「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming method which allows pattern formation without developing process, is improved with respect to the problem due to rubbing process and the like, and is most suitable for a liquid crystal alignment film or the like.例文帳に追加

現像処理を行うことなくパターン形成ができ、また、ラビング処理等による問題も改善され、液晶配向膜等に最適なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide mask blanks capable of suppressing the generation of a skirt shape projection portion generated at a pattern bottom after resist pattern formation in mask blanks to which chemistry amplification type resist is applied.例文帳に追加

化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of improving a filling characteristic of a filling material to a template pattern in an imprint lithography method for use to manufacture a semiconductor device etc.例文帳に追加

半導体装置等の製造に用いられるインプリントリソグラフィ方法において、テンプレートパターンへの充填材料の充填特性を向上することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

By cleaning the belt 13 before the pattern formation, the pattern detection accuracy is secured, and accuracy is also improved to secure the quality of a formed image.例文帳に追加

パターンの形成の前にベルト１３の清掃を合わせて行うことにより、パターン検出の精度を確保でき、ひいては補正の精度を高めて形成される画像の品質を確保することができる。 - 特許庁

By forming sample pattern images in such a manner, a developing roller is rotated before the formation of the resist pattern images, thereby decreasing a nonuniform state of a toner layer held on the surface of the developing roller.例文帳に追加

このようにサンプルパターン像を形成することで、レジストパターン像の形成前に現像ローラを回転駆動し、該現像ローラ表面に担持されるトナー層の不均一性を緩和する。 - 特許庁

The image forming apparatus includes an acquiring part for acquiring as second dot pattern data a formation position of the first dot pattern formed on a recording material read by an external reading apparatus.例文帳に追加

また、本画像形成装置は、外部の読取装置によって読み取られた記録材に形成された第１のドットパターンの形成位置を第２のドットパターンデータとして取得する取得部を含む。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of preventing reduction in dimensional accuracy and positional accuracy of a pattern finally formed on a semiconductor substrate; and a photomask formed by the method.例文帳に追加

最終的に半導体基板上に形成されるパターンの寸法精度と位置精度を悪化させることのないパターン形成方法及び該方法により形成されるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a chuck stage for an exposure machine for improving the yield of a product by effectively preventing the formation of any spot pattern or moire pattern or the like in an exposed product.例文帳に追加

露光後の製品に斑模様やモアレ模様等が形成されることを効果的に防止して製品の歩留まりを向上させることができる露光機用チャックステージを提供する。 - 特許庁

To provide inexpensive electrodes of the plasma display panel with good quality of the electrode pattern, and apparatus and method for electrode pattern formation.例文帳に追加

本発明により、得られる電極パターンの品質が良く、低コストであるプラズマディスプレイパネルの電極と、これを形成する電極パターン形成装置と、電極パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A prescribed charge pattern is formed by giving deposition charge 50 to an insulative substrate 20 by a charge applying head 100 before the formation of a plotting pattern by the discharge fluid.例文帳に追加

さらに、絶縁性基板２０に対し、吐出流体による描画パターン形成前に、電荷付与ヘッド１００によって付着電荷５０を与え、所定の電荷パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in pattern collapse margin with excellent fine pattern formation, excellent pattern shape, and less development defect even in not only normal exposure (dry exposure) but also immersion exposure, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、微細で良好なパターン形成が可能で、パターン形状が良好であり、現像欠陥が極めて少なく、且つパターン倒れマージンに優れた、ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment agent for freezing process and a method of forming a resist pattern using the same, meeting the requirement that in a double patterning method, dimensions of a first resist pattern are not varied by a freezing process conducted for the first resist pattern and formation of a second resist pattern.例文帳に追加

ダブルパターニング法において第一のレジストパターンに対して行うフリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの寸法が変動しないという要件を満たすフリージングプロセス用の表面処理剤およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Since a contact angle outside of the predetermined pattern region is infinitely larger than that in the predetermined pattern region that is the hydrophilic region 4, a coating part outside of the predetermined pattern region of the hit sol-gel droplets 5 is sucked into the desired patten region and is levelled in the desired formation pattern.例文帳に追加

所定パターン領域外は、親水性領域４である所定パターン領域内より接触角が非常に大きいので、着弾したゾルゲル液滴５の所定パターン領域外の塗布部分は所望パターン領域内へ吸い寄せられ、所望の形成パターン内にてレベリングされた。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition satisfying demands for a wide exposure latitude, reduction of a skirt-like pattern profile, favorable pattern features and excellent dry etching durability, and allowing formation of a pattern having fewer defects after development, and to provide a method for forming a pattern by using the composition.例文帳に追加

広い露光ラテテュード、パターン裾引き低減、良好なパターン形状、優れたドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The method for forming conductive pattern of electronic components comprises a process of creating a resin intaglio plate having irregularities corresponding to a conductive pattern, and a formation process of the conductive pattern 12 that fills conductive paste into the resin intaglio plate and transfers the pattern of conductive paste that is filled in the resin intaglio plate to a ceramic substrate 11.例文帳に追加

導体パターンに対応した凹凸を有する樹脂凹版を作製する工程と、前記樹脂凹版に導電性ペーストを充填し、前記樹脂凹版に充填された導電性ペーストのパターンをセラミック基板１１に転写する導体パターン１２の形成工程とからなる。 - 特許庁

To provide a nanoimprint mold manufacturing method and a resist pattern formation method capable of preventing a resist pattern shape from deteriorating even in an atmosphere in which oxygen exists and forming a fine transfer pattern in means for improving dry etching resistance of a resist pattern via electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する - 特許庁

To provide resist ink which is used for the formation of a resist pattern by a direct resist drawing method, and with which a thick resist pattern can be formed easily by receiving less restriction from the viscosity of the ink; and to provide methods of manufacturing resist pattern, conductor pattern, and printed wiring board using the resist ink.例文帳に追加

本発明はレジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、粘度の制約が少なく、厚いレジストパターンを容易に形成できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink for conductor pattern formation excellent in discharge stability of droplets and capable of forming a conductor pattern with high reliability, to provide a conductor pattern of high reliability, and to provide a wiring substrate of high reliability equipped with the conductor pattern.例文帳に追加

液滴の吐出安定性に優れ、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、前記導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide: a generation method of pattern data for electron beam drawing, which can draw an excellent minute pattern without using a trial-and-error method by test drawing, in drawing a minute pattern using an electron beam drawing device; a proximity effect correction method used for it; and a pattern formation method using the data.例文帳に追加

電子線描画装置を用いて極小なパターンを描画する際、テスト描画による試行錯誤無しに、良好な極小パターンが描画できる電子線描画用パターンデータの作成方法及びそれに用いる近接効果補正方法、そのデータを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the pattern formation method forming a pattern using a letterpress, ink is fed to the letterpress with a stripe shape using an anilox rolls in which the pitch a of a surface pattern satisfies a>w to the line width w of the letterpress, and a pattern is transferred to the body to be printed.例文帳に追加

凸版を用いてパターンを形成するパターン形成方法において、ストライプ形状の凸版に、表面パターンのピッチａが該凸版の線幅ｗに対してａ＞ｗとなるアニロックスロールを用いてインキを供給し、被印刷体にパターンを転写することを特徴とするパターン形成方法とした。 - 特許庁

To provide a substrate processing method capable of improving production efficiency by allowing the film thickness of pattern-formed photoresists to be uniform in a substrate plane and shortening a processing time required for pattern formation, in reflow processing for dissolving a photoresist pattern to form a desired resist pattern.例文帳に追加

フォトレジストパターンを溶解し所望のレジストパターンを形成するリフロー処理において、パターン形成されたフォトレジストの膜厚を基板面内で均一とし、且つ、パターン形成にかかる処理時間を短縮し生産効率を向上することのできる基板処理方法を提供する。 - 特許庁

This image forming body is formed by integrally laminating an image forming body having a concealed pattern of a predetermined secret image, and an interference image forming body having an interference pattern for readably displaying the concealed image from the interference pattern interfering with the concealed pattern of the concealed image formation body being laminated integrally.例文帳に追加

所定の秘密画像の隠しパターンを有する隠し画像形成体と、該隠し画像形成体の隠しパターンと干渉する干渉パターンから、隠し画像を判読可能に表示する干渉パターンを有する干渉画像形成体とを一体に積層することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an excellent molded body with a translucent pattern which enables the extremely easy formation of the translucent pattern and moreover can keep a part constituting the translucent pattern beautiful over a long period of time, and the molded body with the translucent pattern obtained thereby.例文帳に追加

非常に簡単に半透明模様を形成することができ、しかも上記半透明模様を構成する部分を長期にわたって美麗に維持することのできる、優れた半透明模様付成形体の製法と、それによって得られる半透明半透明模様付成形体を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of preventing air bubbles from mixing in the recessed part of a sticking surface when sticking a protective substrate and a substrate having the recessed part on the sticking surface through a resin, and generating high working characteristics in the following pattern formation process.例文帳に追加

保護基板と、貼り合わせ面に凹部を有する基板とを樹脂を介して貼り合わせる際に、貼り合わせ面の凹部に気泡が混入することを防ぎ、後のパターン形成工程において高い加工特性をだすことができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for pattern formation and a liquid material drier which enable formation of a pattern with high definition and precision by controlling the arrangement position for a liquid material with a laser beam so as to dry the liquid material at a desirable arranging position.例文帳に追加

レーザ光によって液状体の配置位置を制御して所望の配置位置で液状体を乾燥させて、高精細、高精密なパターンを形成すことができるパターン形成方法、パターン形成装置及び液状体乾燥装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board and a multilayer wiring board allowing formation of a high level conductive circuit pattern on a board, formation of excellent conductive layer of conductive circuit pattern, and realizing low cost and production in small amount of versatile products.例文帳に追加

基板上に高度な導電性の回路パターンが形成され、また、導電性の回路パターンの導体層を良好に形成することができ、低コスト化、多種少量生産化を図ることができる配線基板および多層配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The transparent antenna 10 has the antenna pattern 2 formed on a transparent base 1, and the antenna pattern includes a conductor part 3a as a formation part of an opaque conductor layer and a meshed conductor mesh layer 3 having many openings 3b as non-formation parts.例文帳に追加

透明アンテナ１０は、透明基材１上にアンテナパターン２が形成され、アンテナパターンが、不透明な導電体層の形成部としての導体部３ａと非形成部としての多数の開口部３ｂとによるメッシュ状の導電体メッシュ層３によって形成する。 - 特許庁

A circuit board 3 is also arranged at the middle position between the probe 6 and the termination face 1b of the waveguide, a first probe 5 for main polarization detection is subjected to pattern formation on the circuit board 3, and a reflecting surface 4 of the probe 6 is also subjected to pattern formation.例文帳に追加

また、第２のプローブ６と導波管１の終端面１ｂの中間位置に回路基板３を設置し、この回路基板３に主偏波検出用の第１のプローブ５をパターン形成すると共に、第２のプローブ６の反射面４をパターン形成する。 - 特許庁

The formation of the dot pattern in the state of stabilizing the energy of a laser beam LB by triggering a laser oscillator 44 to start irradiation earlier than the time for forming the dot pattern and therefore the unnecessary sensitization to an X-ray film 12 by the excess output energy can be prevented and the generation of the dot pattern having the lower visibility by the dot pattern formation by the insufficient energy can be prevented.例文帳に追加

レーザー発振器４４をドットパターン形成時期よりも早く照射を開始することで、レーザービームＬＢのエネルギーを安定させた状態でドットパターンを形成することができるため、過度の出力エネルギーによってＸレイフィルム１２への不必要な感光が防止でき、不足したエネルギーによるドットパターン形成による視認性の低いドットパターンの発生が防止できる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device that form a pattern of an excellent resist film without an impact (shock) to a resist by a droplet of a developer like spray development or pattern collapse caused owing to friction against the developer when a developer applied onto a substrate is shaken off like paddle development since the resist film is developed by generating mist of a processing liquid during development.例文帳に追加

現像時に、処理液をミスト状に発生させてレジスト膜の現像を行うために、スプレー現像のような現像液の液滴によるレジストへのインパクト（衝撃）や、パドル現像のような基板に盛った現像液を振り切る際の現像液との摩擦によるパターン倒壊がなく、良好なレジスト膜のパターンを形成するパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

And a loop cut 21 for avoiding the formation of a closed loop by the periphery edge of the through hole 20 is expended from the through hole 20 to the outer edge of the conductor pattern 3 for the capacitor for formation.例文帳に追加

また、透孔部２０の周端縁が閉ループを形成することを避けるためのループカット部２１を透孔部２０からコンデンサ用導体パターン３の外端縁に掛けて伸長形成する。 - 特許庁

To provide an image formation system, an information processor, an image forming apparatus, a print data generation program and an image formation program by which functions of ground tint pattern printing are correctly exhibited.例文帳に追加

地紋印刷の機能を正しく発揮させることのできる画像形成システム、情報処理装置、画像形成装置、印刷データ生成プログラム、画像形成プログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing such a resin composition for optical waveguides permiting the formation of the optical waveguides having a satisfactory optical transmission capability and a sufficiently high pattern-formation precision.例文帳に追加

十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を有する光導波路を形成することが可能な光導波路用樹脂組成物の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide post-treatment device capable of implementing accurate punching treatment irrespective of the size, kind, thickness of paper fed from an image formation device, and the paper exclusion pattern in the image formation device.例文帳に追加

画像形成装置から搬送される用紙のサイズ，種別，厚み，更には該画像形成装置における排紙パターンに拘わらず，正確な穿孔処理を行うことが可能な後処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a composition for top-face anti-reflection coating whose film formation property, refractive index, temporal stability, and safety are comparable to or better than those of conventional products, and also provide a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

従来製品と同等以上の成膜性、屈折率、経時安定性、および安全性を有する、上面反射防止膜形成用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a compound substrate which is affixed with a piezoelectric substrate and a support substrate to each other via an organic adhesive layer, and a formation method which allows the formation of a desired metal pattern with high accuracy by using lift-off processing.例文帳に追加

圧電基板と支持基板とを有機接着層を介して貼り合わせた複合基板と、リフトオフ加工を用いて精度よく所望の金属パターンを形成できるようにする形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus suppressing occurrence of density irregularity of black belt-like pattern even when continuous image formation is performed under a low-temperature and low-humidity environment, thereafter, a photoreceptor is left standstill and again the image formation is performed.例文帳に追加

低温低湿環境の下で連続作像を行った後、静放置して再度作像しても黒帯模様の濃度ムラの発生を抑制することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The support substrate 60 is peeled off a stack 40 including the electrode formation layer 62 and thin film transistor 30 and the electrode formation layer 62 is divided in a predetermined pattern to form pixel electrodes.例文帳に追加

その後、電極形成層６２及び薄膜トランジスタ３０を含む積層体４０から支持基板６０を剥離し、電極形成層６２を所定のパターン状に分割し、画素電極を形成する。 - 特許庁

In a conductor pattern formation method wherein photosensitive conductor paste is used, after a pattern which is larger than a desired pattern is formed by partially applying photosensitive conductor paste on a substrate wherein a pattern is formed, exposure and development are carried out by using a photomask of a desired pattern and a desired pattern is formed.例文帳に追加

本発明は、感光性導体ペーストを用いた導体パターン形成方法において、パターンを形成する基板上に感光性導体ペーストを部分的に塗布することにより所望するパターンよりも大きいパターンを形成した後に、所望するパターンのフォトマスクを用いて露光・現像を行い、所望するパターンを形成することを特徴とする導体パターンの形成方法によって達成される。 - 特許庁

Therein, the substrate is preferably a transmission body which transmits laser or glass and it is also preferable that laser is applied through the object for pattern formation.例文帳に追加

また、基材はレーザを透過する透過体又はガラスとしてもよいし、レーザはパターン形成対象物を通して照射してもよい。 - 特許庁

To easily and reliably remove resist residue after resist pattern formation and to prevent trouble by the effect of resist residue.例文帳に追加

レジストパターンの形成後に残るレジスト残渣を、容易に、しかも確実に除去し、レジスト残渣の影響による不都合の発生を防止する。 - 特許庁

POSITIVE-WORKING PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION USING COMPOSITION, AND RESIN FOR USE IN COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、及び、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂 - 特許庁

To provide a method for pattern formation capable of affording in high accuracy, well-balanced filter patterns and fluophor patterns, and capable of improving the yielding percentage and/or lowering the cost.例文帳に追加

健全なフィルタパターンと蛍光体パターンが高精度に得られ、歩留まり向上や低コスト化が可能なパターン形成方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for forming a display pattern of an organic EL element, allowing the formation of various display patterns in simple processes.例文帳に追加

簡単な工程によって様々な表示パターンを形成することができる有機ＥＬ素子の表示パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜およびパターン形成方法 - 特許庁