be efficiently formed.例文帳に追加

そしてデザイン図の作成においては、デザイン図の各種画像に対し機種情報を識別可能、且つ、自然な状態に融合させて表現するための考案や工夫等が軽減され図案化が容易になり、効率良く作成できるようになる。 - 特許庁

During the formation of the adjacent conductive and insulating patterns on the substrate, a step of forming the insulation pattern of at least a single scan is performed in the conductive pattern forming step that is performed two or more times until the conductive pattern reaches a predetermined thickness.例文帳に追加

基材上で隣接する、導電パターンと絶縁パターンとを形成する際に、導電パターンが所定の厚さになるまで前記複数回行われる導電パターン形成工程の間に、少なくとも１走査分の絶縁パターンを形成する工程を行う。 - 特許庁

The mask shape of the visual field masking is stored in a serial EEPROM 121 as a bit pattern and mask formation means 11, 12 and 122 for reading the bit pattern from the serial EEPROM 121 and performing the visual field masking to the video signals on the basis of the bit pattern are provided.例文帳に追加

視野マスクのマスク形状をビットパターンとしてシリアルＥＥＰＲＯＭ１２１に格納すると共に、シリアルＥＥＰＲＯＭ１２１からビットパターンを読み出してそのビットパターンに基づいて映像信号に視野マスクを施すマスク形成手段１１，１２，１２２を設けた。 - 特許庁

To provide a photosensitive epoxy resin adhesive film having high adhesiveness even after pattern formation on an adherend while maintaining the pattern if heated, whereby a second adherend can be stuck on the pattern, and particularly even in the case of a large film thickness, when the second adherend is stuck on the pattern, the pattern ensures slight variation, mainly slight reduction of the thickness.例文帳に追加

被着体上にてパターン形成した後においても、加熱すれば、そのパターンを維持したまま、高い接着性を有し、そのパターン上に第２の被着体を接着することができ、特に、フィルム厚みが大きい場合であっても、そのパターン上に第２の被着体を接着する際に、パターンの変化、主として、膜厚の減少が少ない感光性エポキシ樹脂接着性フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern formed body, which allows high precision pattern formation, in which aftertreatment subsequent to exposure is unnecessary and further which is without fear of any adverse effect of a photocatalyst on the pattern formed body itself because no photocatalyst is contained inside the manufactured pattern formed body in the manufacturing of the pattern formed body.例文帳に追加

本発明は、パターン形成体の製造に際して、高精度にパターンを形成することが可能であり、露光後の後処理が不要で、かつ製造されたパターン形成体内に光触媒が含有されていないことから、パターン形成体自体の光触媒による影響の心配もないパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The TMR element manufacturing method is provided with: a resist pattern formation process for forming a resist pattern on a generated TMR film; a first ion milling process for performing the ion milling using the resist pattern as a mask; a slimming process for slimming the resist pattern; and a second ion milling process for performing the ion milling of the TMR film again using the slimmed resist pattern as the mask.例文帳に追加

本発明のＴＭＲ素子製造方法は、生成したＴＭＲ膜上にレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、レジストパターンをマスクとしてＴＭＲ膜をイオンミリングする第１イオンミリング工程と、レジストパターンのスリミングを行うスリミング工程と、スリミングされたレジストパターンをマスクとしてＴＭＲ膜を再びイオンミリングする第２イオンミリング工程と、を備えるよう構成する。 - 特許庁

To provide a pattern formation board composed by improving the uniformity of a stacked pattern formed by drying droplets and by improving its productivity, to provide an electro-optical device, and to provide a manufacturing method of the electro-optical device.例文帳に追加

液滴を乾燥して形成した積層パターンの均一性を向上するとともに、その生産性を向上したパターン形成基板、電気光学装置及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMATION MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING POROUS STRUCTURE, METHOD FOR FORMING PATTERN, ELECTROCHEMICAL CELL, HOLLOW FIBER FILTER, METHOD FOR PRODUCING POROUS CARBON STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCING CAPACITOR AND METHOD FOR PRODUCING CATALYTIC LAYER OF FUEL CELL例文帳に追加

パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of forming a pattern by cleaning a liquid droplet ejection head without adversely affecting a liquid droplet ejection operation in re-operating the liquid droplet ejection head having been preserved by using a preservative fluid.例文帳に追加

保管液を用いた保管状態の液滴吐出ヘッドを再稼働する際、液滴吐出動作に影響を及ぼさずに液滴吐出ヘッドを洗浄してパターン形成できるパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Adhesion between the lower layer pattern 2 and the interlayer insulation layer 5 is secured satisfactorily because the surface of the lower layer 2 covered by tin prevents formation of metal oxide on the surface of the lower layer pattern 2.例文帳に追加

これにより，下層パターン２の表面はスズに覆われて，下層パターン２の表面における酸化皮膜の形成が防止されるので，下層パターン２と層間絶縁層５との密着性を十分なものとすることができる。 - 特許庁

Since what is necessary is merely to form the aperture parts in the first metal film pattern 14a, the first semiconductor film 17 and the second metal film pattern 24a, simultaneously with formation of a TFT, increase in the number of manufacturing steps can be avoided.例文帳に追加

また、ＴＦＴの形成と同時に第１の金属膜パターン１４ａ、第１の半導体膜１７及び第２の金属膜パターン２４ａに開口部を形成すればよく、工程数の増加が回避される。 - 特許庁

Then, in the formation of the mask pattern 4, fine particles having a nanosize particle diameter are scattered for distributing uniformly, and the particle diameter of the fine particle, a distribution state, or the like is adjusted in relation to the shape of the mask pattern 4.例文帳に追加

そして、そのマスクパターン４の形成に際して、粒径がナノサイズの微粒子を散布して一様に分布させるとともに、マスクパターン４の形状十の関係でその微粒子の粒径や分布状況等を調整する。 - 特許庁

To provide a printing plate capable of continuously printing a highly fine pattern while hardly causing defects even when a reverse offset printing method is used as a pattern formation method, and a method of manufacturing the printing plate.例文帳に追加

パターン形成方法として反転オフセット印刷法を用いた場合においても、欠陥を生じ難く、連続的に高精細パターンを印刷可能な印刷用版およびその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a resin molded body having a grain-toned pattern on the surface of which the grain-toned pattern is formed diversely without formation of a large flaw, weldline or the like thereon and which is also excellent in durability and productivity.例文帳に追加

樹脂成形体の表面に大きな傷やウェルドライン等が形成されることなく多様な木目調模様を形成して、耐久性並びに生産性にも優れた木目調模様を有する樹脂成形体を得る。 - 特許庁

To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide chargeable powder for the formation of a circuit with which a circuit pattern having high resolution without fog and good electric characteristics can be produced even when the powder is used for printing the circuit pattern by an electrophotographic method.例文帳に追加

電子写真法によって回路パターンを印刷する際に使用しても、カブリのない高解像度で、かつ良好な電気特性を示す回路パターンを作製することができる回路形成用荷電性粉末を提供する。 - 特許庁

To form a pattern (e.g., a print character, a design) having good printing reproducibility in terms of thin line, on a resin screen printing plate with a laser beam with hardly affecting a resin screen gauze used for the formation of the pattern.例文帳に追加

レーザ光により樹脂スクリーン印刷版にパターン（印刷文字、図案など）を形成させる際、樹脂スクリーン紗にほとんど影響を与えることなく、かつ細線の印刷再現性のよいパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a transfer film and a pattern forming method, capable of substantially improving workability, compared with a conventional manufacturing method, and manufacturing a pattern excellent in manufacturing efficiency even in thick film formation of a metallic film.例文帳に追加

従来の製造方法と比べて、実質的に作業性を向上することができ、金属膜の厚膜形成時でも製造効率の優れたパターンの製造できる転写フィルム、およびパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A barrier metal layer 7 and a copper layer 8 are deposited while the groove pattern is embedded through the bypass formation film 6, and then ground to form an embedded wiring 8a in which these are left only in the groove pattern.例文帳に追加

バイパス形成膜６を介して溝パターン内を埋め込む状態でバリアメタル層７、銅膜８を成膜し、これらを研磨することにより溝パターン内のみにこれらを残した埋込配線８ａを形成する。 - 特許庁

Each pattern matrix consists of a plurality of block patterns arranged in matrix where each block pattern consists of a plurality of dot elements arranged in matrix and each dot element exhibits a plurality of kinds of dot formation states.例文帳に追加

各パターンマトリクスはマトリクス状に配置された複数のブロックパターンで構成され、各ブロックパターンはマトリクス状に配置された複数のドット要素で構成され、各ドット要素は複数種類のドットの形成状態を示す。 - 特許庁

(2) In the formation of the resist pattern by using the direct resist writing method, the resist pattern is formed by irradiating photosensitive resist ink with ultraviolet rays or visible light rays immediately after the ink is separated from a photosensitive resist ink discharge opening.例文帳に追加

（２）レジスト直描方式によるレジストパターン形成において、感光性レジストインクが、感光性レジストインク吐出口より離れた直後に紫外線または可視光線に照射され、レジストパターンが形成される。 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method such as a double patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The formation method includes: projecting a rectangular grid-like light-dark pattern 502 on a photosensitive layer 501; after that, displacing the light-dark pattern 502 in a direction of a side of the rectangle to project it on the photosensitive layer 501; and after that, developing the photosensitive layer 501.例文帳に追加

方形格子状の明暗パターン５０２を感光層５０１に投影し、その後、明暗パターン５０２をその方形の辺方向にずらして感光層５０１に投影し、その後、感光層５０１を現像する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for immersion exposure which suppresses collapse of a resist pattern and degradation of its profile due to post exposure between exposure and PEB (post exposure bake) at the time of immersion exposure, and also to provide a method of pattern formation with the composition.例文帳に追加

液浸露光時の、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が改善された液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint pattern forming method which determines the replacing frequency of a template efficiently, and suppresses the deterioration of throughput associated with the increase of the replacing frequency, and the deterioration of yield of pattern formation associated the decrease of the replacing frequency.例文帳に追加

テンプレートの交換頻度を効率的に決定し、交換頻度の増大に伴うスループットの低下や、交換頻度の減少に伴うパターン形成の歩留まり低下を抑制するインプリントパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a masking material which can suppress the formation of a blurred pattern when a pattern is formed on a substrate with a sputtering method; a piezoelectric vibrator; a method for manufacturing the piezoelectric vibrator; an oscillator; electronic equipment; and a radio wave clock.例文帳に追加

スパッタ法にて基板上にパターンを形成する際に、パターンボケが生じるのを抑制することができるマスク材、圧電振動子、圧電振動子の製造方法、発振器、電子機器および電波時計を提供する。 - 特許庁

The mirror 130 is formed with the same copper as that of a conductor pattern layer 111, and is formed simultaneously with formation of the conductor pattern layer 111 before the optical waveguide 120 is formed on the printed wiring board 110.例文帳に追加

ミラー１３０は、導体パターン層１１１と同じ銅で形成されており、プリント配線板１１０上に光導波路１２０が形成される前に、導体パターン層１１１の形成と同時に形成されている。 - 特許庁

In an operation mode which is performed by an engine part alone, such as a density control mode accompanied with patch image formation, a test pattern offset value Tot is obtained as the amount of toner consumption corresponding to the formed image pattern (step S141).例文帳に追加

一方、パッチ画像形成を伴う濃度制御モードのように、エンジン部が単独で行う動作モードでは、形成する画像パターンに応じたトナー消費量としてテストパターンオフセット値Ｔｏｔを求める（ステップＳ１４１）。 - 特許庁

To provide a method and a device for setting a condition for measuring a pattern by which measurement with high reproducibility can be performed not depending on the formation state of the pattern inside and outside an FOV.例文帳に追加

本発明は、ＦＯＶ内外のパターンの形成状況に依らず、高い再現性による測定を行い得るパターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the concentric circle pattern is not formed or the formation of the concentric circle pattern can be reduced by condensing a plurality of the laser beams into one flux, and reliability of the semiconductor device can be improved.例文帳に追加

さらに、複数のレーザ光を一束に集光することにより、同心円模様が形成されない、もしくは同心円模様の形成を低減することができ、半導体装置の信頼性を向上することができる。 - 特許庁

To prevent wiring from being reduced in reliability and manufacturing yield due to it that a wiring pattern, which is formed resting on single minimum line width data in the formation of a wiring mask pattern, is used in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

配線マスクパターン発生において、単一最小線幅データで発生させた配線パターンを半導体装置等で使用することに起因する配線の信頼性低下や製造歩留り低下を抑制する。 - 特許庁

The semiconductor device further comprises a conductor pattern formed on the semiconductor substrate 11 in a formation region of the capacitative element 10 and a voltage clamp terminal 28 for clamping voltage of the conductor pattern.例文帳に追加

そして、容量素子１０の形成領域内の半導体基体１１上に形成されている導体パターンと、導体パターンの電位を固定するための電位固定端子２８とを備える半導体装置を構成する。 - 特許庁

The drawing of the pattern and the formation of the unevenness corresponding to the pattern are performed at the same position in the feed direction of a long base film while feeding the base film in the longitudinal direction thereof.例文帳に追加

長尺なベースフィルムを長手方向に搬送しつつ、前記絵柄の描画、および、前記絵柄に応じた凹凸の形成を、前記ベースフィルムの搬送方向の同位置で行うことにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The plurality of wiring patterns 2 are formed in one portion of the metal foil pattern formation region 4 so that the ratio of the width of the wiring pattern 2 to the interval between the wiring patterns 2 becomes not less than 1 and not more than 8.7.例文帳に追加

金属箔パターン形成領域４の一部では、配線パターン２同士の間隔に対する配線パターン２の幅の比率が１を越え且つ８．７以下となるように、複数の配線パターン２を形成している。 - 特許庁

To provide an alkaline development type photosensitive resin composition that enables the formation of a pattern with good resolution upon development with an aqueous alkaline solution without adding a dissolution inhibitor and a method for forming a pattern using the alkaline development type photosensitive resin composition.例文帳に追加

溶解阻害剤を添加することなく、アルカリ水溶液現像によって解像度の良好なパターンを形成することを可能にするアルカリ現像型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a resist processing method by which a pattern obtained by a resist composition for the formation of a first resist pattern is formed in an ultra-fine high-precision state, in a multiple patterning method such as a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The pattern formation by the stamping method as above allows forming the pattern with high accuracy, and since the porous flat plate 40 also absorbs the precursor 21, the number of replacement times of the mold 41 is decreased.例文帳に追加

このような押印法によるパターン形成によれば、高いパターン形成が可能であり、また多孔質な平板４０によっても前駆体２１を吸収するため、鋳型４１の交換回数を減らすことができる。 - 特許庁