「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

The lithography simulation method includes steps of: applying defocus processing to an image formation condition of lithography simulation by referring to a table with a relationship between the dimension of a mask pattern of a simulation object and a defocus amount specified therein; and calculating the dimension of a transfer pattern corresponding to the mask pattern using the image formation condition with the defocus processing applied thereto.例文帳に追加

リソグラフィシミュレーションの結像条件に対して、シミュレーション対象のマスクパターンの寸法とデフォーカス量との関係が規定されたテーブルを参照してデフォーカス処理を施す工程と、前記デフォーカス処理が施された結像条件を用いて前記マスクパターンに対応する転写パターンの寸法を算出する工程と、を備えたリソグラフィシミュレーション方法である。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which enables the formation of a desired drawing pattern suppressing the occurrence of jaggies on a face to be exposed of a photosensitive layer without lowering an exposure speed and a high-definition desired pattern different in thickness and the efficient formation of a printed wiring board having a hole part such as a through hole and a via hole.例文帳に追加

露光速度を低下させることなく、感光層の被露光面上にジャギーの発生が抑制された所望の描画パターンを形成可能であり、かつ厚みが異なる所望のパターンを高精細に形成可能であり、スルーホールやビアホールなどのホール部を有するプリント配線板を効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a conductive pattern formation substrate and the conductive pattern formation substrate, in which manufacture is easy, a high quality transparent conductive film having a hardly visible conductive pattern can be formed in a display region, and electrical reliability is improved by fully securing insulating properties of an insulating part of the transparent conductive film.例文帳に追加

製造が容易であり、表示領域においては導電パターンが視認されにくい高品位な透明導電膜を形成できるとともに、該透明導電膜の絶縁部の絶縁性が十分に確保され電気的な信頼性が向上する導電パターン形成基板の製造方法及び導電パターン形成基板を提供する。 - 特許庁

The pattern mask comprises a mask substrate 10 which contacts a pattern formation layer 2 on a substrate 1, a plurality of electron beam shielding region 11 formed on the mask substrate 10, a plurality of electron beam transmission region 12 formed on the mask substrate 10, and a plurality of minute adhesive layers 14 for increasing the degree of contact of the electron beam shielding region 11 which contacts the pattern formation layer 2.例文帳に追加

基材１上のパターン形成層２に接触するマスク基材１０と、マスク基材１０に形成される複数の電子線遮蔽領域１１と、マスク基材１０に形成される複数の電子線透過領域１２と、パターン形成層２に接触する電子線遮蔽領域１１の接触度を高める複数の微粘着層１４とを備える。 - 特許庁

(3) The formation method of the joint pattern comprises steps of: applying the coating on the substrate; and rolling-moving while pressing the hand roller as described in (1) or (2) on the coating.例文帳に追加

（３）基材上に塗膜を塗布し、該塗膜上に（１）または（２）に記載のハンドローラを押圧しながら転動させる目地模様の形成方法。 - 特許庁

To provide a formation method of a photosensitive resist pattern in which peeling during exposure is suppressed and a manufacturing method of a semiconductor device using the same.例文帳に追加

露光時の剥れが抑制される感光性レジストパターンの形成方法、及びそれを利用した半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition for a protective film capable of pattern formation by alkali development, having good heat resistance and keeping a foreign matter inconspicuous.例文帳に追加

アルカリ現像によるパターン形成が可能で、耐熱性および異物特性の良好な保護膜用感光性組成物が求められている。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin laminate excellent in adhesion and fine pattern formation.例文帳に追加

接着性、及び微細パターン形成性に優れ、離型処理をしないモールドに対しても離型性に優れた感光性樹脂積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a new and improved imprinting method capable of quickly peeling a molding material and a molded material in pattern formation.例文帳に追加

パターン形成において成形材と被成形材とを迅速に剥離させることが可能な、新規かつ改良されたインプリント方法を提供する。 - 特許庁

The antioxidant film 36 is coated with a fluid oxide for the formation of a fluid oxide film so as to bury the conductor pattern 32.例文帳に追加

酸化防止膜３６上に導電体パターン３２を埋めるように流動性酸化物質をコーティングして流動性酸化膜を形成する。 - 特許庁

To perform high-precision pattern formation without increasing the number of processes when a structure having a recessed part of a depth different from that of a step structure.例文帳に追加

段差構造など異なる深さの凹部を有する構造を形成する場合に、工程数を増やすことなく精度の高いパターン形成を行う。 - 特許庁

A photosensitive conductor paste on a substrate that is applied in an application process S11 of a conductor pattern formation process S1 is exposed to light in an exposure process S12.例文帳に追加

導体パターン形成工程Ｓ１の塗布過程Ｓ１１で塗布した基板上の感光性導体ペーストを露光過程Ｓ１２で露光する。 - 特許庁

HYDROPHILIC GROUP-CONTAINING ORGANOSILOXANE-BASED POLYMER COMPOUND, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PATTERN FORMATION AND COATING FILM FOR SUBSTRATE PROTECTION例文帳に追加

親水性基を有するオルガノシロキサン系高分子化合物及び光硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法及び基板保護用皮膜 - 特許庁

The stored main signal data is converted into a text file, which is usable in the test pattern formation for the simulator 4 by a data processing part 33.例文帳に追加

データ処理部３３は格納された主信号データをシミュレータ４用のテストパターン作成に使用可能なテキストファイルに変換して出力する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which enables formation of a gate electrode having a desired pattern and a control gate, and to provide a manufacturing method of the device.例文帳に追加

所望のパターンを有するゲート電極およびコントロールゲートを形成することができる、半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the reduction of an exposure margin or falling down of a resist pattern during lithography for the formation of a gate electrode, and to form the gate electrode appropriately.例文帳に追加

ゲート電極を形成するためのリソグラフィにおいて、露光マージンの減少やレジストパターンの倒れを防ぎ、ゲート電極を良好に形成する。 - 特許庁

To obtain a photoresist composition which prevents the formation of a pattern inclined by an acid in the upper part of a photoresist and the increase of I/D bias.例文帳に追加

フォトレジスト上部の酸により傾斜したパターンが形成され、I/Dバイアスが大きくなる点を解決できるフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a reticle used as a mask for exposure in resist pattern formation in a semiconductor device and to provide a method for producing the reticle.例文帳に追加

半導体装置においてレジスト形成などの露光のマスクとして使用されるレチクルとこのレチクルの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that forms an excellent color shift detection pattern without the occurrence of wave formation.例文帳に追加

掃き寄せなどが発生していない良好な色ずれ検出パターンを形成することができる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can facilitate pattern formation of an interlayer insulation film having small leake current for a capaditor by photolithography.例文帳に追加

リーク電流が小さくフォトリソグラフィーによりキャパシタ用の層間絶縁膜を容易にパターン形成できる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The colored curable composition includes a colorant, inorganic particles, and a curable compound and is used for pattern formation by a dry etching method.例文帳に追加

着色剤、無機粒子、及び硬化性化合物を含み、ドライエッチング法によるパターン形成に用いられる着色硬化性組成物である。 - 特許庁

A resist pattern 7 is irradiated with VUV light 9 radiated from a light source 10 through a unit image formation optical system 11 and the mask 8.例文帳に追加

光源１０から放射されたＶＵＶ光９は、等倍結像光学系１１およびマスク８を介してレジストパターン７を照射する。 - 特許庁

PHOTORESIST MONOMER, PHOTORESIST COPOLYMER, PRODUCTION OF PHOTORESIST COPOLYMER, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト単量体、フォトレジスト共重合体、フォトレジスト共重合体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ—ン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

Continuously, the substrate S for the diffraction optical element is prepared, and a diffraction optical element pattern is drawn by electron beam exposure after resist film formation.例文帳に追加

続いて、この回折光学素子用の基板Ｓを用意し、レジスト成膜後に電子ビーム露光により回折光学素子パターンを描画する。 - 特許庁

For the polyisocyanate compound (12), an isophorone diisocyanate compound is preferable, and the pattern formation layer (13) is composed of ink using a polyurethane resin as a binder.例文帳に追加

ポリイソシアネート化合物（１２）はイソホロンジイソシアネート化合物が良く、絵柄形成層（１３）はポリウレタン樹脂をバインダーとするインキから形成される。 - 特許庁

RESIN COMPOSITION COMPRISING ORGANIC MOLECULE REVERSIBLY COLORED/DECOLORED BY QUANTUM BEAM IRRADIATION AND PHOTOIRRADIATION OR HEATING, AND NANO-PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

量子ビーム照射と光照射又は加熱により可逆的に着色／脱色する有機分子を含んだ樹脂組成物とナノパターン形成方法 - 特許庁

To provide a gradation mask that can control transmittance from 0% to 100% and facilitates pattern formation, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

透過率を０％から１００％の間で制御でき、かつ、パターン形成も容易な階調マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprinting template which can reduce the frequency of original template re-production, a method of manufacturing the imprinting template, and a pattern formation method.例文帳に追加

原版の再作成頻度を低減できるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To suppress formation of an Sn-rich AuSn compound on an interface when an Au bump electrode and a wiring pattern are joined together using Sn solder.例文帳に追加

Ａｕバンプ電極と配線パターンをＳｎはんだで接合する際に、界面にＳｎリッチがＡｕＳｎ化合物が形成されるのを抑制する。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board which has a filled via structure and is better for formation of a fine pattern and a small diameter blind via hole.例文帳に追加

フィルドビア構造を有し、微細パターン、小径ブラインドビアホールを形成するのに有利な多層プリント配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁

The metal toner and the carrier are combined to obtain the developer for formation of a conductive pattern having 3 to 30 μC/g charge amount of the metal toner.例文帳に追加

この金属トナーとキャリアとを組み合わせて、金属トナーの帯電量が３〜３０μＣ／ｇとなる導体パターン形成用の現像剤を得る。 - 特許庁

MANUFACTURING FACILITIES FOR SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN FORMATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME, AND PHOTORESIST FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURE TO WHICH THE FACILITY IS APPLIED例文帳に追加

半導体素子の製造装備、これを利用した半導体素子のパタ—ン形成方法及びこれを適用した半導体素子製造用フォトレジスト - 特許庁

After a storage node formation pattern 27 is formed before removing a resist 29, the ion implantation of an N-type impurity 30 is performed at an injection angle 0°.例文帳に追加

ストレージノード形成パターン２７の形成後、レジスト２９を除去する前に、Ｎ型不純物３０を注入角度０°でイオン注入する。 - 特許庁

In addition, the resist composition obtains a high resolution pattern since the dissolution speed is remarkably improved and can prevent substrate defect formation such as development inferiority.例文帳に追加

また、溶解速度が著しく向上することから高解像度なパターンが得られ、現像不良などの基板欠陥形成を防止できる。 - 特許庁

To arrange a light emitting region with a variety of patterns without relying on an arrangement pattern in the formation region of a TFT or the like in an organic EL display device.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置において、ＴＦＴ等の形成領域の配列パターンに依らずに、発光領域を多様なパターンで配置する。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method which restrains increase in cost, prevents lowering of process treatment capability and is superior in dimensional uniformity.例文帳に追加

コストの増加を抑え、工程処理能力の低下を防ぎ、寸法均一性に優れたレジストパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition, wherein a change in exposure amount is small in pattern formation before and after storage.例文帳に追加

本発明の目的は、保存の前後で、パターンを形成する際の露光量の変化が小さい着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To relate to novel methods for affecting, controlling and/or directing various crystal formation, structure formation or phase formation/phase change reaction pathways or systems by exposing one or more components in a crystallization reaction system to at least one spectral energy pattern.例文帳に追加

少なくとも１つのスペクトル・エネルギー・パタンに結晶化反応系の１つ以上の成分を曝露することによって、いろいろな結晶形成、構造形成又は相形成／相変化の反応経路又はシステムに影響を及ぼし、コントロールし、及び／又は導く新しい方法に関する。 - 特許庁

A dual damascene process in which distribution holes are formed prior to formation of distribution grooves is carried out using ArF lithography with a negative-working resist whose exposed area is made negative by lactonization reaction as a resist in formation of a distribution groove pattern.例文帳に追加

配線溝パターンを形成する際のレジストとして露光部がラクトン化反応によりネガ化するネガ型レジストを用い、ＡｒＦリソグラフィを使って、配線孔を配線溝に先だって形成するデュアルダマシン工程を行う。 - 特許庁

When the transfer unit 11 forms an image by transferring a predetermined toner pattern to the transfer belt 3, control is performed so that the speed of image formation is higher than the speed of image formation made by transferring to the transfer paper 2.例文帳に追加

転写器１１が所定のトナーパターンを転写ベルト３に転写して画像形成する場合は、その作像速度を、転写紙２に転写して画像形成する場合の作像速度よりも、速くする制御を行う。 - 特許庁

Further, when the whole composition is heat treated in film formation, it is adapted to a protective membrane or an insulation film of a semiconductor, a circuit substrate or the like which requires excellent heat, electrical and mechanical characteristics, and the pattern formation of the high resolution.例文帳に追加

また、全体組成物をフィルム化して熱処理した時、熱的、電気的、機械的特性が優れて高解像度のパタン形成を必要とする半導体、回路基板などの保護膜、絶縁膜として適合する。 - 特許庁

A third pattern device acts so as to selectively regulate a sinker so as to be at the first position targeting the formation of a short plush yarn loop, or the second position targeting formation of a long plush yarn loop.例文帳に追加

第３パターンデバイスは、少なくとも、短プラッシュ糸ループの形成を目的とした第１位置または長プラッシュ糸ループの生成を目的とした第２位置になるようにシンカを選択的に制御する働きをする。 - 特許庁

Or, a plurality of contacts may be arranged such that they are close to each other by the formation of the T-C boundary having a zigzag or other similar pattern reducing the possibility of the formation of a plurality of short-circuited subways.例文帳に追加

或いは、ジグザク又は他の類似パターンを有するＴ−Ｃ境界の形成により、短絡される複数のサブウェイの形成の可能性を低減しながら、複数のコンタクトを互いに接近して配置してもよい。 - 特許庁

To provide a pattern forming method which can form a pattern on a second layer by exposing while maintaining the pattern formed on a first layer by inactivating it for preventing it from becoming alkali soluble due to photosensing at the second exposing in a double exposing pattern formation.例文帳に追加

二重露光によるパターンニングにおいて、第一層目に形成されるパターンを不活性化させ、第二層目のパターン形成時における露光の際に、第一層目のパターンが感光してアルカリ可溶性とならず、第一層目のパターンを保持したまま第二層目のパターンを形成可能なパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide ink for conductor pattern formation, which can be stably ejected from a droplet ejection head and can prevent defective conduction from occurring on a formed conductor pattern, to provide the conductor pattern having high reliability, and to provide a wiring board which is provided with such a conductor pattern and has high reliability.例文帳に追加

液滴吐出ヘッドから安定して吐出することができるとともに、形成される導体パターンに導通不良が発生するのを防止することができる導体パターン形成用インクの提供、信頼性の高い導体パターンの提供、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供。 - 特許庁